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L'effet de la charge électrique de surface sur le gain de l'amplificateur a onde progressive à l'état solide

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Academic year: 2021

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(1)

HAL Id: jpa-00207305

https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00207305

Submitted on 1 Jan 1972

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L’effet de la charge électrique de surface sur le gain de l’amplificateur a onde progressive à l’état solide

J. Thiennot

To cite this version:

J. Thiennot. L’effet de la charge électrique de surface sur le gain de l’amplificateur a onde progressive à l’état solide. Journal de Physique, 1972, 33 (8-9), pp.781-786. �10.1051/jphys:01972003308-9078100�.

�jpa-00207305�

(2)

L’EFFET DE LA CHARGE ÉLECTRIQUE DE SURFACE

SUR LE GAIN DE L’AMPLIFICATEUR A ONDE PROGRESSIVE

A L’ÉTAT SOLIDE

J. THIENNOT

Département PMT,

Centre National d’Etudes des

Télécommunications,

22-Lannion

(Reçu

le 14 mars

1972)

Résumé. 2014 On peut construire un amplificateur à onde progressive à l’état solide en appliquant

une ligne à retard électromagnétique contre une lame semiconductrice : il y a amplification quand

les électrons de surface se déplacent à une vitesse supérieure à la vitesse de phase de l’onde. Mais la charge de surface qui se forme par effet capacitif sur la paroi du semiconducteur en regard de la ligne réduira le gain dans des proportions considérables si des précautions très particulières ne sont prises.

Abstract. 2014 It is possible to build a solid-state traveling-wave amplifier by applying a slow-wave

circuit against a semiconducting slab : An amplification results when the drift velocity of electrons is greater than the phase velocity of the wave. But the capacitively induced surface charge which

appears on the semiconductor wall which faces the line will reduce the gain by a considerable amount unless very stringent precautions are taken.

Classification Physics abstracts :

05.10 - 17,28

1. Introduction. - On peut concevoir un

amplifica-

teur à onde

progressive

à l’état solide

qui

fonctionne

en utilisant le

couplage

d’un courant d’électrons dans un semi-conducteur et d’une onde électro-

magnétique

lente

guidée

par une structure conve- nable :

lorsque

les électrons sont

plus rapides

que

l’onde,

celle-ci doit être

amplifiée

et dans une situa-

tion idéale le

gain

peut être très élevé. Sumi

[1] ]

a

annoncé un

gain

de l’ordre de 200

dB/mm.

Malheu-

reusement

l’expérience [2]

ne montre rien de tel. Dans

un article

précédent [3]

nous avons montré que de nombreux

paramètres

comme

l’épaisseur

de l’isolant

qui sépare

la

ligne

du

semi-conducteur, l’épaisseur

de

celui-ci,

sa

conductivité,

et la

température qui

détermine la diffusion des

électrons,

peuvent avoir une influence néfaste sur le

gain.

Le fonctionnement du

dispositif

est encore altéré par la

charge

de surface continue

qui apparaît

par effet

capacitif

sur la face

du semiconducteur en

regard

de la

ligne,

c’est ce que

nous nous proposons d’étudier ici.

Nous

reprendrons

le

système représenté figure

1

où la

ligne

est schématisée par une feuille dont la conductivité est infinie dans une direction

qui

fait

un

angle 1/1 petit

avec la

perpendiculaire

dans son

plan

à la direction de

propagation [1 ], [3].

Pour

simplifier

les calculs nous

négligerons

la diffusion et nous sup- poserons que la conductivité du semiconducteur est

isotrope

et

indépendante

des

champs appliqués (nous

avons étudié dans

[3]

l’effet de la diffusion et celui de

l’anisotropie

de la

conductivité).

Si le ralentissement de la structure est

grand,

on

peut considérer que le

champ

d’une onde

qui s’y

propage dérive d’un

potentiel.

Le

champ qui règne

dans le semiconducteur est

analogue

au

champ qui régnerait

dans un

diélectrique,

la différence est

qu’il apparaît

une

charge

de surface

hyperfréquence

sous

l’action des courants

qui

naissent dans le semiconduc- teur et que cette

charge

détermine une discontinuité entre les composantes du

déplacement électrique

dans

le semiconducteur et dans les

diélectriques.

En l’absence de

charge

de surface continue cette

charge

se forme

uniquement

sous l’effet du courant

transverse dans le

semiconducteur, qui

est propor-

tionnel au

champ électrique

transverse. Les

champs

sont donc du même ordre de

grandeur

dans le semi-

Article published online by EDP Sciences and available at http://dx.doi.org/10.1051/jphys:01972003308-9078100

(3)

782

conducteur et dans l’isolant.

Quand

les électrons de surface sont

plus rapides

que l’onde le courant de surface dû au

déplacement

de la

charge

de surface est en

opposition

de

phase

avec le

champ électrique longitudinal

et il y a

amplification.

Quand

il existe une

charge

de surface

continue,

la

charge

de surface

hyperfréquence

se forme à la fois

sous l’effet du courant transverse et du mouvement

longitudinal

de la

charge

continue. Le courant trans- verse peut donc être considérablement réduit par rapport au cas

précédent

et il en est de même pour le

champ électrique

dans le

semiconducteur,

si bien que

l’énergie électromagnétique

se trouve confinée dans l’isolant.

Quand

les

charges

de surface sont

plus rapides

que l’onde il y a encore

amplification,

mais le

produit

du courant de surface par le

champ longitudinal

peut être fortement réduit et le

gain

considérablement diminué.

II.

L’équation

de

dispersion.

- Pour

préciser cela,

considérons la

propagation

d’une onde variant en

exp j(cvt - yz)

dans le

système

de la

figure

1. Le

champ

TM de cette onde dans le semiconducteur se

réduit en l’absence de diffusion au seul

champ

« de

Laplace »

Dans les

diélectriques (1)

et

(2)

de part et d’autre du semiconducteur on a de même :

L’onde de diffusion

qui

dans

[1]

et

[3]

se superpose

au

champ

« de

Laplace »

dans le semiconducteur se

réduit à une

charge

de surface

qui apparaît

sur les

deux

parois

du semiconducteur et que l’on peut écrire

La

charge

continue - nos e sera considérée comme une donnée du

problème indépendante

de z. En réalité

nos e varie avec z tout comme le

potentiel le long

du

semiconducteur mais nous pourrons en

général négli-

ger sa variation sur une

longueur

d’onde. Nous consi-

dérerons que nos est > 0 c’est-à-dire que la

charge

de surface se forme par accumulation d’électrons : cela

impose

le sens du

champ électrique

continu à la

surface. Si le

champ électrique

était dans l’autre sens

les électrons libres

disparaîtraient

sur une certaine

profondeur di’ = 1 nos/no 1

en laissant

uniquement

des

charges fixes,

ce

qui

revient à repousser la surface

« active » à l’intérieur du semiconducteur et à augmen-

ter d’autant

l’épaisseur di

de l’isolant

[4],

et réduit le

gain

de

façon importante [3].

nos s est

proportionnel

à la tension que supporte l’isolant

1, égale

à une cer-

taine fraction avo de la tension vo

appliquée

au semi-

conducteur sur la

longueur

1. Si la vitesse des élec- trons de surface est donnée par Vos = fts

voll (,us

étant

la mobilité de

surface),

il vient en éliminant vo

n1s et n2S sont liés par

l’équation

de continuité aux

courants et donc aux

champs

dans le semiconduc- teur

[4].

On a en x = 0

soit

d’où

et de même

(1 = no e,u est la conductivité de volume du semi- conducteur.

(1 = nos efls est la conductivité de surface.

Le

champ électrique longitudinal

est continu sur

les surfaces x = 0 et x =

ds :

et la

charge

de surface est

proportionnelle

à la discon-

tinuité de la composante transversale du

déplacement électrique :

En éliminant nis, n2s,

A, B, A2

entre les six der-

nières relations on obtient une relation entre

A

1 et

B1.

Les conditions aux limites sur la

ligne

à retard

nous en fournissent une autre

[1], [3] et

on peut déduire de ces deux relations

l’équation

de

dispersion

du sys- tème

yo est la constante de

propagation

le

long

de la

ligne isolée,

dont la vitesse de

phase

sera

désignée

par vcpo.

(4)

K1

=

ES/E1

et

K2

=

ES/E2

sont les rapports de la

permittivité

du semiconducteur à celles des diélec-

triques.

Wc =

(1/ es

est la

fréquence

de relaxation diélec-

trique

du semiconducteur et

Outre les

simplifications faites, l’éq. (10)

diffère

de

l’éq. (3.7)

de

[3]

pour deux raisons : la

charge

de surface

apparaît

dans

yu slu

et c’est la vitesse de surface vo

qui

intervient et non la vitesse du volume vo

(dans [1]

et

[3]

vos et vo sont en fait

confondues).

III. Effet de la

charge

de surface sur le

gain

du

dispositif.

- 3.1 SEUIL DE L’AMPLIFICATION. - Le seuil de

l’amplification,

atteint

quand

la vitesse des électrons est

égale

à la vitesse de

phase

de

l’onde,

est défini par úJ - yvo.,

= 0,

soit

f

= 0.

L’équation

de

dispersion (10)

s’écrit alors :

On retrouve

simplifiée l’éq. (4.6)

de

[3].

La

charge

de

surface, l’épaisseur

et la conductivité du semicon- ducteur n’ont aucun effet sur le seuil

qui

dans notre

modèle idéalisé

dépend uniquement

de

l’épaisseur

de

l’isolant. Si celle-ci est faible

(si y, di « 1,

ce

qui

est

un peu

plus

sévère que yo

di « 1), la

constante de

propagation

au seuil est donnée par

et la vitesse de surface des électrons au seuil par

3.2 EXPRESSION APPROCHÉE DE LA CONSTANTE DE PROPAGATION. - En

général

Wc > w et

alors 1 f 1

1.

Si la

charge

de surface est assez

importante

pour que

1 yu s/u 1 1 fi, 1 th yds 1, l’équation

de

dispersion

s’écrit en

première approximation

Si al >

di

le membre de droite de cette

équation

est faible devant

y2ô,

si bien que y reste voisin de y s

quel

que soit VOS. La solution en y se trouve donc au

voisinage

de ys. Si 7s

di; 1 l’équation

de

dispersion

se ramène à

On obtient finalement en tenant compte de

(5)

Cette

expression s’applique

d’autant mieux que vos et al sont

plus grands.

La vitesse de

phase

est

indépendante

de vo, et reste

égale

à la vitesse de seuil de

l’amplification.

Le

gain

est

indépendant

de

l’épaisseur

et de la conductivité du semiconducteur ainsi que des constantes diélec-

triques

des différents

milieux,

il

dépend uniquement

de

l’épaisseur

du

diélectrique (qui

détermine

vOss),

et

surtout du rapport de la tension que supporte l’iso- lant à la tension

appliquée

par unité de

longueur

au

semiconducteur. Il est d’autant

plus

faible que ce rapport est

plus grand.

Il est à noter que ce rapport

dépendant

de z, nous obtenons en fait le

gain

par unité de

longueur

pour une cote z

particulière,

et

qu’il

faudra faire une

intégration

selon z pour connaître le

gain

total de

l’amplificateur. Quand

vo

croît

au-des-

sus du seuil le

gain

tend

asymptotiquement

vers un

maximum

qui

est encore

indépendant

de

l’épaisseur

de l’isolant. Il devient donc

toujours supérieur

aux

grandes

vitesses au

gain

obtenu à

charge

de surface

nulle, qui

tend vers zéro

après

être

passé

par un

maximum ;

mais cela ne sera d’aucune utilité.

3.3 COURBES DE DISPERSION. - Ces résultats

apparaissent

nettement sur les courbes que nous avons obtenues en résolvant

numériquement l’équation

de

dispersion (10)

pour diverses valeurs du

paramètre

A = ayo 1. Nous avons

porté

en fonction de

vos/vQo

les variations des

parties

réelle et

imaginaire yR/Yo

et

y,/yo

de

7/10

pour un semiconducteur massif

(Fig.

2a et

2b),

pour une lame du même matériau

avec la même

épaisseur

d’isolant

(Fig.

3a et

3b)

et

pour la même lame semiconductrice avec un isolant

d’épaisseur plus

faible

(Fig.

4a et

4b).

Quand

A est

petit (A 0,1),

le

gain

reste pour vos faible voisin de celui que l’on obtient à

charge

de sur-

face

nulle, puis

au-delà du maximum s’en écarte pour devenir nettement

supérieur :

le

gain

croît alors

avec A.

Quand

A

grandit (A

>

0,2),

le

gain

s’écarte du

gain

à

charge

nulle dès que vos > 0. La croissance du

gain

au

voisinage

de voss est fortement

réduite,

d’autant

plus

que A est

grand,

et aux vitesses élevées le

gain

croît

asymptotiquement

vers son maximum comme

mentionné

précédemment.

Dans une réalisation

simpliste

du

dispositif

la

ligne

est

placée

au milieu d’un barreau semiconduc- teur

long

de 1 cm, on aura A = 75 pour une

longueur

d’onde de 400 p,

correspondant

à une vitesse de

phase

v~0 = 4 x

107 cm/s

à 1 GHz : le

gain

sera donc très

faible et il sera

impossible

de compenser les pertes de la

ligne.

Il sera même

préférable

de

polariser

différemment le semiconducteur de

façon

à

changer

le sens du

champ électrique

à la surface et à aug- menter

l’épaisseur

effective du

diélectrique.

Si l’on

utilise une

ligne

à

couplage capacitif

dont les

doigts

isolés les uns des autres auront une

largeur

de un

huitième de la

longueur

d’onde

guidée,

A variera

au niveau d’un

doigt

entre

z/8

et -

1t/8 :

cette varia-

(5)

784

FIG. 2. - Variations de la constante de propagation avec la vitesse des électrons (semiconducteur massif).

2a : Partie réelle 2b : Partie imaginaire

FIG. 3. - Variations de la constante de propagation avec la vitesse des électrons (lame semiconductrice) 3a : Partie réelle 3b : Partie imaginaire

(6)

FIG. 4. - Variations de la constante de propagation avec la vitesse des électrons (lame semiconductrice, isolant d’épaisseur réduite).

4a : Partie réelle 4b : Partie imaginaire.

tion est

beaucoup

trop

rapide

pour que le calcul

s’applique,

mais l’effet de la

charge

de surface sera

déjà

sensible.

IV. Conclusion. - La

charge

de surface continue

qui apparaît

par effet

capacitif

entre la

ligne

et le

semiconducteur a donc une influence néfaste sur le fonctionnement de

l’amplificateur. Lorsqu’elle

est

importante,

et ce sera vrai si l’on ne

prend

pas de

précautions particulières,

le

gain

est considérablement réduit et devient

indépendant

de

l’épaisseur

de l’iso-

lant,

de celle du semiconducteur et de la conductivité de ce dernier.

Il est donc inutile de chercher à

optimiser

ces diffé-

rents

paramètres

avant d’avoir réalisé une

ligne

en

tout

point

de

laquelle

le

potentiel

soit

égal

à celui du

semiconducteur au droit de ce

point.

Par

exemple

on pourra utiliser une

ligne

en méandre à

couplage capacitif [5]

dont les

doigts

extrêmes seront en

contact avec le semiconducteur

(les

autres étant

isolés).

La réalisation

technologique

sera difficile et coûteuse

car il faudra superposer un

grand

nombre de couches

successives avec une

grande précision.

Et le résultat

sera de

plus

incertain car il faudra ralentir l’onde

LE JOURNAL DE PHYSIQUE. - T. 33, 8-9, AOUT-SEPTEMBRE 1972

en dessous de la vitesse de surface des

électrons,

que l’on ne connaît pas mais

qui

est selon toute vraisem- blance

plus

faible que la vitesse de volume

qu’il

est

déjà

difficile d’atteindre. Une autre structure

possible

est la

ligne

en

épingle

à cheveux

[6], plus

facile à réali-

ser mais nettement différente du modèle

théorique

à cause de sa bande passante étroite et de sa vitesse de groupe faible et

négative (ce qui

a pour effet

supplé-

mentaire

d’augmenter

ses pertes

propres).

Par contre, il sera

beaucoup plus

facile d’utiliser

une

ligne

à retard à onde

acoustique

de surface cons-

truite avec un matériau

piézoélectrique [7].

Le

champ

dans le semiconducteur sera le même que dans la

géométrie étudiée,

le

principe

de

l’amplification

reste

le

même,

et les résultats de ce calcul comme ceux du calcul

précédent

permettent de

prévoir

l’effet sur le

gain

de

l’épaisseur

du

semiconducteur,

de celle de

l’isolant,

de la conductivité du

semiconducteur,

de

la diffusion des électrons et de l’existence d’une

charge

de surface

continue ;

on pourra par

exemple

utiliser

l’effet de celle-ci pour moduler en

amplitude

l’onde

acoustique,

en

plaçant l’amplificateur

entre les arma-

tures d’un condensateur et en faisant varier la tension

aux bornes de celui-ci.

52

(7)

786

Bibliographie [1 ] SUMI (M.), Jap. J. Appl. Phys., 1967, 6, 688.

[2] SUMI (M.) et SUZUKI (T.), Appl. Phys. Lett., 1968, 13,

326.

[3] THIENNOT (J.), J. Physique, 1972, 33, 219.

[4] KINO (G. S.), IEEE Trans. on Electron Devices, 1970,

ED. 17, 178.

[5] NEWHOUSE (V. L.) et FREEMAN (J. C.), IEEE Trans.

on Electron Devices, 1970, ED. 17, 383.

[6] BOLLJAHN (J. T.) et MATTHAEI (G. L.), Proc. IRE, 1962, 299.

[7] WHITE (R. M.), Proc. IEEE, 1970, 58, 1238.

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