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De l’italien vers le français : étude comparative des vocalismes, appuyée

II.2 Étude des espaces acoustiques vocaliques de l’italien chez les participants

II.3.1 À propos des systèmes vocaliques

II.3.1.1 Phrases lues : tâche

Les résultats pour les voyelles toniques sont présentés Figure II.17 à Figure II.21 ci-dessous dans le plan F1/F2 (pour F2/F3 et les valeurs moyennes de formants F1 F2 F3 F4, cf. Annexe IV). Concernant les voyelles atones,

53Ferrero et al. (1995) expliquent que ce procédé revient à supposer que 75 % des valeurs d’une population donnée sont à

l’intérieur du périmètre ellipsoïde. Ils précisent que l’orientation et la taille de l’ellipse dépendent de la corrélation entre les deux coordonnées formantiques définies en amont mais aussi de la taille de la déviation standard de chacune de ces coordonnées. Dans le cas où la corrélation est nulle et où les déviations standard sont égales, alors l’ellipse prend l’apparence d’un cercle.

54 Elle est également connue sous la forme f

bark = 7 log ([FHz / 650] + √ [(FHz / 650)2 + 1]) (cf. Vallée, 1994). Il existe

d’autres formules de conversion des valeurs de fréquences en Bark, par exemple celle de Traunmüller (1990) : fbark = [26,81FHz / (1960 + FHz)] - 0,53.

/e ɛ ɔ/ sont trop peu représentées dans la tâche de lecture pour être observées correctement. La voyelle /u/ en situation atone n’apparaît jamais dans le corpus. La locutrice LF9 (cf. Figure II.18 ci-après) est la seule à produire les voyelles atones /e ɛ/ et /ɔ/ sur une durée suffisante pour une détection formantique automatique correcte55.

La Figure II.17 montre les espaces vocaliques des locutrices LF1, LF5, LF6 et LF7. Leur système vocalique présente un recouvrement des dispersions de /o/ et /ɔ/.

Figure II.17 Espaces acoustiques F1/F2 à 5 voyelles, mesurés à partir du corpus de phases lues, pour les locutrices italophones LF1, LF5, LF6 et LF7.

Chez LF1 par exemple, la zone de dispersion de /o/ est complètement recouverte par celle de /ɔ/, laquelle présente une importante variabilité en F1, F2 et F3. On observe aussi chez LF7 et LF6 des ellipses de dispersion communes

pour les voyelles /e/ et /ɛ/. Chez LF7 par exemple, les dispersions des voyelles mi-ouvertes se superposent aux aires acoustiques des voyelles mi-fermées. LF6 présente une ellipse de taille réduite pour /ɛ/, et, quoiqu’en F1/F2

elle se distingue de l’aire de réalisation de /e/, en F2/F3, il y a recouvrement de la zone de /ɛ/ par celle de /e/. On

55 La répartition des voyelles atones dans l’espace acoustique des sujets nous intéressait moins que celle des voyelles toniques

pour la suite des travaux présentés dans ce manuscrit. C’est pourquoi, les valeurs des quatre premiers formants des voyelles atones n’ont pas été relevées manuellement et ne sont pas utilisées pour les observations qui suivent dans le chapitre II.

ne trouve pas de dispersion pour la voyelle /ɛ/ chez LF6, suggérant une neutralisation de l’opposition /e/~/ɛ/. Seulement 2 occurrences de [ɛ] sont relevées, mais 100 réalisations de [e] chez cette locutrice. Chez LF1 est observé un recouvrement de l’aire de réalisation de /e/ par celle de /i/, les productions de /i/ présentant des valeurs élevées pour F1 et les réalisations de /e/ présentant des valeurs basses pour F2. On trouve de plus en F2 une grande

variabilité de réalisations pour ces deux voyelles. Les ellipses de dispersion de /i/ et /u/ sont vastes chez LF7 et occupent une partie des espaces de réalisation attendus pour /e/ et pour /o/, suggérant une tendance à la centralisation de /u/. Ce phénomène est observé également chez LF6. De plus, chez les sujets (excepté LF6), l’ellipse de réalisation de /a/ occupe une zone large en F1. L’ensemble de ces observations suggère que les

systèmes présentés Figure II.17 possèdent 5 qualités vocaliques, avec la probable neutralisation des oppositions d’une part, entre voyelles antérieure mi-ouverte et antérieure mi-fermée et d’autre part, entre voyelles postérieure mi-ouverte et postérieure mi-fermée.

La Figure II.18 montre les espaces acoustiques vocaliques de LF3, LF4, LF8 et LF9.

Figure II.18 Espaces acoustiques F1/F2 à 6 voyelles, mesurés à partir du corpus de phases lues, pour les locutrices italophones LF3, LF4, LF8 et LF9.

Ceux-ci présentent des recouvrements des ellipses de dispersions des voyelles postérieures mi-fermée et mi- ouverte où les nuages de points des voyelles antérieures mi-fermée et mi-ouverte sont soit distincts soit

partiellement recouverts mais avec des centres de gravité éloignés. Plus particulièrement, LF8 réalise des occurrences de /o/ sur l’aire attendue pour /ɔ/. Chez LF9, l’aire de /ɔ/ englobe celle de /o/. La grande variabilité en F2 pour les voyelles toniques postérieures fermée et mi-fermée produites par cette locutrice suggère une

tendance à la centralisation de ces voyelles. Les ellipses de dispersion correspondantes aux autres qualités vocaliques se superposent peu. Chez LF8 par exemple, les ellipses de dispersion de /e/ et /ɛ/ sont distinctes, suggérant l’existence d’une opposition /e/~/ɛ/ maintenue. On remarque cependant une variabilité importante en F1 pour l’aire de dispersion de /i/ et également pour la zone de réalisation de /e/ en F2. LF9 montre une

superposition partielle des ellipses de dispersion des voyelles antérieures mi-fermée et mi-ouverte, avec une tendance à la fermeture pour les réalisations correspondant à /ɛ/. Un recouvrement est observé entre les productions de /a/ et de /ɔ/ chez cette locutrice. On observe également une variabilité de réalisation pour /i/ et /u/ allant jusqu’à recouvrir partiellement les ellipses de dispersion acoustique des voyelles mi-ouvertes /e/ et /o/. Seul LF8 présente une ellipse sans recouvrement pour /u/, l’aire étant particulièrement restreinte comparativement aux cas des autres sujets LF3, LF4 et LF9. De la même manière, on trouve chez LF3 une faible variation pour /o/ en F1, ce qui le différencie sur ce plan des autres sujets.Ces observations suggèrent pour ces

locutrices un système phonologique à 6 qualités vocaliques, avec la probable neutralisation de l’opposition /o/~/ɔ/ et le maintien d’une distinction entre voyelles antérieures mi-fermée et mi-ouverte (contrairement aux productions observées Figure II.17).

La Figure II.19 regroupe les espaces acoustiques de LF2 et LF10, qui présentent un recouvrement partiel au niveau des ellipses de dispersion des voyelles /o/ et /ɔ/ en F1/F2.

Figure II.19 Espaces acoustiques F1/F2 à 7 voyelles, mesurés à partir du corpus de phases lues, pour les locutrices italophones LF2 et LF10.

Dans le plan F2/F3, la superposition des ellipses de dispersion pour ces voyelles est presque totale. Chez LF10,

l’ellipse de /o/ est plus centrale que celle de /ɔ/, /o/ présentant une variabilité importante en F2. Chez LF2, la

zone de dispersion de /ɔ/ est bien plus large que celle observée chez LF10 et les ellipses de dispersion des voyelles antérieures mi-fermée et mi-ouverte sont globalement plus fermées que celles produites par LF10. Également, l’aire de dispersion de /ɛ/ chez LF2 ne recouvre que partiellement la zone acoustique de /e/, suggérant

des réalisations articulatoires différentes pour /ɛ/. L’ensemble de ces observations met en évidence dans la tâche phrases lues un usage chez LF2 et LF10 de 7 qualités vocaliques dans le système tonique.

La Figure II.20 présente deux espaces acoustiques vocaliques dans lesquels les ellipses de dispersion des voyelles postérieures mi-fermée et mi-ouverte présentent des chevauchements totaux. Les centres de gravité des ellipses de dispersion des voyelles postérieures mi-fermée et mi-ouverte sont relativement proches en F1, F2 et

F3 chez les deux sujets, ce qui semble confirmer une tendance à la neutralisation de l’opposition /o/~/ɔ/. Chez

ces deux locuteurs, les zones acoustiques correspondant aux réalisations des deux voyelles antérieures /e/ et /ɛ/ montrent des recouvrements partiels entre elles. En F1, une variabilité importante de /o/ est observée : l’ellipse

de dispersion s’étend dans les zones de /u/ et /ɔ/. En F3, on remarque lemême processus pour /u/ chez le

locuteur LH3, ce qui montre une tendance possible de réalisation plus centrale de la voyelle. Chez LH2, les nuages de points des voyelles mi-ouvertes sont étendus en F1, indiquant une importante variabilité sur cette

dimension. On note pour les voyelles mi-ouverte et mi-fermée produites par ce locuteur des ellipses de dispersion larges en F2 avec une tendance à recouvrir les aires réservées en français aux voyelles centrales. Il se dégage de

ces analyses un espace acoustique à 6 qualités vocaliques, suggérant une neutralisation de l’opposition /o/~/ɔ/.

Figure II.20 Espaces acoustiques F1/F2 à 6 voyelles, mesurés à partir du corpus de phases lues, pour les locuteurs italophones LH2 et LH3.

La Figure II.21 présente un espace acoustique avec peu de recouvrement entre les ellipses de dispersion. Le nombre d’ellipses suggère l’usage d’un système maximal en italien standard. Les ellipses de dispersion des voyelles toniques se distinguent bien les unes des autres chez LH1. Les ellipses de /o/ et /ɔ/ se recouvrent toutefois légèrement dans le plan F2/F3 (cf. Annexe IV), possiblement en raisonde la forte variabilité observée en F1 et

surtout en F2 pour les réalisations de /u/. Toutes les autres ellipses de dispersion, en particulier des voyelles

antérieures, présentent une variabilité moindre en F1 et F2. On trouve également une zone de dispersion faible

Figure II.21 Espace acoustique F1/F2 à 7 voyelles, mesuré à partir du corpus de phases lues, pour le locuteur italophone LH1.

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