Georges Cailletaud
Centre des Matériaux Ecole des Mines de Paris/CNRS
Plan
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 2 / 46
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
Cinématique d’une plaque épaisse (Reissner–Mindlin)
Plaque définie dans le plan (x1–x2) ; normale à la plaque x3, épaisseur h.
Déplacement défini par 3 translations, U1, U2, W , et deux angles,θ1etθ2, qui sont fonctions de x1–x2uniquement.
θ1
θ2
x1 x2
x3
u1(x1,x2,x3) =U1+θ2x3 u2(x1,x2,x3) =U2−θ1x3 u3(x1,x2,x3) =W
u=U+x3Φ
U=U+W e3=
U1 U2
0
+
0 0 W
Φ =
Φ1 Φ2
0
=
θ2
−θ1
0
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 4 / 46
Calcul du tenseur de déformation
A partir de :
u1=U1+θ2x3 u2=U2−θ1x3 u3=W
Il vient :
ε11=U1,1+θ2,1x3 ε22=U2,2−θ1,2x3 ε33=0
2ε12=U1,2+θ2,2x3+U2,1−θ1,1x3 2ε23=−θ1+W,2
2ε31=θ2+W,1
Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
Structure du tenseur de déformation
∼ε=d
∼+x3K
∼+b
∼
Tenseur déformation de membrane (partie symétrique du gradient de U) d∼=
U1,1 (U1,2+U2,1)/2 (U2,1+U1,2)/2 U2,2
Tenseur de courbure (partie symétrique du gradient deΦ) K∼ =
θ2,1 (θ2,2−θ1,1)/2 (θ2,2−θ1,1)/2 −θ1,2
Cisaillement (vecteur cisaillement)
b∼=
0 0 θ2+W,1
0 0 −θ1+W,2
θ2+W,1 −θ1+W,2 0
b= Φ +grad W=
θ2+W,1
−θ1+W,2
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 6 / 46
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Plan
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Puissance virtuelle
−δWint= Z
V
σijεijdV
= Z
V
σαβεαβ+2σα3εα3
dV
= Z
S
δWhdS avec
δWh=U1,1 Z
hσ11dx3+θ2,1
Z
hσ11x3dx3+U2,2 Z
hσ22dx3−θ1,2
Z
hσ22x3dx3 + (U1,2+U2,1)
Z
h
σ12dx3+ (θ2,2−θ1,1) Z
h
σ12x3dx3
+ (−θ1+W,2) Z
h
σ23dx3+ (θ2+W,1) Z
h
σ31dx3
Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Définition des efforts intérieurs
Variable associée définition : U1,1 N11=
Z
h
σ11dx3 θ2,1 M11=
Z
h
σ11x3dx3 U2,2 N22=
Z
h
σ22dx3
−θ1,2 M22= Z
h
σ22x3dx3
(U1,2+U2,1)/2 N12= Z
hσ12dx3 (θ2,2−θ1,1)/2 M12=
Z
h
σ12x3dx3 (−θ1+W,2)/2 T2=
Z
h
σ23dx3 (θ2+W,1)/2 T1=
Z
h
σ31dx3
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 10 / 46
Définitions
Tenseur des efforts de membrane : N∼ =
N11 N12
N21 N22
Nαβ= Z
h
σαβdx3
Tenseur des moments : M∼ =
M11 M12 M21 M22
Mαβ= Z
h
x3σαβdx3
Vecteur des cisaillements transverses : Tα=
Z
h
σα3dx3
Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Traitement des efforts intérieurs
−δWint=−δWintM−δWintF −δWintS
= Z
S
NαβUαβdS+ Z
S
MαβKαβdS+ Z
S
TαbαdS
Membrane :
−δWintM= Z
S
(N11U1,1+N22U2,2+N12(U1,2+U2,1))dS Flexion :
−δWintF = Z
S
(M11θ2,1−M22θ1,2+M12(θ2,2−θ1,1))dS Cisaillement :
−δWintS = Z
S
(T1(θ2+W,1) +T2(−θ1+W,2))dS
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 12 / 46
Intégration par partie, membrane
Z
S
N11U1,1dS= Z
S
((N11U1),1−N11,1U1)dS Z
S
N22U2,2dS= Z
S
((N22U2),2−N22,2U2)dS Z
S
N12U1,2dS= Z
S
((N12U1),2−N12,2U1)dS Z
S
N21U2,1dS= Z
S
((N21U2),1−N21,2U2)dS
−δWintM = Z
Γ
[(N11n1+N12n2)U1+ (N21n1+N22n2)U2]ds
− Z
S
[(N11,1+N12,2)U1+ (N21,1+N22,2)U2]dS
= Z
Γ
(N
∼.n).Uds− Z
S
div N
∼.UdS
Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Intégration par partie, flexion
Z
S
M11θ2,1dS= Z
S
((M11θ2),1−M11,1θ2)dS
− Z
S
M22θ1,2dS=−
Z
S
((M22θ1),2−M22,2θ1)dS Z
S
M12θ2,2dS= Z
S
((M12θ2),2−M12,2θ2)dS
− Z
S
M21θ1,1dS=−
Z
S
((M21θ1),1−M21,1θ1)dS
−δWintF = Z
Γ
[(M11n1+M12n2)θ2−(M21n1+M22n2)θ1]ds
− Z
S
[−(M11,1+M12,2)θ2+ (M21,1+M22,2)θ1]dS
= Z
Γ
(M
∼.n).Φds− Z
S
div M
∼.ΦdS
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 14 / 46
Intégration par partie, cisaillement
Z
S
T1W,1dS= Z
S
((T1W),1−T1,1W)dS Z
S
T2W,2dS= Z
S
((T2W),2−T2,2W)dS
−δWintS = Z
Γ
(T1n1+T2n2)Wds− Z
S
(T1,1+T2,2)WdS +
Z
S
(T1θ2−T2θ1)dS (provient de la rotation)
= Z
Γ
(T.n)Wds− Z
S
(divT W+T.Φ)dS
Plan
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Travail virtuel des efforts extérieurs, force de volume
δWextV = Z
V
fV.udV= Z
V
fV.(U+W e3+x3Φ)dV
= Z
S
(Uα Z
h
fαVdx3+W Z
h
f3Vdx3+ Φα Z
h
x3fαVdx3)dS
= Z
S
(Uαtα+Wp3+ Φαmα)dS
Densité surfacique d’effort de membrane : tα= Z
h
fαVdx3 Densité surfacique d’effort normal au plan de la plaque : p3=
Z
h
f3Vdx3
Couple surfacique (en général nul) : mα= Z
h
x3fαVdx3
Application du théorème des travaux virtuels Efforts extérieurs
Travail virtuel des efforts extérieurs, frontière de la plaque
δWextS = Z
∂V
fS.u dΣ = Z
∂V
fS.(U+W e3+x3Φ))dΣ
= Z
Γ
(Uα Z
h
fαSdx3+W Z
h
f3Sdx3+ Φα Z
h
x3fαSdx3)ds
= Z
Γ
(UαFα+WP3+ ΦαCα)ds
Densité linéique d’effort de membrane : Fα= Z
h
fαsdx3 Densité linéique d’effort normal au plan de la plaque : P3=
Z
h
f3sdx3
Couple surfacique : Cα= Z
h
x3fαsdx3
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 18 / 46
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Application du théorème des travaux virtuels Equilibre et conditions aux limites
Application du principe des travaux virtuels, termes sur S
On obtient les équations d’équilibre.
−δWint= Z
S
(div N
∼.U+div M
∼.Φ +divT W−T.Φ)dS δWext=
Z
S
(t.U+Wp3+ Φ.m)dS
Membrane
div N∼+t=0 Moments
div M
∼−T+m=0 Cisaillement transverse
div T+p3=0
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 20 / 46
Application du principe des travaux virtuels, termes sur Γ
On obtient les conditions aux limites.
δWint= Z
Γ
(N
∼.n).U+ (M
∼.n).Φ + (T.n)Wds δWext=
Z
Γ
(F.n+WP3+ Φ.C)ds
Membrane
N∼.n=F Moments
M∼.n=C Cisaillement transverse
T.n=P3
Application du théorème des travaux virtuels Equilibre et conditions aux limites
Comparaison avec la théorie des poutres (1)
Théorie des plaques épaisses Théorie des poutres Reissner–Mindlin Timoshenko
Equilibre Effort
Membrane div N
∼+t=0 N,1+t=0 longitudinal
Equilibre Equilibre
des moments div M∼ −T =0 M,1−T =0 du moment
Cisaillement Cisaillement
transverse div T+p3=0 T,1+p3=0 transverse Les deux théories supposent que la structure supporte le
cisaillement dans son épaisseur
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 22 / 46
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Loi de comportement
Etablissement de la loi de comportement
On considérera deux cas : Matériau isotrope (E ,ν)
σ11
σ22
σ12
= E 1−ν2
1 ν 0
ν 1 0
0 0 1−ν
ε11
ε22
ε12
σα3= E 1+νεα3
Matériau anisotrope
σ11
σ22
σ12
= E 1−ν2
Q11 Q12 Q16 Q21 Q22 Q26 Q61 Q62 Q66
ε11
ε22
2ε12
On négligera les cisaillements dans ce dernier cas (plaque mince)
Q11=c4 E n+s4 E t+2c2 s2(νtn E n+2µnt) Q22=s4 E n+c4 E t+2c2 s2(νtn E n+2µnt) Q66=c2 s2(E n+E t−2νtn E n) + (c2−s2)2µnt
Q12=c2 s2(E n+E t−4µnt) + (c4+s4)νtn E n Q16=−cs
c2 E n−s2 E t−(c2−s2)(νtn E n+2µnt) Q26=−cs
s2 E n−c2 E t+ (c2−s2)(νtn E n+2µnt)
avec E n=En/(1−νntνtn) E t=Et/(1−νntνtn)
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 24 / 46
Comportement de membrane, matériau isotrope
Par exemple : N11=
Z
h
σ11dx3= E 1−ν2
Z
h
(ε11+νε22)dx3
= E 1−ν2
Z
h
[(U1,1+x3θ2,1) +ν(U2,2−x3θ1,2)]dx3
= Eh
1−ν2(U1,1+νU2,2) (On a utilisé
Z
h
x3dx3=0) On a donc :
N11
N22
N12
= Eh 1−ν2
1 ν 0
ν 1 0
0 0 1−ν
U1,1
U2,2
(U1,2+U2,1)/2
Loi de comportement
Comportement en flexion, matériau isotrope
Par exemple : M11=
Z
h
x3σ11dx3= E 1−ν2
Z
h
(x3ε11+νx3ε22)dx3
= E 1−ν2
Z
h
(x3U1,1+x32θ2,1) +ν(x3U2,−x32θ1,2) dx3
= Eh
3
12(1−ν2)(θ2,1−νθ1,2) car Z
h
x3dx3=0
(On a utilisé Z
h
x3dx3=0 et Z
h
x32dx3= Z h/2
−h/2
x32dx3= h
3
12) On a donc :
M11 M22 M12
= Eh
3
12(1−ν2)
1 ν 0
ν 1 0
0 0 1−ν
θ2,1
−θ1,2
(θ2,2−θ1,1)/2
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 26 / 46
Comportement en cisaillement transverse, matériau isotrope
Par exemple :
T1= Z
hσ13dx3= E 1+ν
Z
hε13dx3
= E 1+ν
Z
h
(W,1+θ2,1)dx3
= Eh
1+ν(W,1+θ2,1)
On a donc :
T= Eh
1+ν(grad W+ Φ)
Loi de comportement
Comparaison avec la théorie des poutres (calcul de la flèche)
Plaque (ép. h) Poutre b×h Reissner–Mindlin Timoshenko
Cisaillement Cisaillement
transverse div T+p3=0 T,1+p3=0 transverse
Equilibre Equilibre
des moments div M∼−T =0 M,1−T=0 du moment
Angle M∼ = [D] Φ M=EIθ,1=Ebh
3
12 θ,1 Angle Flèche T = Eh
1+ν(grad W+ Φ) T=µS(V,1+θ) Flèche
avec[D] = Eh
3
12(1−ν2)
1 ν 0
ν 1 0
0 0 1−ν
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 28 / 46
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Plaque de Kirchhoff–Love
Hypothèse de plaque mince (Kirchhoff–Love)
Une normale à la surface de la plaque reste normale pendant la déformation, ce qui implique, dans
u=U+W e3+x3Φ
que grad W+ Φ =0 . Les cisaillements 23 et 31 sont donc nuls.
Condition cinématique :
−θ1+W,2=0 θ2+W,1=0 On ne considère plus les contraintes de cisaillement transverse :
T1=0 T2=0 Tenseur de courbure :
K∼ =
θ2,1 (θ2,2−θ1,1)/2 (θ2,2−θ1,1)/2 −θ1,2
=
−W,11 −W,12
−W,21 −W,22
Kαβ=−W,αβ
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 30 / 46
Définition des efforts intérieurs (plaque mince)
Variable associée définition : U1,1 N11=
Z
hσ11dx3
−W,11 M11= Z
h
σ11x3dx3
U2,2 N22= Z
h
σ22dx3 W,22 M22=
Z
h
σ22x3dx3 (U1,2+U2,1)/2 N12=
Z
h
σ12dx3
−W,12 M12= Z
hσ12x3dx3
N11et N12efforts normaux, N12cisaillement dans le plan de la plaque M11et M22moments de flexion, M12moment de torsion
Plaque de Kirchhoff–Love
Nouvelles équations d’équilibre pour les moments
T1,1+T2,2+p3=0 M11,1+M12,2−T1=0 M21,1+M22,2−T2=0
donne :
M11,11+2M12,2+M22,22+p3=0 soit :
div div M∼+p3=0 Mαβ,αβ+p3=0
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 32 / 46
Nouvelle expression des conditions aux limites
Il faut reprendre le principe des travaux virtuels, avec la seule variable W.
Changement uniquement pour la flexion :
−δWintF = Z
S
MαβKαβdS=− Z
S
MαβW,αβdS
On intègre par partie, deux fois ; ainsi :
M11W,11= (M11W,1),1−M11,1W,1= (M11W,1),1−(M11,1W),1+M11,11W On a donc :
des termes du genre M11,11, qui restent sur S et fournissent la condition d’équilibre des termes du genre M11W,1, qui vont surΓ, et fournissent une condition à la limite en couple (flexion seulement)
n.M∼.n=n.C=CF
des termes du genre M11,1W , qui vont surΓ, et fournissent une condition à la limite en force :
P3= d
ds(Mαβnατβ) +Mαβ,βnα
Plaque de Kirchhoff–Love
Nouvelle expression du comportement en flexion, matériau isotrope
A partir de :
M11 M22 M12
= Eh
3
12(1−ν2)
1 ν 0
ν 1 0
0 0 1−ν
−W,11
−W,22
−W,12
On a :
Mαβ=− Eh
3
12(1−ν2) νW,γγδαβ+ (1−ν)W,αβ D’où :
Mαβ,αβ=− Eh
3
12(1−ν2)W,αβαβ
Equation à résoudre pour W :
D∆∆W−p3=0 avec D= Eh
3
12(1−ν2)
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 34 / 46
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Plan
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Plaque rectangulaire (a × b) simplement supportée
Chargement sinusoïdal
p3=P0sin(πx1
a )sin(πx2 b )
W=p0a
2b2 π4D sin(πx2
b ) Solution de Navier
p3=
∑
∞ m=1∑
∞ n=1amnsin(mπx1
a )sin(nπx2 b )
W=a
4b4 π4D
∑
∞ m=1∑
∞ n=1amn
(m2b2+n2a2)2sin(mπx1
a )sin(nπx2
b ) Plaque carrée sous pression uniforme p0
Wmax=4p0a
4
π4D
Exemples Matériau isotrope
Plaque circulaire de rayon R en flexion
Chargement uniforme p0
Expression du Laplacien en cylindrique :
∆W=1 r
d dr
rdW
dr
La solution est de la forme : W(r) =p0r
3
64D+ar2ln r+br2+c ln r+d Cas d’une plaque pleine encastrée :
W(r) = p0
64D(R2−r2)2 Flèche maximale au centre :
Wmax=p0R
4
64D
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 38 / 46
1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Exemples Matériau anisotrope
Etablissement de la loi de comportement (matériau anisotrope)
termes de type «membrane» : N11=
Z
h
σ11dx3
= Z
h
(Q11ε11+Q12ε22+Q16ε12)dx3
= Z
h
(Q11(U1,1+θ2,1x3) +Q12(U2,2−θ1,2x3) +Q16(U1,2+θ2,2x3+U2,1−θ1,1x3))dx3
N11= Z
h
(Q11U1,1−Q11x3W,11)dx3 +
Z
h
(Q12U2,2−Q12x3W,22)dx3
+ Z
h
(Q16(U1,2+U2,1)−2Q16x3W,12)dx3
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 40 / 46
Etablissement de la loi de comportement (suite)
termes de type «flexion» : M11=
Z
h σ11x3dx3
= Z
h
(Q11ε11+Q12ε22+Q16ε12)x3dx3
= Z
h
(Q11(U1,1x3+θ2,1x32) +Q12(U2,2x3−θ1,2x32) +Q16(U1,2x3+θ2,2x32+U2,1x3−θ1,1x32))dx3
M11= Z
h
(Q11x3U1,1−Q11x32W,11)dx3 +
Z
h
(Q12x3U2,2−Q12x32W,22)dx3 +
Z
h
(Q16x3(U1,2+U2,1)−2Q16x32W,12)dx3
Exemples Matériau anisotrope
Forme matricielle de la loi de comportement
N11
N12
N12
M11 M22 M12
=
Q11 Q12 Q16 Q11x3 Q12x3 Q16x3
Q12 Q22 Q26 Q12x3 Q22x3 Q26x3
Q16 Q26 Q66 Q16x3 Q26x3 Q66x3
Q11x3 Q12x3 Q16x3 Q11x32 Q12x32 Q16x32 Q12x3 Q22x3 Q26x3 Q12x32 Q22x32 Q26x32 Q16x3 Q26x3 Q66x3 Q16x32 Q26x32 Q66x32
U,1 V,2 V,1+U,2
−W,11
−W,22
−2W,12
Pour une meilleure lecture, on a omis l’intégrale. Il faut lire en fait : Z
h
Q11dx3etc...
Les termes linéaires en x3produisent du couplage membrane–flexion. Ils sont nuls pour les plaques symétriques
La rigidité en flexion dépend de la séquence d’empilement
Georges Cailletaud (Centre des Matériaux/UMR 7633 ) Plaques 22 mai 2006 42 / 46
Structure de la matrice de comportement
Unités dans la loi de comportement
N/m ____
N
=
N/m | N ____ __ ____
N | N.m
− ____
m−1
Ridigité en traction, et en flexion : termes Q11et Q22
Rigidité en cisaillement dans le plan et en torsion : terme Q66
Exemples Matériau anisotrope
-20000 -10000 0 10000 20000 30000 40000 50000 60000 70000 80000
0 10 20 30 40 50 60 70 80 90
Qij (MPa)
angle (deg.)
Q11 Q22 Q66 Q12 Q16 Q26
Fibres à 0◦et à 90◦pour une bonne ridigité en traction et en flexion
Fibres à 45◦pour une bonne rigidité en cisaillement dans le plan et en torsion
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1 Cinématique, plaque épaisse de Reissner–Mindlin
2 Application du théorème des travaux virtuels Efforts intérieurs
Efforts extérieurs
Equilibre et conditions aux limites
3 Loi de comportement
4 Plaque de Kirchhoff–Love
5 Exemples
Matériau isotrope Matériau anisotrope Calcul des contraintes
Exemples Calcul des contraintes
Champ de contraintes approchées
Contraintes approchées dans chaque couche (i), d’épaisseur ei, en considérant l’effort de membrane et le moment
Effort normal (hi−et h+i cotes min et max de la couche) : Nαβi =
Z h+i
hi−
σαβdx3
Moment (hicote moyenne de la couche) : Mαβi =
Z hi+
h−i
σαβ(x3−hi)dx3
Composantes 11, 22, 12 : σαβ=
Nαβi ei +12
e2i Mαβi x3−hi
ei
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