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Les masques en transmission

Chapitre 3 : Méthodes de production des profils de phase asymétriques

3.1 Les masques en transmission

La forme du profil de phase recherchée pour générer les faisceaux Bessel-Gauss à trajectoire courbée est relativement complexe. Elle ressemble quelque peu à une coupole parabolique tronquée (figure 2.3). L’alternative présentée pour construire cette forme est le dépôt de couches minces de verre sous vide. Il est bien connu que l’on peut produire des couches minces en laissant déposer de fines quantité de particules en suspension sur un élément optique [44]. L’épaisseur du dépôt à un endroit sur la lame est en fonction du

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temps d’exposition de cette lame aux fines particules. Cela dit, cette méthode produira un dépôt uniforme sur la lame.

La figure 3.1 montre un schéma simplifié d’une cloche sous vide. Si les particules en suspension proviennent du plafond jaune et se déposent sur la lame de verre en bleu, il est possible de contrôler le profil du dépôt avec un masque en transmission (ici en noir) qui bloque le dépôt à certains endroits. Dans l’exemple présenté à gauche, le masque bloque les trois quarts des particules, ce qui en fait en sorte que le dépôt sera fait sur un quart de la lame de verre. L’épaisseur du dépôt sera en fonction de la durée de l’exposition.

Figure 3.1 : Schéma simplifié de la construction d’un masque en transmission dans une cloche sous vide. La lame de verre est représentée par le cercle bleu. Le masque en transmission est représenté par la pièce noire. Le plafond en jaune représente l’endroit d’où proviennent les particules en suspension qui se déposeront sur la

lame de verre. (À gauche) Si le masque en transmission est stable, le dépôt de particules se fera qu’à un endroit fixe sur la lame de verre. (Au centre) Si le masque en transmission tourne avec une accélération

angulaire, le dépôt sur la lame de verre sera différent angulairement. (À droite) Si deux masques en

transmission tournent avec des vitesses angulaires (ω1 et ω2) et des accélérations angulaires (α1 et α2)

différentes, le dépôt sur la lame de verre sera différent angulairement et radialement.

Si le masque en transmission possède une vitesse angulaire constante ω selon l’axe de rotation vertical, le dépôt après une révolution sera évidemment uniforme partout sur la lame de verre. Cependant, si le masque possède une accélération angulaire α, le dépôt de verre se fera différemment. En regardant la figure 3.1 au centre, on remarque qu’il y a plus de dépôt au point A qu’au point B. Cela implique que lorsque l’ouverture du masque était au-dessus du point A, la vitesse angulaire ω était plus lente que lorsque cette même

A B

ω

ωω

ω, α, α, α, α

ω

ω

ω

ω

2222

, α, α, α, α

2222

ω

ωω

ω

1111

, α, α, α, α

1111

65 ouverture était au-dessus du point B. Cette méthode permet alors de contrôler le dépôt de façon angulaire, mais pas de façon radiale.

Pour obtenir la forme de la figure 2.3, un seul masque rotatif n’est pas suffisant. Il faut construire deux masques en transmission de forme différente qui tourneront simultanément avec des vitesses angulaires différentes (figure 3.1 à droite). De cette manière, il est possible de contrôler à la fois le dépôt de façon angulaire et radiale. Il faut maintenant connaître la forme des masques à utiliser.

Revenons à l’expression du trajet optique parabolique présentée à l’équation (10) et travaillons dans un cas en transmission (équation (11a)) pour obtenir le profil de phase Lt(r,θ). Si nous isolons r dans l’équation (10), nous pourrons connaître la forme que devra prendre le masque en transmission. Il n’y a cependant pas de façon simple d’exprimer cette nouvelle équation puisque r se retrouve dans deux racines carrées dans l’équation (10). Cela dit, l’expression se résout sans problème de façon numérique et peut simplement s’écrire comme étant une fonction de six paramètres.

 = Œ', (, 2, 7, %=>, < , 34

où, rappelons-le, ' est un paramètre de l’angle de l’axicon, a et yo sont des paramètres de la trajectoire parabolique, ndv est l’indice de réfraction du dépôt de verre et C est l’épaisseur maximale du dépôt de verre.

Si nous posons θ = π, nous obtenons le rayon r du profil de phase en fonction de l’épaisseur du dépôt de verre Lt(r,θ) dans la direction de l’axe y négatif. C’est selon cet axe que le dépôt sera le plus important, car il s’agit du trajet optique le plus court entre l’axicon et le point Basym.

Remarquons que seul un paramètre parmi les six de l’équation (34) est variable. Il s’agit de Lt. Nous savons que plus l’ouverture du masque en transmission est grande pour un rayon donné, plus il y aura de dépôt de verre à cet endroit. Si nous exprimons le dépôt de verre Lt

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sous une forme angulaire φ. Nous obtenons l’angle que doit avoir l’ouverture du masque pour un rayon donné. En d’autres mots, si le dépôt de verre Lt est important, l’angle d’ouverture φ sera plus grand. Si le dépôt est nul, l’angle d’ouverture sera également nul. La figure 3.2 à gauche montre l’expression de r (équation (34)) en fonction de φ (courbe rouge).

Figure 3.2 : (À gauche) Rayon du masque en transmission en fonction du dépôt de verre représenté par l’angle φ. (Au centre) Première forme du masque en transmission. (À droite) Optimisation de la surface en ramenant

l’angle le plus élevé du masque présenté au centre à 360o.

Un cercle vert de même rayon que l’axicon est superposé à la courbe rouge pour montrer la forme que prendra le masque. Nous obtenons alors l’image de la figure 3.2 au centre. La partie grise est opaque alors que la partie blanche laisse passer le dépôt. Il s’agit de la forme du masque recherché. Afin de maximiser le dépôt lors d’une rotation, il est possible d’étendre le profil sur l’ensemble du cercle et ainsi obtenir une forme de cardioïde présentée à la figure 3.2 à droite.

Maintenant, si cette forme est en rotation à vitesse angulaire constante (α1 = 0), nous obtiendrons un dépôt de verre en forme de coupole parabolique symétrique. Un faisceau Bessel traversant ce type de dépôt ne déviera pas. Il faut donc installer un second masque concentrique au-dessus du premier masque et dont sa vitesse angulaire sera variable. En

r [m] r [m]

67 fait, si nous regardons le profil de phase en transmission de la figure 2.3, le dépôt devra être plus important dans les y négatifs que dans les y positifs. C’est donc dire que la vitesse angulaire ω du second masque devra être plus petite dans les y négatifs que dans les y positifs. Selon l’expression de L(r,θ), nous savons que la relation entre le dépôt et l’angle θ est de forme cosinusoïdale. La figure 3.3 nous montre cette relation pour certaines valeurs de r.

Figure 3.3 : (À gauche) Dépôt angulaire de forme cosinusoïdale pour cinq anneaux de rayon r = 0,001 m à r = 0,005 m. (À droite) Superposition des deux masques en transmission.

Le second masque doit donc prendre la forme d’un arc de cercle au-dessus du premier masque. Les deux masques seront concentriques et tourneront dans le même sens. Le masque 1 produit le profil au niveau radial et le masque 2 produit le profil au niveau angulaire. Le premier masque aura une vitesse angulaire ω1 constante alors que le second aura une vitesse angulaire ω2 non uniforme comme le montre la figure 3.3 à gauche.

Au niveau mathématique, il est possible de déterminer la vitesse angulaire ω2 du second masque. Le graphique montre bien un lien cosinusoïdal entre le dépôt Lt et l’angle θ. Nous pouvons d’ailleurs écrire que :

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(= -2 1 − cos" 35

où Lmax est le dépôt le plus épais fait sur la lame de verre. Ce dépôt est fait lorsque θ = π, à la circonférence de la lame de verre. Nous savons que Lt est directement proportionnel au temps d’exposition de la lame de verre qui est lié à la vitesse de déposition des particules de verre. Nous appellerons ce temps d’exposition texp. Nous pouvons écrire le lien suivant :

- ( =

1x-z,-

1x-z 36

où texp, max est le temps d’exposition lié au dépôt maximal discuté plus tôt. En remplaçant l’équation (36) dans l’équation (35) et en isolant θ, nous obtenons :

" = 2 ! 91 −121x-z

x-z,-: 37

En dérivant cette expression selon texp et en remplaçant texp, max par :

1x-z,-= Ž-

=éz 38

où vdép est la vitesse de déposition des particules de verre sur la lame de verre dans la cloche sous vide, nous obtenons la variation de la vitesse angulaire ω2 du masque en fonction du temps d’exposition (équation (39)), ce qui nous permettra de produire le profil de phase de la figure 2.3. Le graphique de cette équation est présenté à la figure 3.4.

‘ = 2Ž=éz

-81 − R21x-z-Ž=éz − 1U

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Figure 3.4 : Graphique de la vitesse angulaire ω2 du masque 2 pour un tour complet en fonction du temps

pour un cas où vdép = 1 nm/s et Lmax = 10 µm.

Dans des conditions optimales dans les laboratoires de l’Université Laval, cette première méthode est réalisable et peut donner des profils de phase pouvant atteindre une précision de surface de λ/15 [44]. Lorsque les procédés utilisés sont optimaux (expertise en optique asphérique, salle blanche, etc), les irrégularités de surface se retrouvent dans l’ordre du 1 µm ce qui convient à notre type d’expérience [44]. De plus, le dépôt de verre peut être fait plusieurs fois sur la même lame de verre ce qui permet d’augmenter la limite que peut avoir l’épaisseur du profil de phase.

Cette méthode de fabrication du masque en transmission présente quelques désavantages. La construction d’un masque demande un alignement de haute précision entre les deux masques de transmission. De plus, une fois le profil de phase effectué, il est impossible de le modifier facilement. Travailler avec d’autres paramètres de courbure implique la fabrication d’une nouvelle lame de verre avec un nouveau profil de phase. Il faut donc construire un ensemble de masques uniques pour chaque forme de trajectoires de courbure désirée, ce qui peut être fastidieux et onéreux.