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Spectroscopie de défauts ponctuels

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Academic year: 2021

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(1)

HAL Id: jpa-00205507

https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00205507

Submitted on 1 Jan 1963

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Spectroscopie de défauts ponctuels

M. Balkanski, E. da Silva, W. Nazarewicz

To cite this version:

M. Balkanski, E. da Silva, W. Nazarewicz. Spectroscopie de défauts ponctuels. Journal de Physique,

1963, 24 (7), pp.451-457. �10.1051/jphys:01963002407045100�. �jpa-00205507�

(2)

SPECTROSCOPIE DE DÉFAUTS PONCTUELS (1)

Par M. BALKANSKI, E. DA SILVA et W. NAZAREWICZ, Laboratoire de Physique de l’École Normale Supérieure, Paris, France.

Résumé.

2014

Étude des spectres d’absorption des impuretés neutres telles que l’oxygène, le

car-

bone et l’azote, dont la présence dans le Si donne des bandes de vibrations moléculaires à 9 03BC, 12,2 03BC

et 10,6 03BC respectivement.

Des défauts à haute densité créés par l’irradiation par neutrons rapides polarisent le réseau et rendent possible l’observation de l’interaction directe photon-phonon. Les spectres d’absorption infra-rouge due

aux

phonons simples sont constitués par des bandes à 488, 417 et 331 ainsi qu’à

140 cm-1, qui correspondent aux modes TO, LO, LA et TA respectivement. On détermine aussi à haute résolution les énergies du TO par exemple,

aux

points de maximum de densité de modes T, L, W et X qui sont respectivement 516,5 ± 1 ; 488,5 ± 1 ; 474 ± 1 et 447 ± 1.

Abstract.

2014

The absorption spectra of such impurities

as

oxygen, carbon and nitrogen

are

studied in the silicon lattice and molecular vibrations

are

obtained at 9 03BC, 12.2 03BC, and 10:6 03BC,

respectively.

High density defects, created by irradiation with fast neutrons, polarize the lattice and make it

possible to observe direct photon-phonon interaction. The infrared absorption spectra due to single phonons

are

composed of bands at 488, 417, and 331,

as

well

as

at 140 cm-1, corresponding

to modes TO, LO, ,LA, and TA, respectively. The énergies of TO, for example,

are

determined

un

under high resolution at the point of maximum density of modes at T, L, W and X. They are 516 . 5 ± 1; 488 . 5 ± 1; 474 ± 1 and 447 ± 1.

24, 1963,

1. Introduction.

-

Il est généralement admis

de grouper sous le nom de défauts ponctuels les imperfections du réseau cristallin centrées sur un

point singulier du cristal. Cette dénomination étant très vaste, il est possible d’y faire figurer toutes les imperfections à l’échelle atomique. Ces imperfec-

tions seront généralement de deux sortes : des per- turbations dans la position ou bien dans l’identité

des éléments structuraux du réseau idéal, formant

deux grands groupes : les défauts géométriques et

les défauts chimiques, ces derniers peuvent inter- venir aussi comme des défauts géométriques. Dans

un but de simplification et puisqu’ils sont large-

ment étudiés à titre de donneurs et accepteurs de porteurs libres dans les semi-conducteurs, on traite

souvent à part les imperfections par identité des éléments structuraux du cristal. Ce sont les atomes

étrangers au réseau capables d’accepter ou donner

un ou plusieurs électrons supplémentaires. Leurs propriétés remarquables proviennent essentielle- ment du fait qu’introduits dans le réseau ils

se

comportent comme des charges ponctuelles créant

un potentiel coulombien local réduit de la constante

diélectrique du milieu. Nous ne nous occuperons pas ici de ces impuretés électriquement actives.

Il en est une autre sorte d’imperfections par iden- tité constituées par des impuretés chimiques du

même groupe que les atomes du réseau, tel que C

,

dans les réseaux de Ge et de Si par exemple qui, pre- nant des positions interstitielles, constituent typi-

(i) Les recherches rapportées dans

ce

document ont été

subventionnées par Air Force Ofnce of Scientific Research, OAR par l’intermédiaire de

«

European Office, Aerospace

Research, United States Air Force ».

quement des défauts ponctuels. Ces défauts peuvent

être identifiés par leurs modes de vibrations molécu- laires lorsqu’elles sont couplées au champ du rayon- nement. Les spectres d’absorption optique obtenus

par cette interaction seront à rapprocher des spec- tres de vibration du réseau constitué par les deux atomes différents : SiC par exemple. Il devient pos-

sible d’identifier ainsi, non seulement la nature de

l’impureté, mais de déterminer aussi sa concen-

tration.

L’introduction de défauts ponctuels à une densité

très élevée au-delà de 1019 par exemple perturbe profondément le réseau et introduit une polarisa-

tion qui se traduit par l’apparition d’un moment dipolaire de premier ordre, normalement.nul dans

un réseau homopolaire. Du point de

vue

de la spec-

troscôpie, cette situation offre la possibilité d’étu-

dier le couplage entre photon-phonon simple, autre-

ment impossible, et d’établir les spectres des modes

fondamentaux des réseaux homopolaires. Ce n’est

pas une étude à proprement parler sur les défauts

ponctuels, mais plutôt sur les effets produits par de

grandes concentrations de tels défauts, elle conduit néanmoins à la connaissance de ces défauts si l’on identifie les modes locaux et surtout dans la mesure

où elle apporterait des renseignementg quant à la

nature des défauts créés par irradiation par des

rayonnements de hautes énergies.

Nous allons examiner dans te cas de Si ces deux

cas de spectroscopie des défauts.

z

2. Impuretés neutres.

-

Bien que leur impor-

tance semble avoir été initialement négligée, il

devient actuellement de plus en plus évident que

Article published online by EDP Sciences and available at http://dx.doi.org/10.1051/jphys:01963002407045100

(3)

452

des impuretés telles que l’oxygène, le carbone et

l’azote dans le Si par exemple jouent un rôle impor-

tant dans les propriétés mécaniques et électriques

de ce semi-conducteur. Les études des spectres d’absorption dans le domaine de l’infra-rouge ont

mis en évidence des bandes d’absorption lorsque de l’oxygène [1], du carbone [2], ou de l’azote [3] se

trouvent atomiquement dispersé dans le réseau

du Si.

,

Dans le cas de l’oxygène, on observe trois bandes

caractéristiques à 8,3, 9,0 et 19,5 u. La bande, la plus importante se trouve à 9 ,. Cette bande

se

trouve dans la région des modes fondamentaux des vibrations moléculaires dans la silice et les silicates

en général [4]. Ce fait indique que, lorsque l’oxy- gène est atomiquement dispersé dans le réseau de

Si, les bandes. d’absorption dans le spectre infra-

rouge correspondent aux vibrations moléculaires Si-0. Il est donc possible d’établir des relations

directes entre les bandes d’absorption caractéris-

tiques des impuretés et le nombre d’oscillateurs, par

conséquent le nombre d’atomes étrangers consti-

tuants des défauts ponctuels.

Dans le cas de l’oxygène, il a été établi que le maximum d’absorption à 9u est proportionnel à la

concentration d’oxygène déterminée par analyse

gazeuse de fusion sous vide.

FIG. 1. - Dosage de l’oxygène dans le silicium.

Concentration : 1) 3

x

1017 at. Crn-3,

°

2) 4 X 1017 at .cm-3, 3) 5 X 1017 at. cm-3, 4) 6 X 1017 at . cm‘3

La figure 1 donne

un

réseau de courbes repré-

sentant des pics d’absorption attribués à l’oxygène

en

concentration variable.

D’autres techniques de détermination de la teneur

en

oxygène, comme par exemple celles

basées

sur

l’effet de l’oxygène

sur

la précipitation

du Li, donnent des résultats

en

très bon accord

avec ceux obtenus par la détermination optique de

l’oxygène [5].

,

Des études aux rayons X menées avec

un

souci de haute précision et des déterminations de den-

sité [6], ainsi que l’analyse de la structure fine des spectres de l’oxygène dans Si, ont permis d’éta-

blir que l’oxygène occupe des positions intersti-

tielles [7] dans Si.

Lorsqu’on examine en absorption infra-rouge du

Si dans lequel

on a

pu introduire intentionnelle-

FIG. 2.

-

Absorption due à la présence de carbone dans le Silicium pour différentes concentrations.

ment une certaine quantité de carbone, on constate

une bande caractéristique du carbo ’ne-à, 12,2 y.

Cette bande est à rapprocher du pic de rayonne- ment restant dans le SiC (x-11 (hexagonal) par

exemple qui

se

trouve à 12,6 u. Aux mêmes fré-

°

quences à peu près, on observe aussi des bandes

d’absôrption dues à l’interaction des photons avec

des combinaisons de deux phonons, mais l’inten-

sité de ces bandes est faible, 2,3 cm-1 à 12,21 u

(4)

pour du Si pur, alors qu’en présence du carbone on

obtient des coefficients d’absorption jusqu’à

60 cm-1, et même supérieurs. Dans

ce

cas aussi,

en

admettant que le SiC est ionique avec 4,84 X 1022 paires d’ions par cm3, il est possible de calculer la concentration de carbone qui donnerait un coefn-

cient d’absorption de 10 cm-I par exemple. Il

devient donc possible de procéder à une détermi-

nation de la teneur en C du Si.

Un réseau de courbes représentant les spectres d’absorption du Si contenant différentes concen-

trations de C est donné

sur

la figure 2.

La présence d’azote aussi a été détectée dans le Si par l’identification d’une bande d’absorption

à 10,6 u. Cette bande correspond à l’absorption

fondamentale dans le Si,,N4.

On peut donc voir que des atomes du même groupe dispersés dans le réseau de Si occupant des positions interstitielles forment des défauts ponc- tuels qui peuvent être identifiés et dosés par leurs

spectres d’absorption infra-rouge.

3. Interaction entre impuretés neutres.

-

L’ana- lyse du comportement de l’oxygène dispersé atomi- quement a permis de déterminer la solubilité maxi-

mum dans le Si qui est de l’ordre de 2 X 1018 atomes par cm3 à la température de fusion. Lorsque des

cristaux contenant de l’oxygène sont traités à des

températures de plusieurs centaines de degrés

cen-

tigrades, on constate la formation de centres don- neurs dont la concentration peut atteindre jusqu’à

1017 at. cm,-3. La concentration de tels états peut

être mesurée par les méthodes faisant appel

aux

phénomènes de transport, puisque chaque centre

ainsi formé est capable de donner un électron libre dans la bande de conduction.

En mesurant simultanément la diminution de l’intensité de la bande à 9 u due à l’oxygène ato- mique et l’augmentation de la conductivité lors de tels traitements thermiques, il a été possible de

constater que la disparition de quatre atomes d’oxygène correspond à l’apparition d’un électron dans la bande de conduction. Kaiser [8]

a

suggéré

que les complexes [Si04] formés lors du traite- ment thermique constituent les centres donneurs.

Un autre effet d’interaction a été remarqué lorsque dans le même cristal de Si

on

constate la

présence de l’oxygène et du carbone simultané- ment. On contate tout d’abord une augmentation

de la solubilité d’oxygène en rapport

avec

la teneir

en

carbone. Des concentrations

en

oxygène allant jusqu’à 7 X 1019 cm-3 ont été déterminées pour

une

teneur de 4 X 1018 cm-3

en

carbone. D’autre part, la bande d’absorption à 12,2 u attribuée à la vibra- tion C-Si

se

trouve déplacée

vers

des longueurs d’ondes plus grandes.

Il serait intéressant de poursuivre ces études afin de donner des relations quantitatives de

ces

inter-

actions et de constater leur interaction avec les

paramètres du réseau.

4. E ff ets sur les propriétés fondamentales du réseau.

-

L’interaction du champ de rayonnement

avec les vibrations du réseau se traduit par des bandes d’absorption optique dans l’infra-rouge

attribuées aux moments dipolaires électriques du premier ou second ordre. Il est bien connu que, dans le cas des cristaux ioniques il y a un moment

dipolaire de premier ordre, l’absorption optique

consiste

en

une bande associée

aux

modes optiques

de vecteurs d’onde nuls. Dans le cas de réseaux

homopolaires le terme linéaire du moment dipo-

laire éle’etrique de premier ordre est absent, les

séries de bandes d’absorption optiques observées

dans l’infra-rouge sont attribuées à des moments

dipolaires d’ordre supérieur ou à des termes anhar- moniques dans l’énergie potentielle. Plutôt que d’une interaction photon-phonon, il s’agit ici de

l’interaction du photon avec des combinaisons de deux ou plusieurs phonons dont la somme des

vecteurs d’onde serait approximativement nulle.

L’interaction directe photon-phonon, interdite

par l’absence de moment dipolaire linéaire, pour- rait apparaître dans la mesure il serait possible

de polariser le réseau. L’introduction de défauts

ponctuels à très haute densité induit une telle pola-

risation et rend possible l’étude des spectres de phonons par les méthodes optiques.

Prenons dans

ce

cas aussi comme exemple le

silicium. Les cristaux de Si sont du type diamant.

Ce sont des cristaux homopolaires constitués par deux réseaux cubiques face centrée,s’interpénétrant

l’un étant déplacé par rapport à l’autre d’un quart

de la distance à la diagonale principale. Les dépla-

cements d’un des sous-réseaux par rapport à l’autre

ne donne pas un moment dipolaire à cause de la symétrie du cristal (Oh). Les modes fondamentaux de vibrations ne sont donc pas optiquement actifs.

Les transitions optiques observées dans le Si sont dues

au

couplage de phonons provenant de moment électrique de second ordre dus à des déformations dans la distribution de charges.

La théorie de l’absorption optique due

aux

vibrations de réseau homopolaire

a

été formulée

par Lax et Burstein [9]. L’interaction du champ de rayonnement

avec

le cristal est déterminée par le moment dipolaire électrique retardé M(u, kx) kx est le vecteur d’onde du rayonnement électro- magnétique et

u

représente l’ensemble des vec-

teurs de déplacement des atomes.

Dans

un

cristal où il n’y

a

pas de moment dipo-

laire, lorsque les atomes sont

au

repos, un dévelop-

pement

en

série du déplacement donne :

(5)

454

Dans cette expression, u(ln) est le vecteur de déplacement du n

ème

atome dans la 1

ième

cellule unitaire, x(ln)

=

x(l) + x(n) est le vecteur de posi-

tion d’équilibre de l’atome dans le réseau. M(n) et M(n’n", l’

-

l") sont les coefficients des moments

dipolaires du premier et second ordre du dévelop- pement. Ils peuvent être interprétés- comme la charge effective du n’

ilme

atome, le réseau étant

en

équilibre, M(n’), et comme la charge induite ’sur n’

due au déplacement u(l") du n" ième atome de sa

position d’équilibre M(n’ n", l’

-

l").

Le premier terme de cette équation correspond

à la partie linéaire du moment, les termes suivant

sont les termes d’ordre supérieur. La partie linéaire

de M donne des transitions vibrationnelles dans

lesquelles un phonon est créé ou détruit.

La partie quadratique donne lieu à des transi- tions à deux phonons. On peut construire l’élé- ment de matrice correspondant à la création de deux phonons, création d’un et la destruction d’un

ou à la destruction de deux phonons. La règle de

conservation de l’énergie interdit ce dernier pro- cessus, de ce fait nous restons avec les deux possi-

bilités conduisant à des

«

bandes additives » ou

à des

«

bandes soustractives

».

Des

«

bandes addi- tives

»

ont été observées dans de nombreux semi- conducteurs [10].

Le coefficient d’absorption que l’on peut calculer

pour l’interaction photon-phonon est proportionnel

à l’élément de matrice. du moment dipolaire :

ao. M(u. ka), «0 définit le vecteur de polarisation du rayonnement. La probabilité de transitions est différente de zéro seulement lorsque l’énergie et le

moment sont conservés. Ce fait permet d’établi

certaines règles de sélection notamment pour qu’il

y ait des transitions. de premier ordre, le vecteur

d’onde des modes normaux doit être égal

au

vecteur

d’onde du rayonnement :

Pour des transitions de second ordre, on doit

avoir :

Le vecteur d’onde du rayonnement doit être parallèle et égal en grandeur à la somme des vec-

teurs d’ondes des deux phonons qui sont créés.

Dans le cas de Si, les transitions de premier ordre

sont interdites. Il

a

été cependant démontré [9]

que l’on peut lever certaines des règles de sélection

très restrictives si des défauts sont présents dans le

réseau.

L’introduction d’impuretés dans le réseau modi-

fie profondément la structure électronique dans

son voisinage. L’effet important en

ce

qui nous

concerne ici est l’introduction d’une polarisation

dans le voisinage immédiat de l’impureté. Cette polarisation induite dans le réseau fait apparaitre

des termes linéaires dans le moment dipolaire électrique. La charge effective M(n’) dépendra de

l’atome n’, mais elle dépendra surtout de la posi-

tion (1’n’) dans laquelle l’impureté

a

été intro-

duite. Le terme additionnel introduit ainsi dans le moment électrique

va

dépendre de la distance Z’

-

1" et il diminuera rapidement lorsque cette

différence augmente, puisque. la présence d’un

défaut perturbe la structure électronique seule-

ment très localement. En l’absence des effets

d’amortissement, on peut donc s’attendre à obser-

ver des transitions s’exprimant par des bandes

d’absorption près des fréquences des modes fonda- mentaux optiques.

Si l’on admet dans l’interaction photon-phonon

que l’élément de matrice est une fonction monotone de la fréquence des phonons, l’allure du coefficient

d’absorption reflète en

ce

cas la distribution des

fréquences des modes normaux.

Van Hove [11] a mis en évidence que des maxima de densité des modes dans le spectre de vibration ont lieu dans certains points sur les sur-

faces de fréquence v(k) ; où i7k v(k)

=

0. De tels

points sont nommés points critiques.

J. C. Philips [12] a donné la position des points critiques résultant de la symétrie dans le réseau du

germanium (tableau 1) en appliquant des considé-

rations topologiques et la théorie des groupes.

_

TABLEAU 1

Tous ces résultats de Philips sont valables pour le silicium. D’autre part, il est possible d’admettre

que dans le réseau type

«

diamant » on a à faire

seulement aux points critiques dus aux propriétés

de symétrie.

Dans le tableau I l’indice de la lettre P donne

une caractéristique topologique des points cri- tiques (cet indice est le nombre d’axes dans la

zone réduite le long desquels v diminue si on s’éloigne d’un point critique)...

Ainsi nous voyons (tableau I) que toutes les branches ont les points critiques

aux

points sui-

vants dans la zone réduite :

,

Pour la branche TA, en plus, nous pouvons avoir

un

point critique au point de symétrie, 1, sur la

surface de la zone réduite.

Il est donc possible d’observer optiquement pour

un mode, TO par exemple, la structure fine dans

la bande d’absorption correspondante.

(6)

Les méthodes optiques s’avèrent dans ce sens

extrêmement prometteuses dans l’analyse du spectre de vibration du réseau et le tracé des

courbes de dispersion.

z

Étant donné l’intérêt fondamental d’une telle

étude, il

a

été d’abord nécessaire de rechercher des méthodes pour induire une polarisation suffisante

dans le réseau de Si. La façon la plus simple eut

été de doper Si à un taux de 1019-102° impu-

retés cm-3, mais si celles-ci sont des centres don-

neurs la densité de porteurs libres introduite ainsi

sera telle que la lumière sera très fortement absor- bée’dans toute la région de l’infra-rouge, et l’obser-

vation des bandes d’absorption dues à l’interac- tion photon-phonon par

ce

fait serait impossible.

La compensation des impuretés à très haute teneur étant chose difficile, nous avons eu recours pour

ces

études à l’irradiation des neutrons qui pro- duisent des défauts accepteurs et donneurs en

même quantité si bien que le silicium après l’irra-

diation est parfaitement compensé.

L’absorption optique de Si irradié aux neutrons

a

été étudiée d’abord par Fan et Spitzer [13].

D’autres études [14] ont développé et confi.rmé

ces

premiers résultats.

FIG. 3.

-

Absorption dans le silicium due

au

processus à double phonons (300 DK).

Le silicium utilisé dans nos expériences est initia- lement de haute résistivité. Les échantillons ont.

été irradiés à la température de l’azote liquide par des neutrons rapides à des doses de 1019 n jcm2 dans

le réateur du Centre d’Études Nucléaires de Gre- noble. Le nombre de défauts créés est estimé être de l’ordre de 1019 cm-3.

Dans toutes les expériences, les spectres de trans-

mission dans la région d’absorption due aux pho-

nons couplés (fige 3) ont été relevés avant et après

l’irradiation. L’identité de ces spectres montre

que la présence des défauts introduits par irradia- tion même à de très hautes densités ne modifie pas les propriétés vibrationnelles du réseau.

Les mesures de transmission et réflexion dans la

région de 670 à 250 cm-1 nous ont permis de tracer

les courbes du coefficient d’absorption en fonc-

tion du nombre d’onde données

sur

la figure 4.

FIG. 4.

-

Coefficient d’absorption

en

fonction7du-nombre

d’ondes pour du silicium irradié par 1019 neutrons rapides par em2.

On peut distinguer ici des bandes d’absorption à 488, 417 et 332 cm-1 et des bandes plus faibles à

544 et 526 cm-1 toutes dues à l’effet de l’irradia- tion. Les deux bandes à 613 et 566 cm-1 existent aussi dans Si non irradié comme on peut s’en

rendre compte sur la figure 4.

Sur la figure 5, sont données des courbes d’ab-

sorption du Si irradié et ensuite guéries par un trai- tement thermique à 200 °C pendant 150 minutes.

FIG. 5.

-

Effet d’un chauffage à 200 °C pendant 150

mn

pour

un

échantillon de silicium irradié.

-

Courbe

en

trait interrompu : coefficient d’absorp-

tion à 295 °K avant guérison.

-

Courbe

en

trait plein : après guérison.

(7)

456

Les bandes d’absorption à 488, 417 et 332 cm-1

sont attribuées à l’interaction de photons

avec

des phonons

aux

points du spectre des fréquences

la densité des modes

a

des maxima. Un quatrième pic est situé à 140 cm-1.

Pour un réseau tel que Si avec deux atomes par cellule unitaire; on doit s’attendre à six branches dans le spectre de phonons, mais deux bandes transverses optiques et deux transverses acous-

tique sont dégénérées dans les directions de symé-

trie de cristaux de type diamant, de sorte qu’aux points critiques

se

trouvent les maxima des densités de modes on doit distinguer les TO, LO,

LA et TA auxquels correspondent les bandes obte-

nues dans notre spectre à 488, 41.7, 332 et 140 cm-1.

Le premier de ces pics

se

trouve

au

voisinage des fréquences de vibrations fondamentales du réseau de Si déterminé par la fréquence fondamentale de Raman. En effet, la raie de Raman déterminée par la diffusion inélastique des neutrons [15] est à .518 ± cm-1 alors que la bande attribuée au TO

dans nos expériences est à 488 cm-’.

L’ensemble des bandes obtenues d’autre part coïncide très bien avec les énergies des phonons

calculées par d’autres méthodes, comme on peut le

constater d’après le tableau II : -.

TABLEAU II

Les températures caractéristiques indiquées sous

la colonne Jonhson sont calculées à partir de spectres de phonons couplés [16]. Les valeurs

données dans les colonnes 5, 6 et 7 sont tirées à partir des courbes de dispersion obtenues par dif-

fraction de neutrons lent. De telles mesures pour le silicium ont été récemment faites par Dol-

ling [15] pour trois directions cristallines : [111], [110] et [100].

Du côté des grands nombres d’ondes, deux

bandes,observées à 544 et 526 cm-1 pourraient

être attribuées à des modes localisés des défauts.

L’étude détaillée de ces bandes pourrait conduire

à des indications concernant la nature des défauts créés par 1’irradiation aux neutrons rapides qui

restent jusqu’à présent du domaine des hypo-

thèses.

En reprenant les mesures optiques avec une réso-

lution plus élevée, il nous a été possible de mettre

en évidence la structure fine du pic attribué à TO.

Cette bande se résout en quatre pics dont les fréquences correspondraient aux énergies de modes respectivement aux points critiques : P centre de

la zone (k

=

0, 0, 0), L centre de la face (111),

X centre de la face (100) et W sommet ayant

comme coordonnées du vecteur d’onde (1, 1/2, 0).

Ces résultats sont données sur la figure 6.

,

Ils constituent une confirmation supplémentaire

de l’idée qu’il s’agit bien ici de bandes dues à

l’interaction photon-phonon.

D’autre part, ils confirment les prévisions théo.

riques concernant le nombre de points critiques

pour la branche TO dans le réseau du type dia- mant,

ce

fait n’avait pas été mis en évidence expé-

rimentalement jusqu’à présent.

FIG. 6.

-

Transmission à 77 oR

sous

2

mm

du Silicium irradié par 1019 neutrons rapides par cm2.

z

La figure 7 compare nos résultats à ceux obtenus par Dolling [15] par diffusion de neutrons lents dans le Silicium.

Un seul écart pour la fréquence au point W qui

ne

se

trouve pas sur la face (110), pour laquelle

nous avons les résultats expérimentaux de Dolling.

(8)

Pour comparer avec

nos

mesures

on

peut cepen- dant admettre avec

une

bonne approximation que : v(W)

=

v(E) 1(3/4, 3/4, 0) et W(1, 1/2, 0)

Une justification de

ce

fait est que les calculs théoriques basés sur les différents modèles de force donnent

aux

points 1 et W des fréquences

de vibration TO très approchées.

L’accord est bon sauf le point X et on peut,

d’autre part, remarquer que la spectrométrie infra-

rouge permet ’de mesurer l’énergie des phonons

avec une plus grande précision que les mesures par diffusion de neutrons.

D’après quelques expériences préliminaires, il

semble que les différents pics de 10 subissent des vitesses de guérison différentes. Si ce fait se trou- vait confirmé, il est permis de penser que l’on serait capable d’en tirer des conclusions impor-

tantes quant aux symétries des défauts à l’orizine de la perturbation qui rend possible l’observation

de ces bandes,

FIG. 7.

-

Comparaison de

nos mesures avec

les résultats calculés à partir des courbes de dispersion obtenues par diffraction de neutrons lents par Dolling,

.

BIBLIOGRAPHIE

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Références

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