Etude de la variation de la résistivité des couches minces de platine en fonction de leur épaisseur et de l'influence des corps oxygénés sur de semblables resistances

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Etude de la variation de la résistivité des couches minces de platine en fonction de leur épaisseur et de l’influence

des corps oxygénés sur de semblables resistances

André Féry

To cite this version:

André Féry. Etude de la variation de la résistivité des couches minces de platine en fonction de leur

épaisseur et de l’influence des corps oxygénés sur de semblables resistances. J. Phys. Radium, 1928,

9 (1), pp.38-48. �10.1051/jphysrad:019280090103800�. �jpa-00205318�

ETUDE DE LA VARIATION DE LA RÉSISTIVITÉ DES COUCHES MINCES DE PLATINE EN FONCTION DE LEUR ÉPAISSEUR ^ET DE L’INFLUENCE DES CORPS

OXYGÉNÉS SUR DE SEMBLABLES RESISTANCES par M. ANDRÉ FÉRY.

Sommaire. 2014 Les projections cathodiques fournissant un moyen commode d’obtenir des couches métalliques minces, nous nous sommes servi de semblables dépôts pour étu- dier la variation de la résistivité du platine ^en fonction de l’épaisseur ^{de la} projection.

Nous établîmes d’abord la relation linéaire a=63,4 X D ^liant l’épaisseur ^{a de la couche}

de platine exprimée ^en millimicrons (1 m03BC.

10-7 cm) à sa densité optique ^{D. Par la} suite,

nous pûmes ainsi déterminer les épaisseurs ^{de nos} dépôts ^en mesurant leur opacité ^au microphotomètre.

La vapeur d’eau ayant ^{une influence} prépondérante ^sur la résistance électrique ^de

ces projections, ^{nous dûmes} prendre, pour les construire. les mêmes précautions que celles que l’on prend ordinairement dans la construction des lampes ^de radiotélégraphie, ^Nous

obtînmes ainsi des résistances qui restèrent stables pendant plus ^{d’un an. De} plus, pour les épaisseurs considérées (comprises ^entre 4,4 m03BC et 243 m03BC.) la résistivité _p des dépôts varie considérablement avec l’épaisseur ^a suivant la loi numérique

log (10503C1)

5,7 ^- 0,0156 ^a

dans laquelle ^a est mesuré en m03BC et 03C1 ^en ohms-cm. Il semble que les dépôts reprennent ^la résistivité du métal à partir ^d’une épaisseur voisine de 366 m03BC.

Nous étudiâmes ensuite l’influence de la vapeur d’eau : ^une adsorption de vapeur d’eau par la projection ^{de Pt} augmente considérablement la résistance de cette couche.

Nous comparâmes alors l’action de vapeurs de corps oxygénés (SO2, CH3OH) analogues ^au point ^{de vue} électrique ^{à l’eau} (grand pouvoir ^inducteur spécifique, dipôle ^de grand

moment électrique), ^sur des couches de même épaisseur (5 m03BC,) ^et de même résistance (7 mégohms). ^{Nous nous} aperçûmes que l’adsorption de ces vapeurs avait la même influence que celle de la vapeur d’eau, mais que les accroissements étaient inégaux. Les valeurs maxima atteintes se rangeaient ^dans l’ordre des pouvoirs inducteurs spécifiques ^des

vapeurs ^à la température considérée.

Deux hypothèses pouvaient alors être admises pour interpréter ^ces résultats La pre- mière consistait à admettre que le dépôt n’était pas homogène, continu et que les parti-

cules étaient séparées par des fissures disposées arbitrairement. Nous n’aurions pas eu, dans ce cas, des résultats comparables ^et l’action des vapeurs aurait été inexplicable. ^La

deuxième consistait à supposer que, pour de faibles épaisseurs (comprises entre 11 et 600 diamètres atomiques, ^le dépôt ^n’a plus ^{la même} structure interne que le métal ^com- pacl. ^{Un effet de} surface, insensible pour ^des épaisseurs notables, ^devient apparent lorsque l’épaisseur ^se rapproche des dimensions réticulaires du réseau cristallin du métal.

Enfin. la forme exponentielle de la loi montre que l’action déformatrice, dans les limites

d’épaisseurs ^étudiées ici, n’est pas localisée dans deux couches d’épaisseur constante, ^lais- sant entre elles un métal d’épaisseur variable, ayant ^les propriétés ^{du métal} compact, mais que, même pour ^une épaisseur ^{de 600} atomes, ^cette action déformatrice s’exerce

jusqu’au centre de la couche.

1. Introduction. - Les projections cathodiques fournissent un moyen commode d’obtenir dwsidépôts métalliques d’épaisseur variable à volonté. Aussi nous sommes-nous

proposé d’utiliser ^ces dépôts pour ^mesurer la variation de la résistivité du platine ^avec Yépais;eur de la couche métallique. ^{Les deux} questions fondamentales à résoudre consis- taient donc dans la détermination de l’épaisseur ^{de ces} couches minces et dans l’obtention de résistances constantes.

2. Détermination de l’épaisseur des couches minces de platine.

Considérons

un faisceau monochromatique d’intensité Io qui ^tombe normalement sur un dépôt ^de platine d’épaisseur ^la sortie, l’intensité est réduite à Ii ^{et l’on a}

1.jk étant le coefficient d’absorption ^du platine pour la radiation considérée.

Article published online by EDP Sciences and available at http://dx.doi.org/10.1051/jphysrad:019280090103800

En appelant ^densité optique ^D l’expression

nous voyons qu’il doit exister une relation linéaire entre l’épaisseur ^du dépôt ^{et sa densité} optique, ^dans l’hypothèse ^{où les} propriétés optiques ^ne dépendent pas de l’épaisseur.

Pour vérifier cette constance et déterminer _a, nous avons utilisé la méthode suivante : -.

ayant ^{fait un} dépôt d’épaisseur ^{uniforme sur une} plaque ^{de verre} ultra-miuce de superficie

connue S, ^{nous avons} déterminé, ^{à l’aide d’une} microbalance, ^la masse p ^{du métal} déposé

et avons eu immédiatement l’épaisseur ^a par la relation

(if,4 ⁼ densité du platine martelé).

La densité optique correspondante était ensuite mesurée au microphotomètre ^de Fabry.

Pour la commodité et l’exactitude des _mesures, il convient de rendre p ^le plus grand possible, c’est-à-dire, ^à épaisseur constante, d’accroître la surface des dépôts. ^{Les lames}

ultra-minces utilisées avaient, ^en moyenne, 5 ^{cm X 5 cm. D’autre} part, ^le dépôt ^{doit être} homogène ; il faut le produire ^{sur un} support soigneusement nettoyé, ^{d’abord aux} vapeurs nitreuses (acide azotique ^fumant réduit par quelques gouttes d’alcool à 95"), puis ^{à l’eau} distillée, ^{ensuite à} l’ammoniaque ^{et de nouveau} a l’eau distillée. Nous déposions ^{ensuite la} lame, ^toute mouillée, ^{sur un} support ^{de verre} reposant ^{sur un} cristallisoir. Ce dernier conte- nait de l’anhydride phosphorique ^{et était} supporté par trois cales. Dans tous les nettoyages,

la lame était manipulée à l’aide de supports ^{de verre} bien pro- près ^et n’était pas saisie ^avec les doigts.

Enfin, le tout était posé ^{sur une dalle de verre rodée au tra-}

vers de laquelle passait ^une tiga de laiton servant d’anode (fig. 1).

Une cloche de verre rodée sur la dalle recouvrait l’ensemble et était reliée _par une canalisation de verre à une pompe ^double à palettes. Un fil de platine traversait la partie supérieure ^{de la}

cloche et se terminait par ^un crochet d’aluminium entouré par

un tube de verre et relié à la cathode. Celle-ci était constituée par ^une feuille due platine recouvrant un disque d’aluminium de 8 cm de diamètre, ^et elle était séparée ^{de la} plaque ^{devant re-}

oev oir la projection par ^une distance de 2,5 ^{cm. De} plus, ^la partie supérieure de cette cathode était protégée par ^une lame de mica,

pour concentrer la décharge ^{sur la} partie inférieure.

Cette décharge ^était produite par ^un petit transformateur donnant 4 000 v au secondaire. Un kenotron redressait le cou-

rant du circuit et un vide de 0,01 ^{mm de mercure donnait ion} Fig. ^1.

espace obscur de Ilittorf de 1,5 ^cm environ.

Nous avons pu ainsi obtenir des dépôts d’épaisseur ^{uniforme sur une} superficie ^de

cIn2 en moyenne et, ^{en nous} plaçant dans les mêmes conditions de décharge, ^{nous n’avons}

eu qu’à faire varier les temps ^de projection pour avoir des plaques d’épaisseurs différentes.

Ces plaques ^{ont été ensuite} pesées soigneusement ^à l’aide d’une microbalance (à 0,00J mg près comme erreur absolue). ^{Comme nous} avions déterminé auparavant ^{la masse} (en moyenne 680 mg) ^{de la} plaque ^{recevant le} dépôt, nous avons pu ainsi connaître par différence la masse de chaque projection (à 0,01 mg près ^{comme erreur} absolue). ^La poussée

crArchirnède n’intervient _pas ici, le corps étant ^en platine ^{comme les} poids ^{servant aux}

mesures.

Comme la superficie 8 ^{de la} plaque pouvait être déterminée avec toute la précision voulue, ^{1 erreur relative} da _commise sur l’paIssent’ ^{a était} égale ^{à celle} - commise sur

a p

la pesée.

Puis nous avons mesuré la densité optique correspondante de ^{chacun de ces} dépôts ^en

utilisant la raie verte du ^{mercure X}

5460 ~~. Après chaque ^{mesure, nous avons eu soin de}

retrancher de la valeur trouvée directement, ^la densité de la lame de verre supportant ^le dépôt. La densité optique ^{de la} projection était alors déterminée à O,Ui près ^{comme erreur}

absolue.

Nous avons pu réunir ainsi les valeurs correspondantes portées dans le tableau 1.

TABLEAU 1.

i’est-à-dire _que nous avons bien une relation linéaire (fig. 2) a

63,4 X D, ^{où a est}

donné en m~ (10-7 cm).

L’erreur commise sur k est négligeable. ^En effet, ^calculons l’erreur relative commise

sur l’épaisseur ^d’un dépôt ayant ^{comme densité} optique 0,3. ^{Nous avons}

Donc pour les faibles épaisseurs ((es ^seules qui ^nous intéressent), ^la première ^{erreur est}

bien négligeable vis-à-vis de la deuxième.

Nous pouvons ^mesurer ainsi les épaisseurs ^{de nos} dépôts ^{en mesurant} simplement

leur densité optique correspondante, ^{et en} commettant la même erreur relative que celle commise sur ces mesures optiques.

3. Obtention de résistances stables. - Au début, nous avons voulu mesurer la résistance électrique ^d’un dépôt ^de platine compris entre deux dépôts beaucoup plus épais

faits préalablement (fig. 3). Ces deux électrodes étaient serrées par deux pinces ^{dont les}

mâchoires étaient entourées de pa-

pier d’étain. La résistance n’était pas stable, ^et variait d’une façon

arbitraire. L’ayant replacée ^{sous la}

cloche précédemment ^{décrite et}

dans le vide en présence ^de

nous nous aperçûmes, ^{en mesurant}

cette résistance dans ces conditions,

qu’elle ^{diminuait de valeur} graduellement : ^{en trois} jours, elle passa d’une façon ^continue

de 20 000 ohms à 700 ohms. La projection métallique avait donc adsorbé de la vapeur d’eau et gelle-ci se vaporisait ^sous l’influence du vide pour être absorbée _par P%05.

Inversement, ^nous introduisîmes de la vapeur d’eau dans la cloche et la résistance, ^de

nouveau, augmenta rapidement. Le facteur prépondérant pour la variation de résistance

électrique ^{de ces} dépôts ^est donc la vapeur d’eau.

Fig. ^5.

Aussi fallait il s’en débarrasser. Voici le dispositif que ^nous employàmea pour cela par la suite : une plaque ^{de verre} rectangulaire ^{(18 cm X 2 cm)} était recouverte par ionoplastie

de deux électrodes d’or (1) (3 ^{000 fois} plus épaisses que les dépôts ^de platine ^{dont nous}

voulions mesurer la résistivité) ^entre lesquelles ^était disposé ^un espace libre de ^t cm tlevant recevoir la projection ^de platiae (fig. 4). ^{Sur ces} plages d’or, ^nous disposions des feuilles

d’argent ^{très minces sur} lesquelles ^venaient s’appliquer ^{deux ressorts de nickel} ayant

chacun un fil de platine ^{soudé à} l’argent ^{à son extrémité} (fig. 5). ^{Puis le tout} était introduit dans un tube de cristal de Choisy ^{de 4 cm de} diamètre de façon que la lame repose ^sur deux supports ^de mica et que la plage ^libre soit située en face d’un fil de platine ^{C soudé au} préalable dans le tube. Ce fil C devait servir de cathode dans la projection. Enfin, ^{ce tube}

(l) L’or donne une ionoplastie beaucoup plus rapide que le platine.

était scellé aux deux extrémités, ^ne laissant le passage qu’aux ^{fils de} platine ^{Ai et -§a ser-}

vant d’électrodes. Nous pouvions faire le vide au moyen d’un tube latéral relié à ^un robinet R et à un autre tube P contenant de l’anhydride phosphorique.

Pour dessécher le tout, ^nous introduisions ce tube dans un four électrique ^{et nous}

faisions quatre chauffes de quatre heures chacune : deux à la pression atmosphérique,

deux autres en faisant le vide. Pour cela, le robinet R était soudé à une canalisation de

verre soigneusement desséchée par des ampoules ^à anhydride phosphorique.

Puis l’anhydride phosphorique du tube P’ était lui aussi chauffé jusqu’à sublimation pour le débarrasser de ^ses impuretés ^et le robinet R était enfin fermé.

La projection était faite ensuite, la cathode étant le fil C et l’anode étant constituée par les deux fils A,, A2, ^{et les deux ressorts} correspondants. ^{Nous avons} ainsi obtenu des.

résistances qui, conservées sous le vide, n’ont pas varié de 0,005 comme erreur relative

pendant ^{douze mois ; ces} résistances, ^à chaque ^mesure, étaient ramenés à la même

température.

4. Variation de la résistivité avec l’épaisseur ^{de la couche} métallique. - ^Nous

brisâmes ensuite les tubes et déterminâmes l’épaisseur ^{« de ces} projections ^de platine ^en

mesurant leur densité optique.

En appelant ^{1 et 1.¿ la} largeur ^{et la} longueur ^d’une projection de résistance /1, ^nous

eûmes la résistivité c par la relation

Le tableau II nous donne les résultats ainsi obtenus (’).

TABLEAU II.

(1) Depuis la remise du manuscrit, nous avons obtenu les points ^suivants qui confirment on ne peut mieux la loi

exponentielle :

1os effort tendent actuellcment à l’étude particulière du ra.t>ortl entre cette zone exponentielle ^{et le}

mé l a compact.

Nous avons alors les deux courbes suivantes (fig. 6 et ’7): ^la première (fig. 6) ^est

obtenue en portant ^en ordonnées les valeurs de p et ^en abscisses les épaisseurs correspon- dantes (jusqu’à ³² iny) ; ^l’autre (fig. 7), ^se rapportant à toutes les épaisseurs, est obtenue en

Fig. 6.

portant ^{en ordonnées} log [105 p] (avec ^cette échelle, po ⁼ 0) ^{et. en abcisses les} épaisseurs correspondantes. Il semble que les dépôts reprennent la résistivité du métal pour ^une

épaisseur voisine de 366 m y, mais, pour cette valeur, la courbe doit probablement ^{se rac-}

1

1

7.

corder tangeniellement ^{avec l’axe des x.} Malheureusement, il semble difficile d’obtenir des

précisions dans cette région, l’opacité ^devenant trop ^{forte et ne se} prêtant plus ^aux

mesures (1).

L’erreur relative commise sur p est égale à celle commise sur a. En effet, ^on peut ^mesurer

avec toute l’approximation voulue les autres dimensions de ce dépôt ^{et sa résistance} électrique.

1’ ) ^On peut cependant tourner la difficulté en mesurant directement Fcpaisseur ^du dépôt par ^une pesée.

Pour les faibles dépôts, l’erreur commise sera assez grande puisque L est alors faible

On voit aisément que, pour les épaisseurs considérées, comprises ^entre 4,4 inp. ^et 343 m p , la résistivité varie considérablement ^avec l’épaisseur, suivant la loi numérique :

dans laquelle ^{x est mesuré en mli. et} p ^est donné en ohms-cm. Cette formule ne doit plus

avoir aucune signification pour les fortes épaisseurs (au-dessus ^{de 300 m} ~), puisque ^la

droite doit se raccorder sans coude brusque ^{à l’axe des x.}

5. Influence des corps oxygénés ^{sur de} semblables résistances. - Nous avons

déjà ^vu que la vapeur avait ^une grande ^{influence sur la} résistance électrique ^{de ces couches}

minces. Ainsi, ^{une fissure se} produisit dans deux de nos tubes (à l’une des soudures de

platine), provoquant dans chacun d’eux, après ^la projection, ^une petite ^{entrée d’air humide.}

Irnmédiatement, ^ces deux résistances augmentèrent ^{avec le} temps ^comme le montrent les valeurs portées dans le tableau III et traduites par les courbes 1 et II de la figure ^8.

TABLEAU III.

Inversement, ^{un autre} de nos tubes, mal desséché initialement (chauffes ^{à 230" au lieu} tle 300°) acheva de le faire après ^la projection : la vapeur d’eau fixée par le dépôt ^s’élimina

peu à peu ^et fut absorbée par Cette résistance baissa alors et tendit vers la valeur

qu’elle aurait dû avoir si la dessiccation avait été bien faite. Nous avons obtenu les valeurs

portées ^dans le tableau IV et sur la courbe III (fig. 8).

Voyant cela, ^nous fîmes trois dépôts ^{de même} épaisseur (5 ^et de même résistance

( î mégohmsl, ^{et nous} fîmes absorber au premier de la vapeur d’eau ; ^ou second, de la vapeur

-

_

j

d’alcool méthylique anhydre, ^et enfin, ^au troisième, du gaz sulfureux anhydre. ^{De cette} façon

nous avions d’une part ^{des couches} métalliques ^très minces, ^de façon que l’influence LI e

l’adsorption, ^d’autant plus grande que l’épaisseur ^est plus petite, soit nettement caractérisée et d’autre part, trois corps oxygénés ^« analogues ^{» au} point ^{de vue} électrique (grand pouvoir

inducteur spécifique, dipôles de moment électrique ^{élevé comme,} d’ailleurs, ^{tous ceux}

des corps oxygénés). Nous devions alors avoir des phénomènes comparables.

a) introduction de S02 _gazeux.

Nous nous servimes pour cela du dispositif ^sui-

vant (fig. 9) : ^{un courant de 802} passait d’abord dans un barboteur à huile de transfor-

Fi.9.

mateur nous permettant ^d’en régler ^le débit, puis ^{sur un} tube à dessiccation contenant de

l’anhydride phosphorique. Il était ensuite introduit dans la canalisation soigneusement

desséchée (ampoules ^à et finalement rejeté. Avant d’introduire ce gaz ^sur la résis- tance (c’est-à-dire ^d’ouvrir R) ^nous vidâmes ainsi la moitié du siphon de 1 litre plein ^{de 802} liquide, ^de façon à être certains d’avoir affaire à de l’anhydride sulfureux pur. Puis ^nous ouvrimes R (en ayant ^{eu soin de fermer o et r‘ au} préalable),et introduisîmes ainsi SOI ^sur

notre résistance qui ^{était sous le vide.}

b) Introduction de la d’alcool lJ1éthylique anhydre (fig. 10).

^{Le tube corrcs¡}

pondant ^ne contenait pas d’anhydride phosphorique. ^De plus, ^les ampoules à anhydride

de la canalisation pouvaient être isolées au moyen de robinets, ^de façon ^{à éviter la formation}

de phosphates ^{volatils au moment} de l’introduction de l’alcool.

Fig.10.

La canalisation étant desséchée, ^nous y introduisîmes par le robinet ^r de l’air rigoureu-

sement sec et ouvrîmes R. L’effçt thermique (dù à la détente adiabaque) passé, ^{notre résis-}

tance revint il sa valeur initiale 7 _{mégohms. Puis,} de nouveau, R fut fermé. Nous aspirâmes

alors de l’alcool anhydre (fraîchement ^{distillé sur de la} baryte anhydre) ^en cassant la

pointe A, ^de façon à l’introduire dans le récipient ^{V et nous} rescellàmes A. Nous ouvrîmes

R, ^{fîmes le} vide, puis entourâmes B d’un tampon de coton imbibé de S02 liquide. ^Une partie ^de l’alcool distilla en B et satura le tube de vapeurs.

A son tour, V fut refroidi ainsi qu’une partie ^{de la} canalisation, pour obliger ^l’excès

d’alcool liquide contenu dans le tube (mqintenu ^{à la} température ^{de la} salle), à redistiller dans la canalisation principale, ^{sans être} obligés ^{de chauffer ce} tube. De cette façon, ^seules

les vapeurs d’alcool méthylique adsorbées par la couche de platine et par ^son support ^res-

taient dans notre tube.

Résultats expérimentaux. - Les résultats obtenus sont portés dans le tableau V et traduits par les courbes de la figure ^11.

’

TABLEAU V. - des résistances en

On voit que l’adsorption ^{de ces} vapeurs fait croître la résistance (les de vlatinf’.

Cependant cet accroissement est inégal : les valeurs maxima atteintes se placent ^{dans /’e}

des pouvoirs ill(-IU(-t(,Llrs spécifiques des vapeurs considérées à la tempéraku’e ^de l’expé-

rience (22°).

Nous avons voulu faire ensuite l’expérience ^{inverse en chauffant} légèrement ^{dans le}

vide les résistances ayant ^{adsorbé 802} etCH30H, ^de façon ^{à les} ccjpurger ^{» le mieux} possible

de ces gaz. Les résistances ^{se sont} alors mises à déc1-oître, ^se rapprochant des résistances initiales. Pour les réobtenir, il eût fallu chauffer beaucoup plus ^et les gaz (en parti-

culier SOz) ^se seraient alors décomposés.

Ces résultats expliqueraient ^les phénomènes observés par M. Vincent lorsqu’il ^étudia

la conductibilité des couches minces d’argent obtenues par voie chimique (1). Il mesurait la résistance de semblables couches à l’air libre. Il observa d’abord que ^ces couches, pendant

les 8 premiers jours, ^{ne donnaient} pas résultats comparables, ^{est ensuite} qu’au-dessous

Fig. 1i.

de 36 mu la résistivité de ^ces couches était infinie. Ses dépôts, pendant ^ce laps ^de temps,

devaient se gorger de vapeur d’eau et tendre ^{vers une} résistance électrique supérieure ^{à celle} du’elles auraient dû avoir si elles n’avaient pas adsorbé de vapeur d’eau. Et, puisque plus l’épaisseur ^est faible, plus l’influence de l’adsorption ^est grande, pour de faibles épaisseurs (quelques my) la résistance de ces dépôts ^devait augmenter ^tellement qu’elle ^{en devenait}

non mesurable.

Les corps hydrogénés (hydrocarbures) ^ne doivent avoir aucune influence sur de semblable

résistances, car, dans ce cas, la graisse ^{de nos} robinets aurait agi ^{et nous} n’aurions pas pu avoir de résistances constantes dès l’instant où la projection était faite.

6. Interprétation ^{de ces} expériences. - ^Deux hypothèses pouvaient être admises pour interpéter l’augmentation ^{énorme de} résistivité de ces dépôts pour de faibles épaisseurs.

La première consistait à admettre que ^ces résistances étaient très fortes parce que les

particules constituant le dépôt n’étaient pas disposées ^d’une façon régulière, ^{continue et} qu’elles ^étaient séparées par des coupures placées arbitrairement, augmentant la résistance de ces projections. ^Cette hypothèse ^{n’est pas} vérifiée, car, ^sans cela, ^{nous n’aurions} jamais

pu avoir deux résistivités comparables pour ^une même épaisseur ^{et nos} résultats n’auraient pas ^eu cette régularité. De plus, l’influence de l’adsorption qui fait croître la résistance serait

(1) Journ2l de Physiqzte (3e série), ^{l. 9} (1900).

’

inverse de celle que l’ozz doit prévoir (cc bou’cliage ⁾⁾ dp, fissures. en particulier ^au moyen d’un ^« enrobant o plus ^{ou moins} conducteur).

I,a deuxième hypothèse consiste alors à admettre pour faibles épaisseurs ^{une struc-}

ture interne différente de celle du métal massif. Tout ce que nous savons au sujet ^{de la}

structure de la matière conduit il penser que la surface libre d’un métal ^est différente de sa masse interne (déformation ^dn réseau cristallin par (Iéf,,itil de ^« compensation ^{» des attrac-}

tions électrostatiques, voire même orientation différente ions superficiels). Cet effet de surface, insensible pour des épaisseurs notables, ^devient apparent lorsque l’épaisseur ^se rapproche des dimensions réticulaires. Il est pal’tl(’lllli’relnerlt l siiggestif ^de rappeler que ^nos

expériences ^se rapportent ^{à des} épaisseurs correspondant ^{à un} nombre de diamètres

atomiques compris ^{entre il et 600.} Nous pensons ^{mettre en} évidence, par ^ces résultats, ^le passage continu du métal compact ^au métal fortement déforné, ^tel qu’il ^doit être, ^en parti- culier, dans les m ioelles colloïdales.

Un fait important est la forme exponentielle ^{de la loi} qui représente la variation de résistivité en fonction de l’épaisseur. S’il était possible d’admettre que l’action déformatrice est localisée dans deux couches, d’épaisseur constante, ^{laissant entre elles un métal} d’épais-

seur variable, ayant ^les propriétés ^{du métal} compact, la loi de variation serait

formule cliiiis laquelle Co désigne ^ln conductivité du métal c()mpael ^s, l’épaisseur ^{de la}

couche perturbée ; ^{ci, sa} conductivité moyenne.

Cette formule esl nettement différente de celle que observons. Il en résulte, (tue,

déjà pour de 600 atoffifBS, ^l’action défprmatrice ju:-Bql!’au ^{centre de la}

couche.

En terminan, je suis heureux de témoigner ^{il MM. P.} Langevin, L. Brdiouin et 11. Cour- tines mes sentiments de respectueuse ^et profonde reconnaissance pour l’aide inlassable

qu’ils ^m’ont apportée ^{au cours de ces} recherches.

Manuscrit reçu ^{le 2 aoii t 19? É .}