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Sur l’existence de bandes d’absorption, dans le spectre
hertzien, pour les semi-conducteurs monoatomiques
(bore, sélénium)
J. Meinnel
To cite this version:
124
de
l’image
latente des tracesélectroniques
sansdimi-nution de la sensibilité initiale. En
appliquant
cepro-cessus à des émulsions Ilford G 5 de Ioo M, nous
avons bien obtenu l’effacement des traces de
fond,
mais la sensibilité de l’ensemble de la
plaque
neper-mettait
plus l’enregistrement
de nouvelles tracesd’électrons. Nous avons
repris
l’étude de cette méthodeen faisant varier les différents facteurs
pouvant
modi-fier le résultat.
Dans une
première
séried’essais,
nous avonsplacé
lesplaques
à l’intérieur d’une étuve à thermostat à fermeture nonhermétique,
contenant un bac à eau. A 60°C,
pendant
unevingtaine d’heures,
nousavons obtenu un effacement
complet
de toutes lestraces,
sauf les traces oc, mais unenregistrement
duspectre g
du radium E ne donne que des fins de traces dequelques grains espacés
près
de la surface. Cetraitement, prolongé
à la mêmetempérature
jusqu’à
48
h et à 700 Cjusqu’à
24 h n’améliore pas la sensibilité. Dans cesconditions,
les émulsionsgonflent
peu, il seproduit
une faible condensation sur laporte
non chauffante de l’étuve.Dans une deuxième série
d’essais,
pour obtenir une vapeur d’eau vraimentsaturante,
nous avons introduit lesplaques
sur unplateau
de verre dans une enceinte contenant l’eau et fermanthermétiquement;
l’ensemble étantplacé
àl’intérieur
de l’étuve dans uneposition
telle que toute condensation étaitsup-primée.
Dans cesconditions,
legonflement
desplaques
était bienplus important,
par suite d’uneplus grande absorption
de vapeur d’eau. A 60°C,
l’interruption
dutraitement,
après
6h, permet
de constater un effacementprogressif
destraces,
fonc-tion de lapénétration
de la vapeur d’eau dans l’émul-sion. Simultanément s’est formé un voile de surface uniforme de forte densité. Près des coins de laplaque,
ce voile
disparaît
pour faireplace
à une zone degrande
sensibilité.Après
24 h detraitement,
l’effa-cement est
complet,
et dans une zone de 3 mmde
large
sur lepourtour
de laplaque,
les tracesd’élec-trons
enregistrées
sont très faciles àsuivre,
avec desgrains plus
gros que sur uneplaque
noneffacée,
développée
dans les mêmesconditions.
Pour
les traces au minimumd’ionisation,
la densité degrains
est nettement améliorée et atteint 5o
grains
pour 100m.La sensibilité de cette
région
est donc meilleure que . celle d’uneplaque
non traitée. Parcontre,
dans toutela zone centrale de la
plaque
le voile a diminué dedensité,
mais la sensibilité aux électrons est presquenulle. Nous avons
essayé d’élargir
la zone sensibleen
prolongeant
le traitement.Après
deuxjours,
le voilede surface a entièrement
disparu,
sans modifier lazone de
sensibilité,
mais d’énormes amas degrains
apparaissent
sur les bordsprès
dusupport
de verre où la sensibilité a sensiblement diminué.Enfin, après
trois
jours,
le voile defond
agagné
toute la surface de laplaque,
et la sensibilité aux électrons estnulle,
même
près
des bords.Des essais de
séchage
accéléré à 5° C avec ventilateuren
présence
d’undesséchant,
n’ont pas modifié les résultats. A7oo
C,
le traitement est notablementplus rapide,
mais les résultats sont semblables. Actuel-lement cette méthode donne donc une excellente sensibilité pourl’enregistrement,
sans fondparasite,
des traces voisines du minimum d’ionisation dansune zone limitée à
quelques
millimètres sur lepourtour
des
plaques
G 5.A un autre
point
de vue, les mesures dans lesémul-sions nucléaires nécessitent une correction
importante
pour tenir
compte
de la diminutiond’épaisseur
au cours du traitement. Pouraugmenter
laprécision
des mesures, il estpréférable
desupprimer
l’erreurdue à la contraction par la méthode de G.
Mignone [3],
qui
redonne à l’émulsion sonépaisseur
initiale parun bain dans une solution de
glycérine
avant leséchage. L’application
de ceprocédé
à desémul-sions G 5 de 100 m- nécessite des conditions très diffé-rentes. Nous avons étudié la variation du facteur de contraction K en fonction de la concentration de
glycérine.
Pour une concentration
déterminée, K
diminue avec letemps
d’immersionjusqu’à
une valeurcons-tante obtenue
après
15 h à 2oDC;
l’épaisseur
de l’émulsion a été mesurée aumicroscope
à 1 P.près.
Les résultats obtenus sont les suivants : sans trai-tement à la
glycérine
le coefficient de contraction Kest de
2,5;
une solution deglycérine
à 10 pour 100abaisse K à
1, 5
et ce n’est que pour une concentration de 20 pour ioo que nous obtenons K = i. Nousavons vérifié que la
suppression
dela
contractionest sans influence sur la
distorsion,
qui
dépend
essentiellement du traitementprécédent.
Manuscrit reçu le 28 novembre 195 3. [1] ALBOUY G. - C. R. Acad. Sc., I950, 230, I35I.
[2]
ALBOUY G. et FARAGGI H. - Rev. Sc.Instr., I95I, 22, 532.
[3] MIGNONE G. - Nuovo
Cimento, I95I, 8, 897.
SUR L’EXISTENCE DE BANDES
D’ABSORPTION,
DANS LE SPECTREHERTZIEN,
POUR LES SEMI-CONDUCTEURS
MONOATOMIQUES
(BORE,
SÉLÉNIUM)
PAR J. MEINNEL.
Faculté des Sciences de Rennes.
Au cours de l’étude hertzienne de nombreux solides
minéraux,
divers chercheurs ont mis en évidence des bandesd’absorption [1], [2], [3], [4],
[5],
[6]’dues
à desdéfauts
de réseau(d’origine physique
ouchi-mique) ;
les solides ’étudiés étaient soit des cristauxioniques. (purs
ouimpurs),
soit desoxydes
semai-conducteurs(contenant
unexcès
stoechiométrique
d’un desconstituants).
’
Il était
important [7], [8], [9]
de rechercher si de telsphénomènes
existaient aussi,
dans le cas des semi-conducteursmonoatomiques (Ge,
Si,
B,
Seimpurs, etc.).
Mais dans ce casplus
encore que dansles
précédents,
la conductibilité parporteurs
libres vient se superposer auxphénomènes d’absorption
hertzienne dus aux
porteurs
liés - et souvent lesmasque.
Comme nous
l’indiquerons
prochainement [11]
l’utilisation dudiagramme
logs"/,
logv
nous apermis
de
séparer
les deuxtypes
depertes,
125
N’ayant
pudisposer
de silicium et degermanium
depureté suffisante,
nous avons commencé par l’étude d’échantillons de bore et de séléniumd’ori-gines
diverses(trois types
de boreamorphe
et des échantillons de sélénium du commerce sous la forme noiremétallique).
Les
produits pulvérisés
étaientplacés
dans uncondensateur
cylindrique,
lui-même enfermé dans uneenceinte où l’on
pouvait
faire le vide. Les mesuresont été effectuées entre 88 et 3ooo
K,
de 100 Hzà 4oo kHz.
Dans le cas du
bore,
on pourra comparer nosrésultats à ceux obtenus par
Lagrenaudie [10],
grâce
à une autretechnique
(conductibilité).
Nos résultats sont résumés dans les
figures
1 à VII.Dans tous les cas, nous avons observé une bande
d’absorption
hertzienne(et
parfois
plusieurs).
En admettant que les
phénomènes
de relaxationdiélectrique
observés soient des processusrégis
par une loi de la forme v c = Aexp -
u ,
nous avons pu calculer lesénergies
d’activationcorrespondantes
qui
varient de o, r 2 ào,60
eV : les valeurs exactesobtenues sont
indiquées
sur lafigure
VII.Pour le bore on
peut
noter(fig.
I etII)
que lesbandes à faible
énergie
d’activation(inférieure
à0,2o
eV)
sont peu affectées par l’état de’surface,
alors que
la
présence
de traces d’humidité semble accroître l’intensité des bandes àénergie.
d’activationplus
élevée,
ainsi que la conductibilité(fig.
III etV).
Nous
poursuivons
ces recherches pourpréciser
le rôle des divers facteurs intervenant dans
l’absor-ption
hertzienne mise ainsi en évidence pour dessemi-conducteurs
monoatomiques ;
cetteabsorption
ne semble pas avoir étésignalée jusqu’ici malgré
l’existence de très nombreux travaux sur lespropriétés
élec-triques
de ces corps(notamment
Se).
Manuscrit reçu le 4 décembre 1953. [1] BRECKENRIDGE R. G. - J. Chem.
Phys., I948, 16, I959; I950, 18,
9I3;
Imperfections in nearly perfect cristals,Wiley, New-York, I952, 2I9.
[2]
KONDO S. et SUITA T. - J.Phys. Soc. Japan, I950,
5, 375.
[3]
OKADA T. - BusseironKenkyu, I949, 20, I7I.
[4] HAVEN Y. - J. Chem.
Phys., I953, 21, I7I.
[5] FREYMANN Mme M. et FREYMANN R. - C. R. Acad.
Sc., I952, 235, II25;
I953,
236, I256; J. Physique Rad.,I952, 13, 589; I953, 14, 203-2II; J. Chem. Phys., I952, 20, I970.
[6] MEINNEL J. et DANIEL E. - J.
Physique Rad., I953, 14, 425.
[7]
FREYMANN Mme M. et FREYMANN R. - Aparaître J. Physique Rad.
[8]
CASTELLAN G. W. et SEITZ F. - Semiconducting
mate-rials (19), Butterworths, I95I.
[9]
BENEDICT T. S. et SHOCKLEY W. - Phys. Rev., I953,89, II52.
[10]
LAGRENAUDIE J. - J.Physique Rad., I952, 13,
554,
I953, 14, I4.