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Etude des semi-conducteurs en régime variable (suite).
II. Cas d’un courant alternatif. Conclusions
Georges Déchêne
To cite this version:
ETUDE DES SEMI-CONDUCTEURS EN
RÉGIME
VARIABLE(suite).
II. CAS D’UN COURANT ALTERNATIF. CONCLUSIONSPar M. GEORGES DÉCHÊNE.
Faculté des Sciences de
Montpellier.
Sommaire. 2014 Dans un
premier article, on a étudié le régime d’établissement d’un courant continu dans
un semi-conducteur et on a expliqué les résultats en assimilant la surface de séparation d’un métal et d’un semi-conducteur à un condensateur shunté par une résistance de contact. Lorsqu’un semi-conducteur est
soumis à une tension alternative, le courant, par suite de l’existence des capacités de contact, est en avance de
phase d’un angle ~ sur la tension. En déterminant expérimentalement l’angle ~ (à l’aide d’un oscillographe
cathodique), on a pu calculer les valeurs des capacités de contact ; les résultats concordent avec ceux obtenus en
courant continu. La principale conclusion qui se dégage de ces déterminations est la suivante : la variation
rapide du potentiel au contact métal, semi-conducteur s’étend dans la substance d’autant plus profondément
que la résistivité est plus grande ; on en déduit que l’hypothèse, devenue classique, d’une couche isolante sépa-rant les deux milieux (couche d’arrêt) ne peut interpréter convenablement les propriétés du contact.
1. Introduction.
Dans un
premier
article(Journal
dePhysique,
1939,
p.124)
j’ai
étudié, théoriquement
etexpérimen-talement,
lerégime
d’établissement d’un courantcon-Fig. 1.
tinu dans un semi-conducteur. Pour
interpréter
lesrésultats, j’ai
admis que,lorsqu’une
massesemi-con-ductrice est
placée
entre deux électrodesmétalliques,
chacun des contactspeut
être assimilé à uncondensa-teur
(c,
c’)
shunté par une résistance de contact(r,
r’) ;
les deux condensateurs sont
séparés
par la résistanceohmique
R de la substance(fig.
1).
Lorsqu’une
tension alternative y =V m
cos mt estétablie entre les
électrodes,
le courant i= 1,~~
cos(cot
+cp)
est,
par suite de l’existence descapacités
decontact,
en avance de
phase
d’unangle
cp sur la tension etl’im édance ~,
p= ym
est différente de la résistancez m
mesurée en courant continu.
J’ai déterminé
expérimentalement
la valeur del’angle ?
à l’aide d’unoscillographe cathodique et j’en
ai déduit une nouvelle méthode de détermination des
capacités
de contact.II. Etude
expérimentale
etthéorique
d’un semi-conducteur en courant alternatif.A) Dispositif
expérimental.
- Ledispositif
expé-rimental est semblable à celui décrit dans l’article
précédent (I,
p.125, fig.
3 et4) auquel
le lecteurest
prié
de bien vouloir sereporter.
Mais ledisque
tournant n’intervient
plus
et la source alternative estfournie par la commutatrice G elle-même, Avec les semi-conducteurs de forte
résistivité,
on a étéobligé,
pour avoir une chute de
potentiel
suffisante dans larésistance,
d’utiliser une tension alternativeplus
éle-vée
(1 000
V efficaces parexemple)
fournie par untransformateur dont le
primaire
est relié aux bornesde la commutatrice. La déviation du
spot
lumineux dans le sens vertical(proportionnelle
ài)
n’étant pasen
phase
avec la déviation dans le sens vertical(pro-portionnelle
àV),
la courbe tracée sur le fondfluo-rescent de
l’oscillographe
a une formeelliptique
(fig. 2) ;
l’avance dephase ç
du courant sur la tensionpeut
se déterminer sur cette courbe.Fig. 2.
°
B)
Etudethéorique
d’un semi-conducteur encourant alternatif. - Cas
général.
- Unconden-sateur de
capacité
C shunté par une résistance r estéquivalent
à unerésistance - il-
en série avec1 + C2 (02r2
, cwr2
une
capacitance
.2013201320132013,-o.
.1 +
On en
déduit,
pour un semi-conducteurreprésenté
schématiquement
par lafigure
1 :196
Fig. 3.
Etude de cas
particuliers.
- 1~ Cas. - Uneseule électrode
possède
une résistance de contact(r’
=0) ;
les formulesprécédentes
deviennent :L’angle
p, nul pour m = 0 et Ci) =oo, passe, pour
par un maximum cpm
la
figure
3représente,
pour divers casparticuliers
.
courbe 1: r
= ~;
courbe 2 : r= R
=5R ,
la variation de
tg CF
en fonction de les courbes tracées ont un axe desymétrie
vertical. La formuleFig. 4.
21 montre que 9m reste faible si r est peu
important
par
rapport
à jar( pour r = ,
tg
0,024 ;
c’estp pp
B 0 /
bien ce
qu’indique l’expérience ;
dansbeaucoup
de cas, on nepeut
obtenir un tracé nettementelliptique
quelorsque r
a été suffisamment accru par un passageprolongé
du courant.L’impédance
0B.,égale
à la résistance totale R + rdu semi-conducteur pour les faibles
fréquences
décroîtprogressivement
et se réduit à la résistanceohmique
R auxfréquences
élevées ;
lafigure
4indique
la variation
de
en fonction delo g
0 pour diversesvaleurs du
rapport r
courbe
1 :r == 2;
courbe 2 :B 2
r =
R ;
courbe 3 : r =5 R) (1).
2e Cas: cr =
c’r’;
les formulesgénérales
(17)
et(18)
deviennent
Fig. 5.
(1) Le cas d’un semi-conducteur dont un des contacts possède
une capacité a déjà été envisagée à propos de l’oxyde cuivreux et
du sélénium (SCHOTTKY et DEUTSCHMANN, Phys. Z., 1929, 30, 839,
MEYER et SCHMIDT, Z. Tech. Phys., 1933, 14, p. 11 ; § WOOD,
Rea. s. Inst., 1933, 4, p. 434). Ces divers auteurs déterminent pour
chaque fréquence la résistance équivalente x et la réactance y;
quand on fait varier la fréquence. on démontre que la courbe qui
donne la variation de y en fonction de x est un demi-cercle.
~ LIANDRAT
(Journal de Physique, 1934, 5, p. 181) a montré que le diagramme d’impédance reste circulaire pour un
Fig. 6.
Un cas
particulier
intéressant est celui où les deuxcontacts sont
identiques
(r = r’ ; c = c’) ;
onpeut
alors écrire :
’
les
figures
5 et 6indiquent
pourplusieurs
valeurs durapport Fi
courbe
1 : r== ’2;
courbe 2 : r ==7?;
courbe 3 : r =
5R)
a les variations de
tg cp
etde
anù
fonction de
log cwr;
les courbes ontftt
même allureque dans le cas
précédent
(fig.
3 et4) ;
quand
(ù croit de 0 àl’infini, d1
varie de R + 2 r à R ettg
ç passe parun maximum çm pour
çm reste encore faible si r est
petit
parrapport
à 1?/ /? B
°
B 20 /
Calcul de termes correctifs pour les formules
précédentes.
- Les conditionssimples
r’ = 0 oucr = c’r’ ne sont
jamais
réaliséesqu’approximative-ment,
de sorte que des termes correctifs doivent êtreapportés
aux formulesprécédentes.
1 er Cas :
r’,
sans êtrenul,
est faible parrapport
à r; le calcul
montre,
en se limitant aux termes du 1er ordre enr’,
que la formule(19)
doit êtreremplacée
par
2e Cas : cr est voisin de c’r’.
Posons,
comme nousl’avions fait pour l’étude de l’établissement d’un
cou-rant continu : cr == ~f
(1
+c),
c’r’ = lVl(1
-~).
En
appliquant
la formulegénérale (17)
et ensuppri-mant les termes d’ordre
supérieur
à 1 en 1::, on obtientlorsque
les résistances des deux contacts sont très voisines(r .... r’);
cette formule se réduitpratique-ment à
Corrections pour tenir compte de la
capacité
propre de la masse semi-conductrice. -
Bor-nons-nous au cas où la tension est fournie directement par la
commutatrice ;
aucune des bornes n’est ausol,
mais le milieu de l’enroulement
compris
entre cesbornes a, par
rapport
ausol,
unpotentiel
fixequ’on
peut
supposer nul sans modifier leproblème.
1er Cas. - Une des résistances de contact est
négli-geable
(r’
=0) ;
le schéma du semi-conducteur estFig. 7.
alors
représenté
par une desfigures
7 ou 8 suivantque
l’oscillographe
est relié directement à l’électrodequi possède
la résistance de contact(fig.
7)
ou àl’électrode
opposée
(fig.
8).
198
Fig. 9.
On obtient les résultats suivants :
Figure 7 :
Figure
8 :2e Cas. --- Les deux contacts sont
identiques
(c
=c’; r
=r’) (fig. 9) ;
on obtientpresque
toujours, rI
et r2
sont assez voisins dans mesexpériences
pour que la correction decapacité
propre de la substance soitnégligeable
dans ce cas.Correction à faire pour tenir de la
capacité
del’oscillographe
et des filsf.
--- Lesplateaux
de
l’oscillographe
et les fils1 (I,
fig.
4)
forment uncondensateur cz
shunté par la résistancer" ;
laten-sion mesurée par
l’appareil
est en retard dephase
surl’intensité i du courant dans le circuit d’un
angle
q~’
calculable :
tg ?’
=C2 w r". Même pour les valeurs les
plus
élevées der",
la correction est restée faible dans mesexpériences
(pour
C2 =10-11farads,
w = 100 r, r’ == 10~
ohms,
on obtienttg y’
=0,03).
III.
Application
à la mesuredes
capacités
de contact.Principe
de la méthode. - La courbeelliptique
tracée par
l’oscillographe
permet
de déterminerl’angle cp ;
si les deux contacts sontsemblables,
lafor-mule
(2l’)
estapplicable
et on tire la moyenne M desdeux
capacités
decontact ;
si les résistances de contactsont très
différentes,
on utilise la formule(19’) ; à
l’aide des valeurs
approchées
obtenues,
on obtient des- ---- --
_ 1
--- - - - - _ -
- - 1 tl -- ___ _
___ _ _ - -
-tion de
capacité
propre de la massesemi-conduc-trice
(formules 19",
19"’ et23").
Précision des déterminations. - Sauf dans
quelques
casparticuliers,
laprécision
est bien moindreque celle
qu’on
obtient en étudiant lerégime
d’éta-blissement d’un courant dans le semi-conducteur.Lorsque
les résistances de contact sont faibles parrapport
à la résistanceohmique,
la méthode est mêmepratiquement
inutilisable,
l’ellipse
tracée parl’oscillo-graphe
étanttrop
aplatie (voir p. 196
et197)
pour que ladétermination un peu
précise
del’angle
p soit pos-sible.Lorsque
les résistances de contact sontimpor-tantes,
la mesure descapacités
de contact en courantalternatif se fait avec une
précision acceptable
(de
l’ordre de 10 pour 100 dans les cas les
plus
favorables)
àcondition de choisir convenablement la
fréquence
utili-sée ;
on a vu, eneffet,
quel’angle p
est très faiblelorsque
lafréquence
esttrop
petite
outrop
grande
(fig.
3 et5).
La
fréquence
choisie doit être telle que lepoint
figu-ratif sur les courbes desfigures
3 ou 5 soit dans larégion
où lapente
est laplus élevée ;
dans laplupart
de mesexpériences,
le terme est de l’ordre de10-3 sec et le courant à 50
périodes
convient bien(pour
c.~ =10-3 sec et Ci) = 100r, le
point figuratif
se
projette
en P sur l’axe des abcisses dans lesfigures
3et
5).
Résultats. - Les résultats confirment
ceux obte-nus en courant
continu ;
lescapacités
de contact sontd’autant
plu#
faibles que la résistivité du semi-conducteur estplus grande.
Exemple. -
Résultats obtenus avec deuxéchan-tillons de chlorure de
plomb
différemment desséchés.J’ai déterminé
plusieurs capacités
de contact par les deuxméthodes ;
les résultats ont été suffisamment concordants.Exemple.
- Carbonate de sodiumemeuri,
résisti-vité : 43.106ohms /cm.
Capacité
decontact
en courant altern.:0,910"~
farads par cm2 d’électrode en courant cont. :0,810-llfarads
IV. Conclusions.
Remarques
sur
l’hypothèse
d’une « couche d’arrêt »au contact d’un métal et d’un semi-conducteur. La
principale
conclusionqui
sedégage
de ce travailest la suivante : la variation
rapide
dupotentiel
audans la substance d’autant
plus profondément
que sarésistivité est
plus
grande.
L’étude de l’attraction
qu’exerce
le semi-conducteursur l’électrode
(effet Johnsen-Rabbeck)
m’avaitdéjà
conduit à énoncer ce résultat(1).
La modification de la
phosphorescence
au contact de l’électrode m’apermis
(2)
dans le cas d’un sulfurede zinc semi-conducteur de déterminer
expérimentale-ment
l’épaisseur
de la substanceplacée
dans unchamp
électrique
intense ;
les valeurs obtenues(de
l’ordre du dixième demillimètre)
sont voisines de cellesqu’on
déduit des mesures de
capacités
au contact pour des semi-conducteurs de même résistivité.Les
échanges électriques
entre un métal et un semi-conducteur nécessitent la formation sur l’électroded’un
champ
électrique ;
pourproduire
cechamp,
unecharge
électrique
a =KE° I
.124
doitapparaître
g q
7t
(
P)
PPpar cm2
d’électrode ;
lacharge
6 ne reste passuperficielle,
mais se
répartit
dans la substance sur une certaineépaisseur ; j’ai
essayé
de montrer comment un telrésultat
peut
s’interpréter théoriquement
(3) ;
quoi
qu’il
ensoit,
on doit le considérer comme un faitexpérimental.
Pour
expliquer
lespropriétés
rectifiantes etphoto-électriques
du contact d’un métal et d’unsemi-conducteur,
on admet souvent la réalité matérielle d’une coucheisolante,
dite « couched’arrêt » ;
; cetteconception
est enparticulier
très utilisée dans lestra-vaux sur les
propriétés
du contactcuivre-oxyde
cui-vreux, pour
lequel
la couche d’arrêt serait forméed’oxyde
cuivreux pur, le reste du semi-conducteurayant
une résistivité faible à cause de l’excèsd’oxy-gène qu’il contient ;
la chute depotentiel
au contact de l’électrode seproduirait
dans la couche d’arrêt etles mesures des
capacités
au contactpermettraient
de déterminer sonépaisseur. Qu’une
couche isolantepuisse
seproduire
à la surface de certainssemi-con-ducteurs,
je
n’ai pas l’intention de lecontester ;
maismes résultats montrent nettement
qu’on
nepeut
expliquer
par l’existencesystématique
d’une « couche d’arrêt » lespropriétés générales
du contact métalsemi-conducteur ;
il faudraitadmettre,
cequi
estinvraisemblable, qu’une
couche isolante seproduit
toujours
sur un semi-conducteur en contact avec unmétal,
que sonépaisseur
augmente
lorsque
la résisti-(1) C. R. 1934, 199, 266.(2) Journal de Physique, 1938, 9, 109.
(3) Thèse, Paris, 1934, p. 50.
vité de la substance s’accroit par dessication ou sous
l’influence du passage du
courant,
queparfois
mêmecette
épaisseur dépend
de la tension utilisée.Examinons les
arguments
en faveur de l’existence d’une couche d’arrêt : on a observé dans divers casque le
dépôt
d’une couche isolante sur unsemi-con-ducteur
(par
exemple
dequartz
surCu20)
faitappa-raître une résistance de contact avec des
propriétés
rectifiantes et
photoélectriques ;
un, traitementchi-mique superficiel
del’oxyde
cuivreux fait varier larésistance de
contact,
etc. Tous ces faits montrentnettement
qu’une
altération de la surface modifie larésistance de
contact,
mais neprouvent
rien deplus ;
si on recouvre d’une
pellicule
peu conductrice la cathode dans un tube à gazraréfié,
la chute depoten-tiel
cathodique
en estmodifiée,
etcependant
personnene
prétendrait
en déduire que la chutecathodique
estlocalisée dans cette
pellicule.
Enréalité,
la résistanceau contact d’un semi-conducteur et d’un métal
dépend
de deux facteurs : 10 de l’étatsuperficiel
du semi-conducteurqui
modifie lechamp
électrique Eo
nécessaire auxéchanges
électriques
entre les deuxmilieux ;
20 de la résistivité de la masse,qui
déter-mine laprofondeur d
danslaquelle
se trouve établi unchamp électrique élevé ;
c’est un résultatgénéral qui,
pour le cas
particulier
del’oxyde
cuivreux,
est nette-ment mis en évidence dans un travail de Roulleau(1).
Une théorie
complète
des résistances de contact entre un métal et un semi-conducteur devrait donccomprendre
deuxparties :
a)
l’étude de larépartition
en
profondeur
descharges
électriques
auvoisinage
de
l’électrode ; b)
le calcul duchamp électrique qui
permet
le passage d’un courant donné à la surface deséparation
d’un semi-conducteur et d’un métal. Joflé et Frenkel(2)
ontpublié
une théoriequantita-tive des résistances de contact pour les semi-conduc-teurs
électroniques,
danslaquelle
ilssupposent
que le semi-conducteur estséparé
du métal par un minceintervalle
vide ;
on a dit que cettehypothèse
nepou-vait
convenir,
car, pour obtenir une concordancequantitative,
il faudrait admettre pour cet intervalleune valeur de l’ordre de 10-7 cm, tandis que les mesures
des
capacités
au contact montrent que la chute dupotentiel
au contact de l’électrode seproduit
dans uneépaisseur plus grande ;
cette difficultédisparaît
si onadmet le
point
de vue quej’ai proposé puisque
lamajeure partie
de la chute depotentiel
au contact seproduit
dans le semi-conducteur lui-même. (1) ROULLEAU. Annales de Physique, 1937, 8, 153.(2) Physik. Z. Sowjetunion, 1932, 1, 60.
’