CHAPITRE 2 ÉTAT DES CONNAISSANCES
2.1 Épitaxie de boîtes quantiques auto-assemblées d’InAs/InP
Les îlots auto-assemblés d’InAs sur substrat d’InP sont fabriqués depuis une quinzaine d’années par MBE [28,29] et par épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (MOVPE ou MOCVD pour Molecular Organometallic Chemical Vapor Deposition) [30-32]. Pour ce qui est du MBE, comme il est problématique de croître de l’InP à l’aide de cette technique, une matrice de InAlAs [28,33-35] ou de InGaAs [34] accordées à l’InP sont souvent utilisées pour former des îlots d’InAs sur ce substrat.
On utilise aussi des techniques hybrides entre le MOVPE et le MBE, c’est-à-dire qu’on emploie une combinaison de sources solides, gazeuses (généralement des hydrures pour les éléments V) et organométalliques, avec l’approche sous vide poussé du MBE : MBE à sources gazeuses, CBE pour (Chemical Beam Epitaxy) et MOMBE (Metalorganic Molecular Beam
epitaxy) [36-38].
En général, les îlots semi-conducteurs se forment de manière spontanée lors de l’épitaxie, dans le mode de croissance Stranski-Krastanov. Ce dernier ayant été largement étudié, nous présentons seulement un survol des mécanismes impliqués à la section 2.1.1, en référant le lecteur aux revues de la littérature publiées sur le sujet (par exemple, [39,40]), puis nous traitons de l’impact de la cinétique sur la morphologie des nanostructures (section 2.1.2) et, finalement, d’un aspect plus spécifique à la croissance d’InAs/InP, c’est-à-dire l’échange As/P (2.1.3).
2.1.1 Croissance Stranski-Krastanov : arguments thermodynamiques
Les îlots d’InAs/InP sont crus dans le mode Stranski-Krastanov [30,41,42], c’est-à-dire qu’au départ l’épitaxie de l’InAs résulte en une couche plane (croissance couche par couche ou mode Frank van der Merve), puis, après quelques monocouches, la formation de petits îlots est favorisée sur la couche primitive, qu’on désigne sous le nom de couche de mouillage (CM). Pour les semi-conducteurs III-V, ce mode de croissance survient pour un désaccord de maille f d’environ 3 à 8% entre la couche et le substrat (cette plage de valeurs dépend en fait de la différence d’énergie de surface couche-substrat (voir Réf. [43])). Le passage au mode de croissance par îlots après la formation de la couche de mouillage plane est causé par l’accumulation d’énergie de déformation élastique dans la couche (due au désaccord de maille avec le substrat), qui est relaxée par l’apparition de rugosités de surface permettant la déformation du paramètre de maille du matériau (voir figure 2-1). L’apparition de rugosités provoque une augmentation de l’énergie de surface. La forme finale de la couche épitaxiale résulte donc, en ne considérant que les effets thermodynamiques, d’une minimisation de l’énergie totale du système, c’est-à-dire de la somme de l’énergie de surface et de l’énergie élastique. Il est aussi possible d’obtenir des îlots dans le mode de croissance Volmer-Weber, pour lequel la différence entre les paramètres de maille des matériaux utilisés est tellement importante (supérieure à ∼ 8%) que la formation de rugosités est favorisée dès le commencement de l’hétéroépitaxie (sans couche de mouillage), comme dans le cas des systèmes InAs/GaP [44] et InAs/Si [45] (f ≈ 0,10 pour les deux combinaisons).
D’autre part, comme les grosses nanostructures sont énergétiquement plus favorables que les petites (l’énergie de surface totale pour une même quantité de matière est plus faible, le rapport volume/surface étant plus élevé), les petits îlots peuvent perdre des atomes au profit des plus gros à proximité, par le processus de mûrissement d’Ostwald [46]. De plus, comme les gros îlots peuvent avoir un rapport d’aspect (hauteur/base) plus élevé, la relaxation de contrainte dans ce cas est plus importante. La diffusion des atomes vers les plus gros îlots est cependant limitée par les maxima d’énergie de déformation à la jonction entre la base des îlots et la couche de mouillage (voir figure 2-1), qui s’accentue avec la taille des nanostructures tant que ces dernières sont cohérentes avec la matrice [39]. Cette barrière à la diffusion disparaît lorsque les îlots atteignent la taille critique pour laquelle la formation de dislocations devient favorable afin de
relaxer davantage leur déformation. Les îlots contenant des dislocations ont donc un taux de croissance beaucoup plus élevé que les autres [47,48]. Les maxima de déformation aux jonctions îlots-CM entraînent également un amincissement de la couche de mouillage autour des nanostructures de plus grande taille, qui est causé par une diffusion des atomes hors de ces régions, ce qui favorise d’autant plus le mûrissement des îlots [39].
Figure 2-1 : Représentation schématique de la rugosité de surface induite par la relaxation de l’énergie de déformation élastique accumulée dans la couche épitaxiale (gris clair) lors de la croissance sur le substrat (gris foncé).
2.1.2 Aspects cinétiques
Les paramètres ayant un impact sur la cinétique, tels la température du substrat, le temps de recuit et le taux de croissance, jouent un rôle très important sur la morphologie finale de l’échantillon pour ces matériaux.
Tout d’abord, il a été observé que l’élévation de la température de croissance entraîne l’augmentation de la taille des îlots et la diminution de leur densité surfacique pour plusieurs systèmes : InAs/GaAs [49,50], Ge/Si [51], PbSe/PbTe [52] et InAs/InP [30,53,54] (voir figure 2-2).
Bansal et al. [54] et Abstreiter et al. [50] ont obtenu le même résultat en diminuant le taux de croissance. L’augmentation du temps d’interruption, c’est-à-dire la durée de l’arrêt de la croissance suite au dépôt de la couche de matériau (recuit), mène également à la même tendance, comme observé par Marchand et al. [30]. En effet, on se rapproche alors de l’équilibre thermodynamique. Marchand et al. ont également observé que la distribution en taille était plus étroite pour de longs temps d’interruption (plus de 30 s), mais qu’un recuit trop long (plus de 160 s) résulte en la relaxation plastique de certains îlots et donc d’un rélargissement de la distribution en taille. Aussi, ils ont observé qu’en diminuant la quantité d’InAs déposée et la
température du substrat, un temps d’interruption plus long est requis pour la formation de nanostructures 3D.
Figure 2-2 : Pour des couches d’InAs déposées par MOVPE sur un substrat d’InP(001), les paramètres suivants, mesurés par AFM, sont présentés en fonction de la température du substrat durant le dépôt d’InAs d’une durée de 3 s (cercles), 6 s (carrés) et 12 s (triangles) : diamètre moyen
davg, hauteur moyenne des îlots cohérents hsmall, densité surfacique ρs et fraction de la surface occupée
par les îlots Rs. [30]
Ces résultats peuvent être expliqués par des simulations Monte Carlo effectuées par Meixner et al. [55,56] : tout de suite après le dépôt, la distribution en taille est contrôlée par la cinétique et les petits îlots sont favorisés pour de faibles températures, tandis que pour des températures plus élevées, on obtient plutôt un nombre plus faible de structures de plus grande dimension. En effet, la densité d’îlots qui germinent à la surface de la couche de mouillage
diminue avec l’augmentation du ratio entre la diffusion des adatomes sur la surface (qui varie exponentiellement avec la température) et le taux de croissance. Lorsqu’on augmente la température, les adatomes se déplacent plus rapidement et la probabilité de trouver un îlot déjà existant pour s’y attacher est alors plus élevée que celle de former un nouveau germe. L’augmentation du flux d’atomes limite le libre parcours moyen des adatomes sur la surface et favorise quant à elle la germination.
Le type de reconstruction de surface du substrat ainsi que la nature des espèces (hydrogène ou molécules organiques) y étant adsorbées peuvent également influencer la forme (isotrope ou allongée selon une certaine direction (fils)) des îlots obtenus, en rendant anisotropique le coefficient de diffusion des adatomes [57,58].
2.1.3 Échange As/P pour les hétérostructures InAs/InP
Nous avons jusqu’à maintenant traité d’aspects généraux de l’auto-assemblage d’îlots dans le mode de croissance Stranski-Krastanov.
L’échange As/P se produisant aux interfaces lors de la croissance rend difficile le contrôle de la quantité d’InAs déposée. Le recuit d’une surface d’InP sous flux d’arsenic (sans indium) peut en effet mener à la formation d’îlots ou de fils d’InAs [58-59] : comme les éléments V désorbent facilement de la surface, les atomes de phosphore sont graduellement remplacés par des atomes d’As à la surface de l’échantillon. Un recuit d’une dizaine de secondes sous atmosphère riche en arsenic est suffisant pour générer la formation d’îlots 3D à 600 °C [59].
L’échange As/P peut également se produire lors de la croissance de boîtes quantiques par le dépôt direct d’InAs. Par exemple, Yoon et al. [32] ont observé un excès d’InAs par rapport à ce qu’ils avaient prédit selon le temps de dépôt, qui s’accentue pour un flux très élevé d’arsenic durant le dépôt (V/III = 300) et avec l’élévation de la température. L’excès de 1 MC observé pour une température du substrat de 500 °C et un rapport V/III plus usuel de 30 est probablement dû à l’exposition de la surface d’InP à un flux d’arsenic avant le début du dépôt de l’InAs (2 s), ainsi qu’avant la complétion de la première couche d’InAs une fois le dépôt commencé.
L’échange As/P peut également être utilisé pour modifier la forme et la composition des îlots après leur formation, par un recuit de la surface d’InAs sous atmosphère riche en phosphore [60,61], en réduisant le taux de croissance de la couche d’encapsulation d’InP (la couche
recouvrant les îlots) [61,62] ou encore en interrompant cette dernière pour effectuer un recuit sous P avant de la compléter [61]. La longueur d’onde d’émission peut ainsi être ajustée.