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Submitted on 1 Jan 1963
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Spectroscopie de défauts ponctuels
M. Balkanski, E. da Silva, W. Nazarewicz
To cite this version:
M. Balkanski, E. da Silva, W. Nazarewicz. Spectroscopie de défauts ponctuels. Journal de Physique,
1963, 24 (7), pp.451-457. �10.1051/jphys:01963002407045100�. �jpa-00205507�
SPECTROSCOPIE DE DÉFAUTS PONCTUELS (1)
Par M. BALKANSKI, E. DA SILVA et W. NAZAREWICZ, Laboratoire de Physique de l’École Normale Supérieure, Paris, France.
Résumé.
2014Étude des spectres d’absorption des impuretés neutres telles que l’oxygène, le
car-bone et l’azote, dont la présence dans le Si donne des bandes de vibrations moléculaires à 9 03BC, 12,2 03BC
et 10,6 03BC respectivement.
Des défauts à haute densité créés par l’irradiation par neutrons rapides polarisent le réseau et rendent possible l’observation de l’interaction directe photon-phonon. Les spectres d’absorption infra-rouge due
auxphonons simples sont constitués par des bandes à 488, 417 et 331 ainsi qu’à
140 cm-1, qui correspondent aux modes TO, LO, LA et TA respectivement. On détermine aussi à haute résolution les énergies du TO par exemple,
auxpoints de maximum de densité de modes T, L, W et X qui sont respectivement 516,5 ± 1 ; 488,5 ± 1 ; 474 ± 1 et 447 ± 1.
Abstract.
2014The absorption spectra of such impurities
asoxygen, carbon and nitrogen
arestudied in the silicon lattice and molecular vibrations
areobtained at 9 03BC, 12.2 03BC, and 10:6 03BC,
respectively.
High density defects, created by irradiation with fast neutrons, polarize the lattice and make it
possible to observe direct photon-phonon interaction. The infrared absorption spectra due to single phonons
arecomposed of bands at 488, 417, and 331,
aswell
asat 140 cm-1, corresponding
to modes TO, LO, ,LA, and TA, respectively. The énergies of TO, for example,
aredetermined
ununder high resolution at the point of maximum density of modes at T, L, W and X. They are 516 . 5 ± 1; 488 . 5 ± 1; 474 ± 1 and 447 ± 1.
24, 1963,
1. Introduction.
-Il est généralement admis
de grouper sous le nom de défauts ponctuels les imperfections du réseau cristallin centrées sur un
point singulier du cristal. Cette dénomination étant très vaste, il est possible d’y faire figurer toutes les imperfections à l’échelle atomique. Ces imperfec-
tions seront généralement de deux sortes : des per- turbations dans la position ou bien dans l’identité
des éléments structuraux du réseau idéal, formant
deux grands groupes : les défauts géométriques et
les défauts chimiques, ces derniers peuvent inter- venir aussi comme des défauts géométriques. Dans
un but de simplification et puisqu’ils sont large-
ment étudiés à titre de donneurs et accepteurs de porteurs libres dans les semi-conducteurs, on traite
souvent à part les imperfections par identité des éléments structuraux du cristal. Ce sont les atomes
étrangers au réseau capables d’accepter ou donner
un ou plusieurs électrons supplémentaires. Leurs propriétés remarquables proviennent essentielle- ment du fait qu’introduits dans le réseau ils
secomportent comme des charges ponctuelles créant
un potentiel coulombien local réduit de la constante
diélectrique du milieu. Nous ne nous occuperons pas ici de ces impuretés électriquement actives.
Il en est une autre sorte d’imperfections par iden- tité constituées par des impuretés chimiques du
même groupe que les atomes du réseau, tel que C
,
dans les réseaux de Ge et de Si par exemple qui, pre- nant des positions interstitielles, constituent typi-
(i) Les recherches rapportées dans
cedocument ont été
subventionnées par Air Force Ofnce of Scientific Research, OAR par l’intermédiaire de
«European Office, Aerospace
Research, United States Air Force ».
quement des défauts ponctuels. Ces défauts peuvent
être identifiés par leurs modes de vibrations molécu- laires lorsqu’elles sont couplées au champ du rayon- nement. Les spectres d’absorption optique obtenus
par cette interaction seront à rapprocher des spec- tres de vibration du réseau constitué par les deux atomes différents : SiC par exemple. Il devient pos-
sible d’identifier ainsi, non seulement la nature de
l’impureté, mais de déterminer aussi sa concen-
tration.
L’introduction de défauts ponctuels à une densité
très élevée au-delà de 1019 par exemple perturbe profondément le réseau et introduit une polarisa-
tion qui se traduit par l’apparition d’un moment dipolaire de premier ordre, normalement.nul dans
un réseau homopolaire. Du point de
vuede la spec-
troscôpie, cette situation offre la possibilité d’étu-
dier le couplage entre photon-phonon simple, autre-
ment impossible, et d’établir les spectres des modes
fondamentaux des réseaux homopolaires. Ce n’est
pas une étude à proprement parler sur les défauts
ponctuels, mais plutôt sur les effets produits par de
grandes concentrations de tels défauts, elle conduit néanmoins à la connaissance de ces défauts si l’on identifie les modes locaux et surtout dans la mesure
où elle apporterait des renseignementg quant à la
nature des défauts créés par irradiation par des
rayonnements de hautes énergies.
Nous allons examiner dans te cas de Si ces deux
cas de spectroscopie des défauts.
z2. Impuretés neutres.
-Bien que leur impor-
tance semble avoir été initialement négligée, il
devient actuellement de plus en plus évident que
Article published online by EDP Sciences and available at http://dx.doi.org/10.1051/jphys:01963002407045100
452
des impuretés telles que l’oxygène, le carbone et
l’azote dans le Si par exemple jouent un rôle impor-
tant dans les propriétés mécaniques et électriques
de ce semi-conducteur. Les études des spectres d’absorption dans le domaine de l’infra-rouge ont
mis en évidence des bandes d’absorption lorsque de l’oxygène [1], du carbone [2], ou de l’azote [3] se
trouvent atomiquement dispersé dans le réseau
du Si.
,Dans le cas de l’oxygène, on observe trois bandes
caractéristiques à 8,3, 9,0 et 19,5 u. La bande, la plus importante se trouve à 9 ,. Cette bande
setrouve dans la région des modes fondamentaux des vibrations moléculaires dans la silice et les silicates
en général [4]. Ce fait indique que, lorsque l’oxy- gène est atomiquement dispersé dans le réseau de
Si, les bandes. d’absorption dans le spectre infra-
rouge correspondent aux vibrations moléculaires Si-0. Il est donc possible d’établir des relations
directes entre les bandes d’absorption caractéris-
tiques des impuretés et le nombre d’oscillateurs, par
conséquent le nombre d’atomes étrangers consti-
tuants des défauts ponctuels.
Dans le cas de l’oxygène, il a été établi que le maximum d’absorption à 9u est proportionnel à la
concentration d’oxygène déterminée par analyse
gazeuse de fusion sous vide.
FIG. 1. - Dosage de l’oxygène dans le silicium.
Concentration : 1) 3
x1017 at. Crn-3,
’
’ °
2) 4 X 1017 at .cm-3, 3) 5 X 1017 at. cm-3, 4) 6 X 1017 at . cm‘3
La figure 1 donne
unréseau de courbes repré-
sentant des pics d’absorption attribués à l’oxygène
en
concentration variable.
D’autres techniques de détermination de la teneur
enoxygène, comme par exemple celles
basées
surl’effet de l’oxygène
surla précipitation
du Li, donnent des résultats
entrès bon accord
avec ceux obtenus par la détermination optique de
l’oxygène [5].
,Des études aux rayons X menées avec
unsouci de haute précision et des déterminations de den-
sité [6], ainsi que l’analyse de la structure fine des spectres de l’oxygène dans Si, ont permis d’éta-
blir que l’oxygène occupe des positions intersti-
tielles [7] dans Si.
Lorsqu’on examine en absorption infra-rouge du
Si dans lequel
on apu introduire intentionnelle-
FIG. 2.
-Absorption due à la présence de carbone dans le Silicium pour différentes concentrations.
ment une certaine quantité de carbone, on constate
une bande caractéristique du carbo ’ne-à, 12,2 y.
Cette bande est à rapprocher du pic de rayonne- ment restant dans le SiC (x-11 (hexagonal) par
exemple qui
setrouve à 12,6 u. Aux mêmes fré-
°
quences à peu près, on observe aussi des bandes
d’absôrption dues à l’interaction des photons avec
des combinaisons de deux phonons, mais l’inten-
sité de ces bandes est faible, 2,3 cm-1 à 12,21 u
pour du Si pur, alors qu’en présence du carbone on
obtient des coefficients d’absorption jusqu’à
60 cm-1, et même supérieurs. Dans
cecas aussi,
enadmettant que le SiC est ionique avec 4,84 X 1022 paires d’ions par cm3, il est possible de calculer la concentration de carbone qui donnerait un coefn-
cient d’absorption de 10 cm-I par exemple. Il
devient donc possible de procéder à une détermi-
nation de la teneur en C du Si.
Un réseau de courbes représentant les spectres d’absorption du Si contenant différentes concen-
trations de C est donné
surla figure 2.
La présence d’azote aussi a été détectée dans le Si par l’identification d’une bande d’absorption
à 10,6 u. Cette bande correspond à l’absorption
fondamentale dans le Si,,N4.
On peut donc voir que des atomes du même groupe dispersés dans le réseau de Si occupant des positions interstitielles forment des défauts ponc- tuels qui peuvent être identifiés et dosés par leurs
spectres d’absorption infra-rouge.
3. Interaction entre impuretés neutres.
-L’ana- lyse du comportement de l’oxygène dispersé atomi- quement a permis de déterminer la solubilité maxi-
mum dans le Si qui est de l’ordre de 2 X 1018 atomes par cm3 à la température de fusion. Lorsque des
cristaux contenant de l’oxygène sont traités à des
températures de plusieurs centaines de degrés
cen-tigrades, on constate la formation de centres don- neurs dont la concentration peut atteindre jusqu’à
1017 at. cm,-3. La concentration de tels états peut
être mesurée par les méthodes faisant appel
auxphénomènes de transport, puisque chaque centre
ainsi formé est capable de donner un électron libre dans la bande de conduction.
En mesurant simultanément la diminution de l’intensité de la bande à 9 u due à l’oxygène ato- mique et l’augmentation de la conductivité lors de tels traitements thermiques, il a été possible de
constater que la disparition de quatre atomes d’oxygène correspond à l’apparition d’un électron dans la bande de conduction. Kaiser [8]
asuggéré
que les complexes [Si04] formés lors du traite- ment thermique constituent les centres donneurs.
Un autre effet d’interaction a été remarqué lorsque dans le même cristal de Si
onconstate la
présence de l’oxygène et du carbone simultané- ment. On contate tout d’abord une augmentation
de la solubilité d’oxygène en rapport
avecla teneir
en
carbone. Des concentrations
enoxygène allant jusqu’à 7 X 1019 cm-3 ont été déterminées pour
uneteneur de 4 X 1018 cm-3
encarbone. D’autre part, la bande d’absorption à 12,2 u attribuée à la vibra- tion C-Si
setrouve déplacée
versdes longueurs d’ondes plus grandes.
Il serait intéressant de poursuivre ces études afin de donner des relations quantitatives de
cesinter-
actions et de constater leur interaction avec les
paramètres du réseau.
4. E ff ets sur les propriétés fondamentales du réseau.
-L’interaction du champ de rayonnement
avec les vibrations du réseau se traduit par des bandes d’absorption optique dans l’infra-rouge
attribuées aux moments dipolaires électriques du premier ou second ordre. Il est bien connu que, dans le cas des cristaux ioniques où il y a un moment
dipolaire de premier ordre, l’absorption optique
consiste
enune bande associée
auxmodes optiques
de vecteurs d’onde nuls. Dans le cas de réseaux
homopolaires où le terme linéaire du moment dipo-
laire éle’etrique de premier ordre est absent, les
séries de bandes d’absorption optiques observées
dans l’infra-rouge sont attribuées à des moments
dipolaires d’ordre supérieur ou à des termes anhar- moniques dans l’énergie potentielle. Plutôt que d’une interaction photon-phonon, il s’agit ici de
l’interaction du photon avec des combinaisons de deux ou plusieurs phonons dont la somme des
vecteurs d’onde serait approximativement nulle.
L’interaction directe photon-phonon, interdite
par l’absence de moment dipolaire linéaire, pour- rait apparaître dans la mesure où il serait possible
de polariser le réseau. L’introduction de défauts
ponctuels à très haute densité induit une telle pola-
risation et rend possible l’étude des spectres de phonons par les méthodes optiques.
Prenons dans
cecas aussi comme exemple le
silicium. Les cristaux de Si sont du type diamant.
Ce sont des cristaux homopolaires constitués par deux réseaux cubiques face centrée,s’interpénétrant
l’un étant déplacé par rapport à l’autre d’un quart
de la distance à la diagonale principale. Les dépla-
cements d’un des sous-réseaux par rapport à l’autre
ne donne pas un moment dipolaire à cause de la symétrie du cristal (Oh). Les modes fondamentaux de vibrations ne sont donc pas optiquement actifs.
Les transitions optiques observées dans le Si sont dues
aucouplage de phonons provenant de moment électrique de second ordre dus à des déformations dans la distribution de charges.
La théorie de l’absorption optique due
auxvibrations de réseau homopolaire
aété formulée
par Lax et Burstein [9]. L’interaction du champ de rayonnement
avecle cristal est déterminée par le moment dipolaire électrique retardé M(u, kx) où kx est le vecteur d’onde du rayonnement électro- magnétique et
ureprésente l’ensemble des vec-
teurs de déplacement des atomes.
Dans
uncristal où il n’y
apas de moment dipo-
laire, lorsque les atomes sont
aurepos, un dévelop-
pement
ensérie du déplacement donne :
454
Dans cette expression, u(ln) est le vecteur de déplacement du n
èmeatome dans la 1
ièmecellule unitaire, x(ln)
=x(l) + x(n) est le vecteur de posi-
tion d’équilibre de l’atome dans le réseau. M(n) et M(n’n", l’
-l") sont les coefficients des moments
dipolaires du premier et second ordre du dévelop- pement. Ils peuvent être interprétés- comme la charge effective du n’
ilmeatome, le réseau étant
enéquilibre, M(n’), et comme la charge induite ’sur n’
due au déplacement u(l") du n" ième atome de sa
position d’équilibre M(n’ n", l’
-l").
Le premier terme de cette équation correspond
à la partie linéaire du moment, les termes suivant
sont les termes d’ordre supérieur. La partie linéaire
de M donne des transitions vibrationnelles dans
lesquelles un phonon est créé ou détruit.
La partie quadratique donne lieu à des transi- tions à deux phonons. On peut construire l’élé- ment de matrice correspondant à la création de deux phonons, création d’un et la destruction d’un
ou à la destruction de deux phonons. La règle de
conservation de l’énergie interdit ce dernier pro- cessus, de ce fait nous restons avec les deux possi-
bilités conduisant à des
«bandes additives » ou
à des
«bandes soustractives
».Des
«bandes addi- tives
»ont été observées dans de nombreux semi- conducteurs [10].
Le coefficient d’absorption que l’on peut calculer
pour l’interaction photon-phonon est proportionnel
à l’élément de matrice. du moment dipolaire :
ao. M(u. ka), «0 définit le vecteur de polarisation du rayonnement. La probabilité de transitions est différente de zéro seulement lorsque l’énergie et le
moment sont conservés. Ce fait permet d’établi
certaines règles de sélection notamment pour qu’il
y ait des transitions. de premier ordre, le vecteur
d’onde des modes normaux doit être égal
auvecteur
d’onde du rayonnement :
Pour des transitions de second ordre, on doit
avoir :
Le vecteur d’onde du rayonnement doit être parallèle et égal en grandeur à la somme des vec-
teurs d’ondes des deux phonons qui sont créés.
Dans le cas de Si, les transitions de premier ordre
sont interdites. Il
aété cependant démontré [9]
que l’on peut lever certaines des règles de sélection
très restrictives si des défauts sont présents dans le
réseau.
L’introduction d’impuretés dans le réseau modi-
fie profondément la structure électronique dans
son voisinage. L’effet important en
cequi nous
concerne ici est l’introduction d’une polarisation
dans le voisinage immédiat de l’impureté. Cette polarisation induite dans le réseau fait apparaitre
des termes linéaires dans le moment dipolaire électrique. La charge effective M(n’) dépendra de
l’atome n’, mais elle dépendra surtout de la posi-
tion (1’n’) dans laquelle l’impureté
aété intro-
duite. Le terme additionnel introduit ainsi dans le moment électrique
vadépendre de la distance Z’
-1" et il diminuera rapidement lorsque cette
différence augmente, puisque. la présence d’un
défaut perturbe la structure électronique seule-
ment très localement. En l’absence des effets
d’amortissement, on peut donc s’attendre à obser-
ver des transitions s’exprimant par des bandes
d’absorption près des fréquences des modes fonda- mentaux optiques.
Si l’on admet dans l’interaction photon-phonon
que l’élément de matrice est une fonction monotone de la fréquence des phonons, l’allure du coefficient
d’absorption reflète en
cecas la distribution des
fréquences des modes normaux.
Van Hove [11] a mis en évidence que des maxima de densité des modes dans le spectre de vibration ont lieu dans certains points sur les sur-
faces de fréquence v(k) ; où i7k v(k)
=0. De tels
points sont nommés points critiques.
J. C. Philips [12] a donné la position des points critiques résultant de la symétrie dans le réseau du
germanium (tableau 1) en appliquant des considé-
rations topologiques et la théorie des groupes.
_TABLEAU 1
Tous ces résultats de Philips sont valables pour le silicium. D’autre part, il est possible d’admettre
que dans le réseau type
«diamant » on a à faire
seulement aux points critiques dus aux propriétés
de symétrie.
Dans le tableau I l’indice de la lettre P donne
une caractéristique topologique des points cri- tiques (cet indice est le nombre d’axes dans la
zone réduite le long desquels v diminue si on s’éloigne d’un point critique)...
Ainsi nous voyons (tableau I) que toutes les branches ont les points critiques
auxpoints sui-
vants dans la zone réduite :
,Pour la branche TA, en plus, nous pouvons avoir
un
point critique au point de symétrie, 1, sur la
surface de la zone réduite.
Il est donc possible d’observer optiquement pour
un mode, TO par exemple, la structure fine dans
la bande d’absorption correspondante.
Les méthodes optiques s’avèrent dans ce sens
extrêmement prometteuses dans l’analyse du spectre de vibration du réseau et le tracé des
courbes de dispersion.
zÉtant donné l’intérêt fondamental d’une telle
étude, il
aété d’abord nécessaire de rechercher des méthodes pour induire une polarisation suffisante
dans le réseau de Si. La façon la plus simple eut
été de doper Si à un taux de 1019-102° impu-
retés cm-3, mais si celles-ci sont des centres don-
neurs la densité de porteurs libres introduite ainsi
sera telle que la lumière sera très fortement absor- bée’dans toute la région de l’infra-rouge, et l’obser-
vation des bandes d’absorption dues à l’interac- tion photon-phonon par
cefait serait impossible.
La compensation des impuretés à très haute teneur étant chose difficile, nous avons eu recours pour
ces
études à l’irradiation des neutrons qui pro- duisent des défauts accepteurs et donneurs en
même quantité si bien que le silicium après l’irra-
diation est parfaitement compensé.
L’absorption optique de Si irradié aux neutrons
a
été étudiée d’abord par Fan et Spitzer [13].
D’autres études [14] ont développé et confi.rmé
ces
premiers résultats.
FIG. 3.
-Absorption dans le silicium due
auprocessus à double phonons (300 DK).
Le silicium utilisé dans nos expériences est initia- lement de haute résistivité. Les échantillons ont.
été irradiés à la température de l’azote liquide par des neutrons rapides à des doses de 1019 n jcm2 dans
le réateur du Centre d’Études Nucléaires de Gre- noble. Le nombre de défauts créés est estimé être de l’ordre de 1019 cm-3.
Dans toutes les expériences, les spectres de trans-
mission dans la région d’absorption due aux pho-
nons couplés (fige 3) ont été relevés avant et après
l’irradiation. L’identité de ces spectres montre
que la présence des défauts introduits par irradia- tion même à de très hautes densités ne modifie pas les propriétés vibrationnelles du réseau.
Les mesures de transmission et réflexion dans la
région de 670 à 250 cm-1 nous ont permis de tracer
les courbes du coefficient d’absorption en fonc-
tion du nombre d’onde données
surla figure 4.
FIG. 4.
-Coefficient d’absorption
enfonction7du-nombre
d’ondes pour du silicium irradié par 1019 neutrons rapides par em2.
On peut distinguer ici des bandes d’absorption à 488, 417 et 332 cm-1 et des bandes plus faibles à
544 et 526 cm-1 toutes dues à l’effet de l’irradia- tion. Les deux bandes à 613 et 566 cm-1 existent aussi dans Si non irradié comme on peut s’en
rendre compte sur la figure 4.
Sur la figure 5, sont données des courbes d’ab-
sorption du Si irradié et ensuite guéries par un trai- tement thermique à 200 °C pendant 150 minutes.
FIG. 5.
-Effet d’un chauffage à 200 °C pendant 150
mnpour
unéchantillon de silicium irradié.
-
Courbe
entrait interrompu : coefficient d’absorp-
tion à 295 °K avant guérison.
-
Courbe
entrait plein : après guérison.
456
Les bandes d’absorption à 488, 417 et 332 cm-1
sont attribuées à l’interaction de photons
avecdes phonons
auxpoints du spectre des fréquences où
la densité des modes
ades maxima. Un quatrième pic est situé à 140 cm-1.
Pour un réseau tel que Si avec deux atomes par cellule unitaire; on doit s’attendre à six branches dans le spectre de phonons, mais deux bandes transverses optiques et deux transverses acous-
tique sont dégénérées dans les directions de symé-
trie de cristaux de type diamant, de sorte qu’aux points critiques où
setrouvent les maxima des densités de modes on doit distinguer les TO, LO,
LA et TA auxquels correspondent les bandes obte-
nues dans notre spectre à 488, 41.7, 332 et 140 cm-1.
Le premier de ces pics
setrouve
auvoisinage des fréquences de vibrations fondamentales du réseau de Si déterminé par la fréquence fondamentale de Raman. En effet, la raie de Raman déterminée par la diffusion inélastique des neutrons [15] est à .518 ± cm-1 alors que la bande attribuée au TO
dans nos expériences est à 488 cm-’.
L’ensemble des bandes obtenues d’autre part coïncide très bien avec les énergies des phonons
calculées par d’autres méthodes, comme on peut le
constater d’après le tableau II : -.
TABLEAU II
Les températures caractéristiques indiquées sous
la colonne Jonhson sont calculées à partir de spectres de phonons couplés [16]. Les valeurs
données dans les colonnes 5, 6 et 7 sont tirées à partir des courbes de dispersion obtenues par dif-
fraction de neutrons lent. De telles mesures pour le silicium ont été récemment faites par Dol-
ling [15] pour trois directions cristallines : [111], [110] et [100].
Du côté des grands nombres d’ondes, deux
bandes,observées à 544 et 526 cm-1 pourraient
être attribuées à des modes localisés des défauts.
L’étude détaillée de ces bandes pourrait conduire
à des indications concernant la nature des défauts créés par 1’irradiation aux neutrons rapides qui
restent jusqu’à présent du domaine des hypo-
thèses.
En reprenant les mesures optiques avec une réso-
lution plus élevée, il nous a été possible de mettre
en évidence la structure fine du pic attribué à TO.
Cette bande se résout en quatre pics dont les fréquences correspondraient aux énergies de modes respectivement aux points critiques : P centre de
la zone (k
=0, 0, 0), L centre de la face (111),
X centre de la face (100) et W sommet ayant
comme coordonnées du vecteur d’onde (1, 1/2, 0).
Ces résultats sont données sur la figure 6.
,
Ils constituent une confirmation supplémentaire
de l’idée qu’il s’agit bien ici de bandes dues à
l’interaction photon-phonon.
D’autre part, ils confirment les prévisions théo.
riques concernant le nombre de points critiques
pour la branche TO dans le réseau du type dia- mant,
cefait n’avait pas été mis en évidence expé-
rimentalement jusqu’à présent.
FIG. 6.
-Transmission à 77 oR
sous2
mmdu Silicium irradié par 1019 neutrons rapides par cm2.
z
La figure 7 compare nos résultats à ceux obtenus par Dolling [15] par diffusion de neutrons lents dans le Silicium.
Un seul écart pour la fréquence au point W qui
ne
setrouve pas sur la face (110), pour laquelle
nous avons les résultats expérimentaux de Dolling.
Pour comparer avec
nosmesures
onpeut cepen- dant admettre avec
unebonne approximation que : v(W)
=v(E) où 1(3/4, 3/4, 0) et W(1, 1/2, 0)
Une justification de
cefait est que les calculs théoriques basés sur les différents modèles de force donnent
auxpoints 1 et W des fréquences
de vibration TO très approchées.
L’accord est bon sauf le point X et on peut,
d’autre part, remarquer que la spectrométrie infra-
rouge permet ’de mesurer l’énergie des phonons
avec une plus grande précision que les mesures par diffusion de neutrons.
D’après quelques expériences préliminaires, il
semble que les différents pics de 10 subissent des vitesses de guérison différentes. Si ce fait se trou- vait confirmé, il est permis de penser que l’on serait capable d’en tirer des conclusions impor-
tantes quant aux symétries des défauts à l’orizine de la perturbation qui rend possible l’observation
de ces bandes,
FIG. 7.
-Comparaison de
nos mesures avecles résultats calculés à partir des courbes de dispersion obtenues par diffraction de neutrons lents par Dolling,
.
BIBLIOGRAPHIE
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