CHAPITRE V : DESORDRE ELECTROSTATIQUE LOCAL : EFFET DE LA REPARTITION SPATIALE, DE L’ETAT DE
II.3 Utilisation du code pour l’amélioration de la compréhension des propriétés électriques dans le Si
II.3.2 Effet de la compensation du dopage sur les inhomogénéités de potentiel à l’échelle locale - mise en
Afin d’évaluer précisément l’effet de la compensation du dopage sur la répartition du potentiel à
l’échelle locale, nous présentons des résultats issus d’un jeu fixe de positions de dopants majoritaires et
minoritaires (ces deux distributions possédant le même nombre de dopants). L’effet de la compensation
du dopage est ensuite évalué en prenant en compte dans le calcul du potentiel électrique une fraction
variable de dopants minoritaires parmi ceux présents dans la distribution préétablie, en fonction du degré
de compensation étudié.
Afin de visualiser les dispersions de potentiel à l’échelle locale, nous avons choisi de présenter des
profils de potentiel (résultant d’une coupe dans les cartographies de potentiel calculées) (Cf. encart
Figure V-16). Pour vérifier si les paramètres de calcul utilisés à l’échelle du plan restent valables à
l’échelle locale, nous avons souhaité étudier l’influence de nb_pt_par_axe. La Figure V-16 présente
donc l’effet du maillage de l’espace utilisé (variable nb_pt_par_axe) sur les profils calculés.
Figure V-16: Effet de la variation du maillage sur le profil de potentiel calculé pour NA=1015cm-3 et K=0,2. L’encart présente l’origine du profil de potentiel tracé sur la figure.
Les motifs du profil de potentiel sont très similaires quelle que soit la valeur de nb_pt_par_axe utilisée.
Cela confirme le choix effectué plus haut de travailler avec nb_pt_par_axe=50.
La Figure V-17 présente les profils de potentiels obtenus pour N
A=10
15cm
-3et pour des degrés de
compensation K compris entre 0 et 0,9. Les cartographies de potentiel obtenues pour les valeurs de K
extrêmes, K=0 et K=0,9, y sont également représentées.
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Figure V-17: (a) Effet de la compensation du dopage sur les profils de potentiel dans le matériau, pour NA=1015cm-3 et T=300K. Les encarts représentent les cartographies de potentiel obtenues pour K=0 et pour K=0,9, (b) cartographie du type
de conductivité locale pour NA=1015cm-3 et K=0,9.
Quel que soit le degré de compensation, les profils sont centrés sur la valeur de kT/q, ce qui est en accord
avec les résultats présentés Figure V-10 et Figure V-11. Une dispersion croissante du potentiel est
obtenue avec l’augmentation du degré de compensation. Un facteur 2 existe en effet entre les écarts
de potentiel à la valeur moyenne, pour les cas K=0 et K=0,9 (malgré une valeur moyenne de potentiel
qui reste similaire).
Ces résultats confirment que la compensation du dopage est bien à l’origine d’inhomogénéités de
potentiel à l’échelle locale, qui pourraient aller jusqu’à l’inversion de type (Figure V-17-b). Le
paragraphe suivant a maintenant pour objectif de mettre en relation ces inhomogénéités de V avec les
chutes de mobilité dues à la compensation du dopage.
La Figure V-18 présente la variation avec le degré de compensation, de l’« écart moyen à la moyenne »
calculé sur les cartographies de potentiel effectuées pour N
A=10
15cm
-3à 300K.
Nous avons souhaité comparer la variation de ce paramètre avec un paramètre physique en lien direct
avec le transport des charges dans le matériau, et avons donc pensé à la confronter à la variation des
sections efficaces de capture des charges fixes. Cependant, ce paramètre est uniquement accessible via
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l’expression de la mobilité proposée par Klaassen, et il a déjà été montré que les sections efficaces de
capture issues de ce modèle n’étaient pas adaptées au cas du Si compensé [59]
La comparaison de l’ « écart moyen à la moyenne » avec les sections efficaces de capture n’est donc
pas effectuée ici. Toutefois, nous avons choisi de mettre en parallèle ce paramètre avec la réduction
relative de mobilité entre le modèle de Klaassen (qui surestime les valeurs de mobilité expérimentales
dans le Si compensé) et le modèle empirique de Schindler, qui nous l’avons vu, est adapté pour décrire
la variation de mobilité avec T dans le Si compensé. Pour rappel, ce sont les raisons de l’écart entre ces
deux modèles qui ne font pas consensus.
Figure V-18: Variation avec le degré de compensation (gauche) de la dispersion du potentiel dans le Si compensé (écart moyen à la moyenne) et (droite) de l’écart entre le modèle de mobilité de Klaassen [96] et celui de Schindler [88], donné en
pourcentage.