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(1)SOMMAIRE i-iii Introduction Chapitre I: Electrodéposition des films métalliques I.1 Quelques définitions et notions générales

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SOMMAIRE

i-iii

01 01 02 02 02 03 04 06 06 07 10

12 12 13 14 17 19 19 20 21

22 23

26 26 27 Introduction

Chapitre I: Electrodéposition des films métalliques

I.1 Quelques définitions et notions générales……….

I.1.1 Potentiel de Nernst………..

I.1.2 Électrodes…..……….

I.1.2.a Électrode de référence………..

I.1.2.b Électrode auxiliaire ………...

I.1.2.c Électrode normale à hydrogène………...

I.1.3 Échelle standard des potentiels d'oxydoréduction et son utilisation….…..

I. 1.3.1 Diagrammes potentiel-pH ... ………..

a) Généralités ………....

b) Diagramme potentiel-pH du Nickel………...

I.2 Mécanisme des réactions électrochimiques ………..

I.3 Nucléation et croissance cristalline en milieu liquide (point de vue électrochimique)………..

I.3.1 Généralités………..

I.3.2 Nucléation et croissance électrochimique ……….

I.3.3 Mécanisme de l'électrocristallisation……….

I.3.4 Modèles pour la nucléation………

I.4 Electrodéposition des films métalliques...

I.4.1 Généralités……….

I.4.2 Le procédé électrochimique ………..

I.4.3 Effet des substrats………..

I.5 Etude de la cinétique de dépôt de nickel dans des bains de sulfate, chlorure et Watts (Rappel bibliographique)………...

Références bibliographiques ……….

Chapitre II: Méthodes et techniques expérimentales

II.1 Dispositifs expérimentaux et élaboration des films métalliques………….

II.1.1 Montage classique à trois électrodes………

II.1.2 Tensions appliqués à l'électrode de travail ………..

(2)

27 27 28 28 29 32 33 33 35 38 40

41 41 45 47 48 48 48 49 50 50 52 53 54 54 55 56 56 58 59 II.1.3 Dépôt électrochimique du nickel………...

II.1.3.1 L'électrolyte employé et les conditions de dépôts ………

II.2 Méthode de caractérisation des dépôts………...

II.2.1 Caractérisation électrochimique ………..

II.2.1.a La voltampérométrie cyclique ……….

II.2.2.b La chronoampérométrie………..

II.2.2 Caractérisation morphologique et structurale ………..

II.2.2.a Microscopie à force atomique (AFM)………...

II.2.2.b Diffraction des rayons X (XRD)………...

II.2.3 Caractérisation magnétique………..

Références bibliographiques………..

Chapitre III: Cinétique, nucléation et propriétés des dépôts de nickel III.1 Etude électrochimique………....

III.1.1 Voltamétrie cyclique………

III.1.2 Influence de la vitesse de balayage………..

III.1.3 Influence de la concentration des ions de nickel……….

III.2 Elaboration des films de nickel………..

III.2.1 Bain sulfate……..………

III.2.1.1 Comportement en chronoampérométrie ……….

III.2.1.2 Nucléation et croissance des dépôts ………...

III.2.1.3 Caractérisation des dépôts ………..

III.2.1.3.a Caractérisation morphologique ………...

III.2.1.3.b Caractérisation structurale………

III.2.1.3.c Caractérisation magnétique………...

III.2.2 Bain chlorures………..………

III.2.2.1 Comportement en chronoampérométrie ……….

III.2.2.2 Nucléation et croissance des dépôts ………..

III.2.2.3 Caractérisation des dépôts ……….

III.2.2.3.a Caractérisation morphologique ………...

III.2.2.3.b Caractérisation structurale……….

III.2.2.3.c Caractérisation magnétique………...

(3)

60 60 61 62 62 65 65 67 68 69 III.2.3 Bain Watts………...………

III.2.3.1 Comportement en chronoampérométrie ………..

III.2.3.2 Nucléation et croissance des dépôts ………...

III.2.3.3 Caractérisation des dépôts ………...

III.2.3.3.a Caractérisation morphologique……….

III.2.3.3.b Caractérisation structurale……….

III.2.3.3.c Caractérisation magnétique………....

Conclusion du chapitre III………...

Références bibliographiques ……….

Conclusion……….

Références

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