Retargeting basé sur le modèle optique

Différentes targets vont donner différents résultats et ainsi différentes fenêtres de procédé. En effet, si le fait de modifier la target modifie la process window, cela im-plique qu’il existe une target optimale qui permet d’obtenir la fenêtre de procédé la plus importante. Il en découle donc une potentielle optimisation de la target afin d’obtenir la plus grand fenêtre de procédé.

Toutefois, les techniques de modification de la forme des motifs souhaités sont au-jourd’hui principalement basées sur des règles géométriques et appelées "rule based retargeting". Ces règles simples permettent ainsi de modifier les motifs au regard de leurs proches voisins géométriques. Aucune vérification, visant à confirmer qu’un tel déplacement du bord définissant le motif apporte un réel gain n’est effectuée. Seule l’expérience de l’utilisateur qui a présupposé du déplacement fera foi. L’ensemble du motif redessiné est bien testé, mais il est alors difficile de voir quels motifs ont été redessinés correctement.

Afin de s’affranchir d’un tel problème, une solution innovante a été proposée et une demande de dépôt de brevet est actuellement en cours. Cette solution propose un retargeting basé sur le modèle optique appelé "model based retargeting". Elle est basée sur plusieurs propositions simples listées ci-après, et permet de répondre aux exigences fixées en termes de rapidité et de résultats.

FIGURE 6.5 – Illustration de l’impact de la modification de la forme des motifs souhaités sur la source et sur la fenêtre de procédé. La forme ini-tiale des motifs en gris donne une première source ainsi qu’une première fenêtre de procédé. En modifiant cette forme de motifs pour la rendre plus facilement réalisable en lithographie, comme représenté en bleu, une nouvelle source peut être obtenue et une fenêtre de procédé plus importante en découle.

En effet, l’utilisation d’un processus basé sur l’image aérienne et non itératif nous permet une obtention rapide des résultats. Ce processus, ainsi que les explications associées peut être décrit comme suit :

– Afin d’augmenter la résistance du procédé au défocus, il est important que, au point de limite d’impression, l’intensité lumineuse ne soit pas ou peu impactée par un changement de valeur de focus. Si ce point de limite d’impression est situé sur un point dit isofocal^I, alors cette condition est respectée puisque l’intensité ne bouge pas lors d’une modification de focus. Le procédé est donc très résistant au défocus.

– Il est possible lors d’un retargeting de déplacer le point de limite d’impression, celui-ci étant situé en théorie sur, ou très près, des contours de la target. En dé-plaçant la target vers un point isofocal proche, il est donc possible d’augmenter la résistance du procédé vis à vis du défocus.

– Il apparait que certains bords ne sont pas situés proches de points isofocaux. La résistance de ces bords peut alors être renforcée, non plus au défocus mais à la

I. Un point isofocal est un point ou les courbes d’intensités lumineuse tracées pour différentes valeurs de focus se croisent.

6.4. L’impact de la forme du motif cible et SMTO

variation d’intensité lumineuse appelée dose.

– Pour ce faire, il est nécessaire qu’au point de limite d’impression, la pente soit maximale. En effet si la dose varie, elle se retrouvera décalée sans que la valeur de la constante de résine Threshold ne soit modifiée. Plus la valeur de la pente est grande, moins ce décalage de l’intensité n’aura d’impact sur l’endroit où les deux courbes vont se croiser. Ainsi, la résistance à la variation de dose sera meilleure. – Il est ainsi possible lors du retargeting, pour les motifs n’étant pas situés près de

points isofocaux, de décaler les bords de ces motifs afin que ces derniers se re-trouvent sur un point où la pente d’intensité est maximale.

Il résulte de ce processus de modification de la forme des motifs une nouvelle target qui devrait être plus résistante au procédé. Cependant, afin de pouvoir créer cette nouvelle target, il est important de modifier l’OPC. En effet, sans cette modification, la forme du masque resterait identique et la nouvelle target ne s’imprimerait pas. L’ensemble du procédé peut être représenté sur les graphiques 6.6 et 6.7.

FIGURE 6.6 – Illustration du retargeting model based développé durant cette thèse. Pour un motif simple (ici une ligne vue en coupe) possédant un OPC associé, il est possible de tracer les images aériennes en inten-sité pour différentes valeurs de focus. Les deux courbes se croisant en un point isofocal, les bords de la target du motif peuvent être déplacés dans un processus de retargeting jusqu’à concorder avec les points isofocaux. Un nouvel OPC doit alors être calculé afin de pouvoir réaliser cette nou-velle target.

Un tel retargeting est basé sur les simulations des images aériennes et lié au modèle optique utilisé. Il prend donc en considération la source optique et en dépend au sens où chaque source différente va donner des images aériennes différentes et donc une target différente.

FIGURE 6.7 – De la même façon, si un motif ne donne pas de point iso-focaux, il est possible de déplacer les bords de ce motifs jusqu’au point possédant la pente maximale sur l’image aérienne à focus nominal. De la même façon, un OPC doit être effectué après.