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Submitted on 1 Jan 1961
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Préparation de lames minces dont l’épaisseur varie dans
une direction donnée suivant une loi linéaire
D. Fabre, H. Damany
To cite this version:
138
LETTRES
A
LA
RÉDACTION
PRÉPARATION
DE LAMES MINCES DONTL’ÉPAISSEUR
VARIE DANS UNE DIRECTIONDONNÉE
SUIVANT
UNE
LOILINÉAIRE
par D. FABRE et H.
DAMANY,
Laboratoire des Hautes Pressions, Bellevue.
LE JOURNAL DE PHYSIQUE ET LE RADIUM SUPPLÉMENT AU N° 6.
PHYSIQUE APPLIQUÉE TOME 22, JUIN 1961, PAGE 138 A.
On connaît l’intérêt que
présentent,
pour lesappli-cations
optiques,
les lames mincesd’épaisseur variable,
obtenues parévaporation
sous vide. Düiérentsdispo-sitifs sont utilisés pour leur obtention : rotation de la
pièce
à traiter devant un cache circulaire de forme convenable si la distributiond’épaisseur
recherchée estde révolution
[1], [2].
2013Mouvementrectiligne
uniforme d’un chariotportant
lapièce
à traiter dans le cas oùles
lignes d’égale épaisseur
doivent être des droitesparallèles
à une direction donnée[3].
Nous voulionsprécisément
obtenir une distributiond’épaisseur
de ce genre sur uneplaque
dont lalargeur
était assez faibledevant la
longueur
-pour fixer les
idées,
disons que laplaque
utilisée avait comme dimensions17 X 100 mm, les
lignes d’égale épaisseur
devant êtreparallèles
à lalargeur
de laplaque
et la variationd’épaisseur,
linéaire suivant lalongueur.
Nepouvant
FIG. 1. -
Vue d’ensemble du
dispositif.
utiliser facilement les
dispositifs qui
viennent d’êtrementionnés,
qui
étaienttrop
encombrants nous avonsréalisé un
dispositif
moinsparfait
maissimple
et de faible encombrement que nous avonsjugé
utile dedécrire
brièvement dansl’espoir qu’il
pourra servir àd’autres
applications.
Ce
dispositif (fig, 1)
comporte
essentiellement uncache A constitué par un tambour
cylindrique
d’assezgrand
diamètre - 150 mm -portant
des ouverturestriangulaires ;
l’axe de ce tambour est horizontal etsupporté
par unpalier
enbronze ;
un renvoi d’axe formé de deux engrenages et un passage tournant àjoint Wilson,
permettent
de commander la rotation du tambour del’extérieur,
soitmanuellement,
soit par unmoteur
synchrone.
Laplaque
à traiter B estplacée
àl’intérieur du tambour horizontalement et aussi
près
quepossible
de ce dernier. L’ensemble est solidaire de laplatine
Cqui
ferme un manchon de pyrexconsti-tuant l’enceinte à vide
(pour
les besoins de laphoto-graphie
laplatine
Creposait
sur unsupport
de boisD).
L’évaporateur
- unelongue gouttière
demolybdène,
situéeparallèlement
à laplaque,
en dessous dutam-bour,
donne sur toute laplaque,
en l’absence du cachecylindrique
uneépaisseur
sensiblement uniforme.Sous un faible
encombrement,
cedispositif
permet
de traiter des
plaques
d’assezgrande longueur.
Pour larégion
deplus grande épaisseur,
on voit facilement quele rendement de
l’évaporation
est élevé(50 %
dansnotre
cas).
Parcontre,
il est évident que lalargeur
de laplaque
doit êtrepetite
devant le diamètre ducylindre
pour que l’onpuisse
assimiler à unplan
laportion
deFie. 2. - Résultats des mesures
d’épaisseur,
en fonction de la distancelongitudinale,
d’undépôt
de fluorure demagnésium.
139 A
ce
cylindre
qui
se trouve vis-à-vis de laplaque.
Commele diamètre du
cylindre
est limité par les dimensions del’enceinte à
vide,
il en résulte une limitation de lalargeur
de laplaque
qui
peut
êtregênante
pourcer-taines
applications. Remarquons
enfin que c’est le cachequi
est mobile et laplaque
à traitér fixe. Pour que leslignes
d’égale
épaisseur
soient bienparallèles
à la direction
choisie, il
est donc absolument nécessaire quel’évaporation donne,
sur laplaque,
en l’absence ducache,
ou bien undépôt
uniforme,
ou bien undépôt
nonuniforme,
maispossédant
lasymétrie
recherchée.Dans ce dernier cas, il faudra
apporter
à la forme desouvertures des corrections pour tenir
compte
descaracté-ristiques
del’évaporateur,
si l’on veut encore obtenirune distribution linéaire. Le
dispositif
du chariotmobile
[3]
neprésente
pas cet inconvénient.Ces restrictions ne
jouaient
pas dans le casqui
nousintéressait,
et lafigure
2 montre le résultat des mesuresd’épaisseur
effectuées sur uneplaque
recouverte de fluorure demagnésium.
La vitesse de rotation ducylindre
était d’environ un tour parseconde ;
ladis-tance de
l’évaporateur
à laplaque
était de 18 cm. Nous avons mesuré lesépaisseurs
par interférométriémul-tiple [4],
après
recouvrement de la totalité de laplaque
par une couched’argent évaporée.
Onconstate,
à laprécision
des mesures(30
à 50A)
que la variationd’épaisseur
est bien linéaire. On remarque que vers lesgrandes
épaisseurs,
l’épaisseur
ne tombe pasbruta-lement à
zéro,
par suite del’étendue
de l’évaporateur.
Vers les faiblesépaisseurs,
laprécision
des mesures nepermet
pas deprolonger
la courbe.Lettre reçue le 7 mars 1961.
BIBLIOGRAPHIE
[1] STRONG,
ModernPhysical Laboratory Practice, 180.
[2]
SCHULTZ,
J. Opt. Soc. Amer., 1948, 38, 432.[3]
JACQUINOT,
J.Physique
Rad., 1960,11,
361.[4]
TOLANSKY,Multiple-beam Interferometry,
147.ALIMENTATION
RÉGULARISÉE
POUR FLASHES
ÉLECTRONIQUES
ParJacques
MILLIARD,
Laboratoire de
Physique Corpusculaire,
Faculté des Sciences de Caen.Le condensateur d’accumulation d’un flash
électro-nique
est habituellementchargé
jusqu’à
la tension maximum fournie par le transformateur haute tension. Cetteméthode,
trèssimple,
présente
plusieurs
incon-vénients :1)
Il estimpossible
derégler
la tension decharge
ducondensateur,
donc derégler l’énergie
de l’éclair.2)
Lacharge
étantexponentielle,
il faut untemps
relativement
long
pour que le condensateur soitchargé
à la tension maximum et ceci
quel
que soit ledébit.
du redresseur : il est doncimpossible
decharger
rapide-’
ment le condensateur.
3)
La tension decharge
pouvant
atteindre la tension maximum fournie par le transformateur H.T.,
il estnécessaire de
prévoir
un condensateur dont la tensionde service soit au moins
égale
à cette tensionmaximum,
même si dans lamajorité
des cas on déclanche l’éclairavant que le condensateur soit
complètement
chargé.
Le
montage
proposé permet pratiquement
d’éviterces inconvénients.
Principe
dumontage
proposé.
- Oncharge
lecon-densateur d’accumulation avec un redresseur donnant
une H. T.
supérieure
aux besoins et on arrête lacharge
lorsque
la tension aux bornes du condensateur atteint une valeur déterminée. Unthyratron
assure cetasser-vissement
et rend la tension decharge
indépendante
des variations duréseau
d’alimentation.Description
dumontage
( fig.1),
- Lecondensateur
d’accumulation C est
chargé
à travers la résistancede
protection R
par un redresseurclassique
montéarma-ture
positive
à la masse. Cemontage,
en mettantla
cathode de la valve H. T. à la masse,
permet
de la chauffer par un transformateur sans isolementspécial.
Un diviseurpotentiométrique à, résistance
permet
deprendre
u’nepetite
fraction de la tension du condensateur C pourl’envoyer
sur lagrille
decom-mande d’un
thyratron
2 D 21. L’anode de cethyratron
est alimentée en alternatif sous 300 volts efficaces en
série avec la bobine d’un relais
électromagnétique
etune résistance de
protection
R4.
Un condensateur de2
VF
aux bornes de la bobine du relais limite la vibra-tion de l’armature à lafréquence
du réseau. Ce relais commande deux circuitsqui
s’établissentlorsque
le relais est excité. Un de ces circuits alimente leprimaire
du transformateur H. T. Le second circuit court-cir-cuite la résistance
variable
R3.
Si nous nousreportons
à la
caractéristique d’amorçage
duthyratron
2 D 21(fig.
2),
nous voyons que pour une tensionplaque
de300
/2
= 425 voltsl’amorçage
duthyratron
sepro-duira pour une tension
grille
de -2,9 volts,
lagrille
écran étant au
potentiel
zéro.Lorsque
leconden-sateur C est
déchargé,
la tensionappliquée
sur lagrille
de commande du
thyratron
est nulle et celui-ci s’amorceà.
chaque
période,
cequi
provoquel’excitation
du relais. La résistanceR3
est alors court-circuitée et leprimaire
du transformateur H. T. alimenté. Leconden-sateur C se
charge. Lorsque
le condensateur C estsuffisamment
chargé
pour que la tensionappliquée
surla
grille
de commande duthyratron atteigne
- 2,9 yolts,
celui-ci ne s’amorceplus,
cequi
provoquela désexcitation du relais. La résistance
R3
est mise encircuit et l’alimentation du
primaire
dutransfor-mateur H. T.
interrompue.
La commutation de larésis-tance
R3
permet
d’assurer la stabilité dusystème.
Lorsqu’elle
est mise enservice,
elleaugmente
légè-rement la tension
négative
appliquée
sur lagrille
de commande duthyratron,
et inversementlorsqu’elle
estcourt-circuitée. La
figure
3 donne la tension sur lagrille
de commande duthyratron
en fonction dutemps.
Sans cettecommutation,
on a une oscillationpermanente
durelais,
cequi
amène une usure trèsrapide
des contacts. Deplus
cette résistance déter-mine l’écart entre la tensiond’amorçage
et la tension dedésamorçage
duthyratron,
c’est-à-direqu’elle
per-met de
régler
la tolérance sur la tension decharge
du condensateur d’accumulation.Il faut choisir la résistance de
protection
R4
defaçon
qu’elle
permette
l’excitation du relaislorsque
l’amorçage
duthyratron
se fait au sommet de lasinu-soïde
(fig.
2 enA).
Dans cesconditions,
le courant necircule que
pendant
unquart
depériode,
cequi
corres-’
