Partie II Pi´ egeage dipolaire 75
Chapitre 5 Caract´ erisation optique des structures utilis´ ees 95
5.2 Dispositif exp´erimental
5.2.1 Sch´ema
Le dispositif exp´erimental est repr´esent´e sur la Figure 5.2. La structure ´etudi´ee, au centre de
la figure, diffracte le faisceau laser incident. Une lame de verre d´epolie est plac´ee dans le champ
issu de la structure, parall`element `a celle-ci. Chaque point du d´epoli va alors diffuser une
intensit´e lumineuse proportionnelle `a l’intensit´e qui l’´eclaire. Un ensemble optique constitu´e
d’un objectif de microscope et d’une lentille f3 fait l’image du d´epoli sur une cam´era CCD.
Celle-ci enregistre donc l’intensit´e lumineuse dans le plan du d´epoli, soit un plan (u,v,w=w0)
parall`ele `a la structure. Une translation manuelle microm´etrique de 25 mm de course permet
de d´eplacer finement le d´epoli orthogonalement `a la surface (selon l’axeOw). On obtient alors
successivement une cartographie tri-dimensionnelle de l’intensit´e diffract´ee par la structure.
La diode laser utilis´ee pour cette exp´erience est asservie dans un pic d’absorption satur´ee,
comme pr´esent´e dans la section 2.2.1. Le but n’est pas ici de s’affranchir des fluctuations de
fr´equences, sans cons´equences ici. Il est d’´eviter les sauts de modes de la diode, et les variations
brutales d’intensit´e r´esultantes.
De plus, l’onde issue de cette diode est spatialement filtr´ee par une fibre monomode. Sa
polarisation est contrˆol´ee grˆace `a un cube polariseur suivi d’une lame λ/2. Un t´elescope, non
repr´esent´e sur la Figure 5.2, permet enfin d’obtenir le diam`etre de faisceau d´esir´e sur la structure.
f
3u, vPZT
laser
monomode
fibre
CCD
Diode
λ/2
d´epoli
structure
w
Fig. 5.2: Sch´ema du dispositif de caract´erisation optique des figures
d’in-terf´erences. Le plan (u, v) est orthogonal `a l’axe optique, et l’axe w lui est
parall`ele.
5.2.2 Param`etres
Lentilles d’imagerie
Le sch´ema optique du syst`eme d’imagerie est pr´ecis´e sur la Figure 5.3. L’objet est le d´epoli,
et la cam´era CCD est plac´ee dans le plan image.
Comme nous l’avons vu dans la section 2.4 sur l’imagerie du PMOM, la taille de la tˆache
de diffraction est un param`etre important `a prendre en compte pour une imagerie r´esolue.
L’ouverture num´erique des lentilles de Fresnel que nous utilisons est typiquement de 0,2. Pour
ne pas ˆetre limit´e par l’ouverture num´erique de notre syst`eme optique, nous utilisons un objectif
de microscope M Plan Apo 10× Mitutoyo, d’ouverture num´erique 0,28. Sa focale fobj est de
20 mm, et il est corrig´e `a l’infini. Si le syst`eme optique est limit´e par diffraction, le plus petit
d´etail observable est estim´e de l’ordre de 1,5 µm.
fobj f3
fobj
f3
objet
image
Fig. 5.3: Sch´ema optique du syst`eme d’imagerie.
La cam´era que nous utilisons ici est une cam´era Princeton LN/CCD-512SB/1, dont les
pixels font 24×24 µm
2. Nous choisissons alors une lentille f3 de longueur focale de 200 mm,
afin d’obtenir un grandissement total d’environ 10. La taille de la tˆache de diffraction sur la
cam´era est ainsi l´eg`erement inf´erieure `a la taille d’un pixel. Le diam`etre de la lentille est de
50 mm, sup´erieur au diam`etre de sortie du microscope (34 mm) pour ne pas limiter l’ouverture
num´erique de celui-ci.
L’objectif de microscope est fix´e sur la mˆeme translation que le d´epoli. L’objet reste alors
dans son plan focal lors de son d´eplacement. L’image qu’il produit ´etant `a l’infini, la lentillef3
et la cam´era sont fixes.
Modulation du d´epoli
La source lumineuse utilis´ee ´etant coh´erente, des tavelures sont observ´ees dans les images
prises. De plus, la rugosit´e du d´epoli induit, mˆeme en ´eclairage incoh´erent, une ´emission non
isotrope de chaque point du d´epoli. La Figure 5.4 (a) montre par exemple l’image d’un faisceau
laser d’environ 1 mm de diam`etre en l’absence de structure. On y observe une modulation haute
fr´equence due `a ces deux ph´enom`enes.
(a) Sans pi´ezo (b) Avec pi´ezo
Fig. 5.4: Faisceau laser incident (sans structure), d’environ 1 mm de
dia-m`etre. A droite, le d´epoli est d´eplac´e pendant l’acquisition pour ´eliminer les
modulations haute fr´equence de l’intensit´e.
Pour les ´eliminer, nous avons mont´e le d´epoli sur une translation pi´ezo-´electrique deux-axes
PI 731.20 (cf. Figure 5.2). Celle-ci permet de d´eplacer le diffuseur dans le plan (u, v, w=w0)
pendant l’acquisition de la CCD, et d’obtenir ainsi une image liss´ee (cf. Figure 5.4 (b)).
L’amplitude des mouvements du d´epoli est typiquement de 100 µm. La fr´equence de
modu-lation est choisie de l’ordre de 10 `a 20 Hz afin de limiter les vibrations du syst`eme d’imagerie
induites par ce mouvement.
Cette fr´equence est en fait l´eg`erement diff´erente selon les deux axes de translation (fu ≃
13 Hz, fv ≃15 Hz). Le rapport des fr´equences est fix´e `a une valeur non proche d’un rationnel
`a petits num´erateur et d´enominateur. Ainsi, la quasi-p´eriode est longue et chaque point du
diffuseur se d´eplace de fa¸con homog`ene dans son aire d’excursion.
La dur´ee d’exposition est prise grande devant ces fr´equences de modulation, pour obtenir
une moyenne. Elle est typiquement de 10 s.
Intensit´e laser
La dur´ee d’exposition ´etant fix´ee, nous choisissons l’intensit´e laser de fa¸con `a utiliser au
mieux le convertisseur 16 bits de la cam´era, sans le saturer.
Afin de limiter les lumi`eres parasites, la partie du banc optique qui va du microscope jusqu’`a
la cam´era est recouverte d’un film opaque. Apr`es soustraction du fond, la reproductibilit´e des
images en l’absence de laser est de ±10 coups, pour une moyenne de 4.10
4L’obtention des cartographies d’intensit´e diffract´ee n´ecessite que le substrat et le d´epoli
soient parall`eles entre eux, et orthogonaux `a l’axe du banc optique.
5.2.3 Proc´edure de r´eglage
Pour aligner le syst`eme optique, nous prenons comme r´ef´erence l’axe du laser incident
col-limat´e, qui mat´erialise l’axe optique. Nous effectuons ensuite la proc´edure suivante :
1. l’objectif de microscope, puis la lentille f3, sont positionn´es de fa¸con `a minimiser la
d´e-viation du laser incident ;
2. l’objectif de microscope est alors d´eviss´e. La cam´era est plac´ee dans le plan image de la
lentille f3, et l’objectif replac´e ;
3. le d´epoli est plac´e devant l’objectif du microscope ;
4. la mise au point de l’objectif sur le d´epoli est finement r´egl´ee par une translation
sup-pl´ementaire, de fa¸con `a minimiser la taille des plus petits d´etails sur la cam´era. Leur
dimension est alors de l’ordre de 2 pixels `a mi-hauteur ;
5. le miroir sur lequel sont grav´ees les structures est mis en place, orthogonalement au laser
incident grˆace `a sa r´eflection sur la partie m´etallique ;
6. le parall´elisme du d´epoli avec miroir est alors r´egl´e “`a l’oeil” en les rapprochant
progres-sivement grˆace `a la translation microm´etrique de la Figure 5.2 et en les regardant de
profil ;
7. on optimise finalement l’angle d´epoli/miroir en rapprochant d´elicatement le d´epoli en
suivant l’image d’une structure sur la cam´era. Lorsque l’on est au contact, l’image se
d´eplace de quelques microns (le mouvement lat´eral du d´epoli doit ˆetre ´eteint !).
8. on retouche l´eg`erement le parall´elisme, et on r´eit`ere au point 7.
L’angle entre le d´epoli et le miroir sur lequel est grav´e la structure est le param`etre critique
de ce r´eglage. En effet, tous deux ont une taille de 25 mm, et un angle de 10 mrad empˆeche
donc de rapprocher le d´epoli `a moins de 250µm du miroir. Nous verrons dans la partie suivante
une lentille de longueur focale 100µm, dont le plan focal ne pourrait alors pas ˆetre imag´e. Pour
cette mˆeme raison, il est n´ecessaire que la partie m´etallique du miroir soit du cˆot´e du diffuseur,
et que la surface d´epolie de la lame de verre soit du cˆot´e du miroir.
Ce point de la proc´edure devra ˆetre am´elior´e si l’on souhaite imager les premi`eres dizaines
de microns. On pourra par exemple utiliser un substrat de diam`etre plus petit, d´epoli en son
centre et m´etallis´e en p´eriph´erie. Cette partie m´etallis´ee permettrait de r´etro-r´efl´echir le faisceau
incident et d’am´eliorer ainsi la pr´ecision de l’alignement.
D’autre part, la translation de l’ensemble d´epoli-objectif (Figure 5.2) n’est pas parfaitement
align´ee avec l’axe optique. En cons´equence, le centre des images de diffraction se d´eplace d’une
dizaine de microns lorsque l’on d´eplace le d´epoli sur quelques millim`etres. Cet effet est corrig´e
lors du traitement des images par un recentrage pour chaque plan.
5.2.4 Etalonnage du syst`´ eme d’imagerie
Nous avons ´etalonn´e le grandissement du syst`eme d’imagerie en utilisant un r´eseau de pas
connu (267 µm). Nous trouvons alors un facteur d’´echelle de 2,43±0,02µm/pixel.
Le syst`eme d’imagerie r´egl´e, les valeurs des param`etres fix´es et l’´etalonnage r´ealis´e, nous
pouvons alors mesurer le champ diffract´e par une structure.
Dans le document
Manipulation d'atomes froids par des puces atomiques optiques
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