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Dispositif expérimental en ultra-vide permettant le dépôt de couches minces et l'étude « in situ » de leurs propriétés galvanomagnétiques

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Academic year: 2021

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HAL Id: jpa-00243161

https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00243161

Submitted on 1 Jan 1969

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Dispositif expérimental en ultra-vide permettant le dépôt de couches minces et l’étude “ in situ ” de leurs

propriétés galvanomagnétiques

Jean Salardenne

To cite this version:

Jean Salardenne. Dispositif expérimental en ultra-vide permettant le dépôt de couches minces et

l’étude “ in situ ” de leurs propriétés galvanomagnétiques. Revue de Physique Appliquée, Société

française de physique / EDP, 1969, 4 (1), pp.92-94. �10.1051/rphysap:019690040109200�. �jpa-

00243161�

(2)

92.

DISPOSITIF EXPÉRIMENTAL EN ULTRA-VIDE

PERMETTANT LE DÉPOT DE COUCHES MINCES

ET L’ÉTUDE « IN SITU » DE LEURS PROPRIÉTÉS GALVANOMAGNÉTIQUES

Par JEAN SALARDENNE,

Faculté des Sciences de Bordeaux.

(Reçu le 9 octobre 1968.)

Résumé. 2014 Le dispositif réalisé permet de préparer des couches minces par évaporation

sous ultra-vide (5 10-10 torr), puis d’étudier, dans la même enceinte, les propriétés galvano- magnétiques de ces couches constamment maintenues en ultra-vide.

La température 03B8 du support peut être contrôlée pendant le dépôt et pendant les mesures ;

le support, en mica, peut être clivé sous ultra-vide, tandis qu’un creuset de forme spéciale permet

un dégazage intensif avant l’évaporation ; enfin, une régulation de la vitesse d’évaporation et

une mesure des pressions partielles à l’aide d’un analyseur de gaz résiduels permettent le

contrôle de la plupart des paramètres importants intervenant lors de la formation des couches.

Abstract.

2014

The device constructed permits one to prepare thin films by evaporation in ultra high vacuum (5 10-10 torr), then, to measure the galvanomagnetic coefficients of these films, constantly held in ultra high vacuum.

The substrate temperature can be controlled during the evaporation ; the mica-substrate may be cleaved in the ultra high vacuum while a specially shaped crucible permits an intensive outgassing before the evaporation ; finally, regulation of the evaporation rate and the

measurement of the partial pressures with a residual gas analyser, permits the control of most of the important parameters which have an influence on the formation of the films.

1. Introduction.

-

Des études antérieures sur les couches minces de bismuth et de tellure [1] ont montré, d’une part, l’influence de la pression rési-

duelle pendant la condensation et, d’autre part, celle, probable, de l’oxygène sur leurs propriétés galvano- magnétiques.

Nous avons, de ce fait, été amené à concevoir et

réaliser un dispositif expérimental en ultra-vide, per- mettant le dépôt de couches minces et la mesure des coefficients galvanomagnétiques de ces couches, cons-

tamment maintenues sous le même vide.

Par ailleurs, la nécessité d’effectuer la condensation

sur un support dont la surface soit aussi propre que

possible nous a conduit à étudier un dispositif de clivage sous ultra-vide.

Enfin, le contrôle de la température du support aussi bien pendant la condensation (recherche des

conditions épitaxiales) que pendant les mesures (étude

des propriétés à différentes températures) nous a paru

indispensable.

II. Description du dispositif expérimental.

-

1. DIS-

.

POSITIF A ULTRA-VIDE.

-

Le groupe de pompage est un ensemble classique : pompe à sorption-pompe ionique (80 1/s)-sublimateur de titane. Il permet d’atteindre,

t-

après étuvage, un vide limite inférieur à 5 X 10-1° torr dans une enceinte en acier inox, cylindrique, de

300 mm de diamètre, dont la partie utile a une hauteur

de 215 mm. Cette enceinte, en plus des accessoires tels que passages rotatifs, hublot, etc., possède à sa partie

inférieure un passage verre-métal permettant l’adap-

tation d’un tube de pyrex. La partie inférieure de ce

tube de pyrex peut, grâce au mouvement vertical de

translation commandé par un chariot élévateur sur le

plateau duquel est fixée l’enceinte, être descendue dans

un dewar contenant de l’azote liquide (fig. 1 et 2).

Il est alors possible, en introduisant un gaz inerte dans

l’enceinte, d’effectuer les mesures des coefficients gal- vanomagnétiques à des températures allant jus- qu’à

-

195 OC.

2. SUPPORT. POSITIONNEMENT DU SUPPORT.

-

Le support est fixé à un bloc de cuivre, parallélépipède rectangle de dimensions 70 X 26 X 8 mm, qui

contient une résistance chauffante en tungstène et dont

la température est mesurée à l’aide d’une sonde au

platine noyée dans le cuivre. On peut ainsi faire varier la température de la couche entre l’ambiante et

+ 250 OC.

Un mouvement de translation verticale est com-

Article published online by EDP Sciences and available at http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:019690040109200

(3)

93

FIG. 1.

-

Schéma de principe : 1, Support ; 2, Caches ; 3, Volet mobile ; 4, Butée provoquant l’ouverture du

volet mobile en fin de course ; 5, Creusets ; 6, Vis

sans fin ; 7, Azote liquide ; 8, Électro-aimant.

mandé par la rotation d’une vis sans fin en acier

« inox ». Il permet d’amener le support successivement

aux positions I, II et III correspondant respectivement

au dépôt de la couche mince, puis des électrodes et enfin à la mesure des coefficients galvanomagnétiques (fig. 1 et 2).

Lorsque le support est en position 1 ou II, un

mouvement horizontal de translation des caches (des-

tinés à donner à la couche et aux électrodes la forme

voulue) permet de les amener au contact du support

(afin que les contours soient bien nets). Ce même dispositif commande, en fin de course, l’ouverture ou

la fermeture d’un volet mobile.

3. DISPOSITIF DE CLIVAGE.

-

Ce dispositif, permet-

tant le clivage des supports de mica juste avant l’éva- poration, met à profit le mouvement vertical du sup- port et consiste en un fil fin tendu, engagé dans le plan

de clivage lors de l’installation dans l’enceinte.

4. CONTACTS AVEC LES FILS DE MESURE.

-

Les contacts entre fils de mesure et couche mince sont réalisés par pression entre deux lamelles de mica dont l’une porte, en regard des électrodes de la couche mince, des revêtements à la laque d’argent reliés aux

fils de mesure [1].

5. CREUSET.

-

Le creuset contenant le matériau de la couche mince est normalement fermé et permet

WG. 2.

-

Réalisation : 1, Caches donnant leur forme :

a) à la couche mince, b) aux électrodes ; 2, Porte support ; 3, Volet mobile ; 4, Orifices d’évaporation : a) couche mince, b) électrodes.

Support en position I : dépôt de la couche mince.

Support en position II : dépôt des électrodes.

Support en position III : mesures (le tube de pyrex étant plongé dans l’entrefer de l’électro-aimant).

ainsi, dans un premier temps, un dégazage intensif,

par évaporation sans perte, du matériau à déposer.

Lors de la réalisation de la couche mince, une com-

mande d’ouverture du creuset est effectuée, thermi- quement, par la dilatation amplifiée de la bande de tantale qui assurait primitivement l’obturation (fig. 3).

1

FiG. 3.

-

Creuset à ouverture.

. A

(4)

94

Grâce à ce procédé, nous avons pu réaliser des dépôts couche pendant la condensation, ce qui permet d’enre-

avec des vitesses de condensation relativement impor- gistrer la variation de sa résistance et de déterminer tantes sans que la pression résiduelle subisse de avec précision l’épaisseur critique à partir de laquelle grande variation. on note une brusque diminution de la résistivité [4]

6. ACCESSOIRES DE MESURE.

-

La vitesse d’évapora- (ceci nécessite, bien entendu, de réaliser le dépôt des

tion est maintenue constante par un asservissement électrodes (position II) avant celui de la couche mince utilisant comme capteur une jauge à ionisation [2] (Position 1»

~

et permet de déterminer l’épaisseur des couches, après Enfin, les pressions partielles, et en particulier celle étalonnage, à l’extérieur de l’enceinte, par la méthode d’oxygène, sont contrôlées pendant toute la durée de

interférométrique de Nomarsky [3]. l’évaporation grâce à un analyseur de gaz résiduels Un générateur à courant constant alimente la du type Monopole.

BIBLIOGRAPHIE [1] SALARDENNE (J.), Thèse de Doctorat d’État, Bor-

deaux, juin 1965.

[2] DULHOSTE (J. C.), Thèse de 3e cycle, Bordeaux, juin 1968.

[3] NOMARSKI (G.) et WEILL (A. R.), Rev. Metallurg., 1955, 52, 2, 121 à 134.

[4] KOMNIK (Y. F.) et PALATNIK (L. S.), Sov. Phys. Solid State, 1965, 7, 2, 429-431.

UN GÉNÉRATEUR D’IMPULSIONS DE HAUTE TENSION A DÉBIT ÉLEVÉ

Par G. NENCIARINI et G. KAMARINOS,

École Nationale Supérieure d’Électronique et de Radioélectricité de Grenoble, 23, rue des Martyrs, 38-Grenoble.

(Reçu le 30 janvier 1969.)

Résumé. 2014 Le générateur fournit des impulsions rectangulaires de haute tension (jusqu’à

10 kV) et il est capable de débiter des courants de plusieurs ampères.

On peut faire varier, de façon continue, l’amplitude des impulsions (0,5-10 kV), leur durée (0,1-8 03BCs), et la fréquence de répétition (0,1 à 3 Hz).

Abstract.

2014

The generator described gives H.T. rectangular pulses (up to 10 kV) with

currents of many amperes.

It is possible to vary continuously the amplitude of the pulses (0.5-10 kV), their width and their repetition frequency (0.1-3 Hz).

1. Introduction.

-

L’appareil a été réalisé pour un générateur de puissance, fournissant des impulsions

certaines études sur les matériaux semiconducteurs de haute tension, de forme rectangulaire, de faible (germanium notamment), lorsqu’ils sont soumis à des durée et de fréquence de répétition basse. L’appareil champs électriques élevés (quelques kV~cm) .~ peut néanmoins être utilisé pour d’autres recherches, Puisque la résistance des barreaux à étudier est pour lesquelles des caractéristiques semblables sont relativement faible (quelques centaines d’ohms), la nécessaires (étude des ferrites à fort champ magné- puissance requise est élevée. Pour éviter un échauf- tique, comportement des décharges des gaz dans les fement notable du matériau, on ne peut lui appliquer tubes, etc.).

des tensions continues permanentes; on doit donc

recourir à un régime impulsif, laissant des temps morts 2. Principe du fonctionnement.

-

Une source de

assez longs. haute tension électrique alimente une cellule résistance- Divers montages déjà réalisés [1, 2 et 3] ne conci- capacité; cette dernière joue le rôle d’un « réservoir liaient pas nos exigences en puissance (de l’ordre de d’énergie ». Par le moyen d’un système de commuta- quelques centaines de kW), en durée (0,1 à 8 ys) et en tion, la capacité se branche périodiquement à la amplitude de l’impulsion (jusqu’à 10 kV). charge, durant un laps de temps égal à la durée désirée

C’est ainsi que nous avons été amenés à réaliser [4] de l’impulsion.

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