Chapitre III: Champ d'application matériel
SECTION 1 SEUILS
Nas Figuras 46 e 47 observam-se os diagramas de Nyquist para as amostras dos ensaios: 1 (GF e GSF), 6 (GSF), 8 (GF), 9 (GSF), branco e amostras 2 (GF), 3 (GSF), nessa ordem, obtidas em solução de NaCl 3,5% em peso. Pela análise da Figura 46, observa-se que os filmes têm comportamento capacitivo e resistivo. Os filmes dos ENS.9:GSF, ENS.8:GF e ENS.6:GSF são resistivos, ou seja, essas amostras resistem à passagem de corrente, enquanto as amostras do ENS.1:GSF e ENS.1:GF e o branco são capacitivos, isto é, conseguem armazenar cargas, embora também apresentem comportamento resistivo, conforme Figura 48. Já na Figura 47, as amostras do ENS.2:GF e ENS.3:GSF apresentam comportamento altamente resistivo, indicando que esses materiais têm grande resistência à passagem de corrente e apresentam baixíssima capacidade de armazenamento de carga.
Figura 46 – Diagramas de Nyquist obtidos em meio cloreto para as amostras dos ensaios 1
(GSF e GF), 6 (GSF), 8 (GF), 9 (GSF) e o branco Fonte: IVIUM 0,0 5,0x106 1,0x107 1,5x107 2,0x107 2,5x107 0,0 5,0x106 1,0x107 1,5x107 2,0x107 2,5x107 0 0 1x104 2x104 3x104 -Z " ( Ω .c m 2) Z'(Ω.cm2 ) -Z " ( Ω .c m 2 ) Z'(Ω.cm2) ENS.1:GF ENS.1:GSF ENS.6:GSF ENS.8:GF ENS.9:GSF BRANCO
Figura 47 – Diagramas de Nyquist obtidos em meio cloreto para as amostras dos ensaios 3
(GSF) e 2(GF)
Fonte: IVIUM
Nas Figuras de 48 a 51 são apresentados os diagramas de bode do ângulo de fase versus logaritmo da frequência para os filmes depositados nas condições dos ensaios 1, 2, 3, 4, 6, 8 e 9.
A partir da Figura 48 observa-se que os filmes têm certa heterogeneidade e apresentam formação de outras fases, devido às oscilações apresentadas por alguns filmes como as amostras em verde (ENS.6:GSF) e a em azul fluorescente (ENS.1:GF). A amostra em azul escuro (ENS.1:GSF) apresenta-se capacitiva e resistiva e indica a presença de um elemento de fase constante (Q), o que está relacionado com a homogeneidade do filme. As amostras em vermelho e preto, referentes ao ENS. 8:GF e ENS.9:GSF, respectivamente são mais resistivas. Além disso, pelo comportamento da região de alta frequência, pode haver indícios de desprendimento do filme nas amostras ENS.1:GF, ENS.6: GSF e ENS.8:GF.
A Figura 49 por sua vez, indica que os filmes dos ensaios 2 e 3 são altamente resistivos, pois os gráficos, em termos de ângulo de fase está próximo ao
0 5 10 15 20 25 0 5 10 15 20 25 - Z " ( Ω .c m 2 ) Z' (Ω.cm2) ENS.3:GSF ENS.2:GF
ângulo zero. Esse mesmo comportamento pode também ser observado nas Figuras 50 e 51.
Figura 48 – Representação de Bode do ângulo de fase versus logaritmo da frequência para as
amostras dos ensaios 1 (GSF e GF), 6 (GSF), 8 (GF), 9 (GSF) e o branco
Fonte: IVIUM
Figura 49 - Representação de Bode do ângulo de fase versus logaritmo da frequência para as
amostras dos ensaios 3 (GSF) e 2(GF)
Fonte: IVIUM 104 105 106 0 20 40 60 80 100 - â n g u lo d e f a s e ( °) log f (Hz) ENS.3GSF ENS.2GF 10-2 10-1 100 101 102 103 104 105 106 -20 -10 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 Q - â n g u lo d e f a s e ( °) log f (Hz) ENS.9GSF ENS.8GF ENS.6GSF ENS.1GSF ENS.1GF Branco
Figura 50 – Representação de Bode do logaritmo da impedância versus logaritmo da
frequência para as amostras dos ensaios 1 (GSF e GF), 6 (GSF), 8 (GF), 9 (GSF) e o branco
Fonte: IVIUM
Figura 51 – Representação de Bode do logaritmo da impedância versus logaritmo da
frequência para as amostras dos ensaios 3 (GSF) e 2(GF)
Fonte: IVIUM 104 105 106 100 101 102 lo g Z ( Ω .c m 2 ) log f (Hz) ENS.3GSF ENS.2GF 10-4 10-3 10-2 10-1 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 L o g Z ( Ω .c m 2 ) Log f (Hz) ENS.9GSF ENS.8GF ENS.6GSF ENS.1GSF ENS.1GF BRANCO
Na Figura 50 podemos observa-se que os filmes ENS.8:GF e ENS.9:GSF apresentaram os menores valores de Z em relação ao branco e, portanto, possuem menores resistências superficiais à passagem de corrente. Observa- se também que a amostra ENS.8:GF tem a menor resistência superficial de todas as amostras, enquanto a ENS.1:GSF apresenta a maior resistência superficial de todas as outras amostras. Na Figura 51, as amostras ENS.3:GSF e ENS.2:GF apresentam um baixíssimo valor de Z, na ordem de 102, tudo isso demonstra que essa técnica tem possibilidade de produzir filmes com as mais diferentes propriedades.
6 CONCLUSÕES
Em todas as condições de processo estudadas foi possível obter filmes finos, comprovados pela análise visual e pelas técnicas de caracterização de microscopia confocal e de força atômica, difração de raios X e espectroscopia de energia dispersiva (EDS), confirmando a eficiência da técnica de deposição de filmes finos por plasma com uso de gaiola catódica. A configuração das gaiolas, a presença ou não de furos nas laterais, à atmosfera gasosa e a temperatura de tratamento influenciam no processo de deposição e consequentemente nas propriedades dos filmes finos formados. Essas diferenças, principalmente em relação aos furos da gaiola influenciaram em diversas propriedades, tais como a transmitância, pois se observam que para as duas condições de ensaio analisadas (3 e 4), os filmes das gaiolas sem furos possuem as maiores transmitâncias.
Em termos de aspecto visual, os filmes apresentaram-se homogêneos, espessos, aderentes e com poucos defeitos superficiais. Com relação à coloração, essas variaram de marrom claro a cinza escuro e dourado com brilho em algumas condições de ensaio e de acordo com a literatura, todas essas colorações são características do nitreto de titânio. Em relação às propriedades ópticas, a maior transmitância foi para as amostras do ensaio 4, em que há uma maior atmosfera de N2. Acredita-se que esse resultado pode
estar associado ao aumento do número de nitrogênio na rede cristalina do nitreto de titânio, que provocou a diminuição da cristalinidade do filme. Em termos de propriedades elétricas, os filmes do ENS.4:GSF mostraram-se os mais resistivos e os do ENS.3:GF menos resistivos, sendo que a diferença de resistividade entre eles variam em até 7 ordens de grandeza, sendo que os valores de portadores de carga e mobilidade também apresentaram valores bastante diferenciados. Para as propriedades eletroquímicas, os filmes foram capacitivos e resistivos para as condições analisadas.
As diferenças tão acentuadas dos filmes demonstram uma necessidade de conhecer as diversas possibilidades dessa técnica, por isso pesquisas futuras devem ser desenvolvidas tomando-se como base este trabalho e os da
Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN), os quais são os únicos existentes na literatura sobre a deposição de filmes finos por plasma com uso de gaiola catódica.
7 SUGESTÕES PARA TRABALHOS FUTUROS
Com os resultados obtidos na realização deste trabalho, assim como o conhecimento adquirido no desenvolvimento deste estudo, pode-se sugerir a continuidade dos seguintes trabalhos:
• Realizar estudos para compreender os mecanismos do processo de deposição por plasma com o uso de gaiola catódica;
• Variar a geometria das gaiolas catódicas (quantidades de furos, material que confecciona a gaiola, altura da gaiola, furo ou não nas laterais, diâmetro dos furos, espessura das tampas e laterais, etc.) e verificar em cada caso as propriedades Físicas que são potencializadas;
• Deposição de filmes em duplas e triplas camadas utilizando-se de diferentes pressões parciais dos gases e/ou mudança dos mesmos (por exemplo, nitrogênio, oxigênio e argônio);
• Estudo dos parâmetros de deposição dos filmes que possam inferir a respeito da utilização desses ou aqueles materiais para aplicações tecnológicas, tais como: emissores de luz, sensores, revestimentos, materiais biocompatíveis, etc.;
• Avaliar a possibilidade de um tratamento dual, ou seja, depositar e nitretar ao mesmo tempo, usando vidro e um substrato metálico para podermos observar os dois processos;
• Usar tampas com diferentes materiais objetivando dopagem dos filmes depositados sobre materiais metálicos e/ou substrato de vidro.
REFERÊNCIAS
ALVES JÚNIOR, Clodomiro. Nitretação a plasma: fundamentos e aplicações. Natal: EDFRN, 2001.
ARAÚJO, F. O. Desenvolvimento e caracterização de dispositivos para a
deposição de filmes finos por descarga em cátodo oco. 2006. 98f. Tese
(Doutorado em Física) - Pós-Graduação em Física da Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN), Natal, 2006.
ARAÚJO, F. O; SOUZA, R. R. M; COSTA, J. A. P; ALVES JR, C. Deposição de filme metálico em amostras de vidro em gaiola catódica. Revista Brasileira de
Aplicações de Vácuo, Brasil, v. 27, n. 3, p.149-152, 2008.
ASA, K., KITABATAKE, M., ADACHI, H. Thin Films Materials Technology – Sputtering of Compound Materials. William Andrew Inc., Springer, 2004. BARBOSA, J. C. P. Diagnóstico das espécies ativas do plasma usando em
tratamentos termoquímicos de titânio. 2011. 142f. Tese (Doutorado em
Ciência e Engenharia de Materiais) - Programa de Pós-graduação em Ciências e Engenharia de Materiais, Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN), PPGCEM, Natal, 2011.
BECK, U., REINERS, G., KOPACZ, U., JEHN, H. A. Decorative hard coatings: interdependence of optical, stoichiometric and structural properties. Surface and
Coatings Technology, v. 60. p. 389—395, 1993.
BELLAN, P. M. Fundamentas of Plasma Physics. California: Cambridge University. 628 p., 2006.
BIUNNO, N.; NARAYAN, J.; HOFMEISTER, S. K.; SRIVATA, A. R.; SIGHN, R. K. Low temperature processing of titanium nitride films by laser physical vapor deposition. Applied Physics Letters. USA: AIP Publishing LLC, p. 1519-1521, v. 54, 1989.
CALLISTER JR, Willian D. Materials Science and Engineering: An Introduction. 7 ed. Estados Unidos: John Wiley and Sons Inc., 2007. CARVALHO, Liliane Aparecida de. Investigação das propriedades
eletroquímicas do sistema Ti/Ru0,3Ti(0,7-x)SnxO2 utilizando a Espectroscopia de Impedância Eletroquímica. 2004. 87f. Dissertação (Mestrado em Ciência) –
Programa de Pós-Graduação em Química da Faculdade de Filosofia, Ciências e Letras de Ribeirão de Rio Preto da USP, Ribeirão de Rio Preto, 2004.
CEKADA, M.; PANJAN; KEK-MERLA, D.; PANJAN, M.; KAPUNB, G. SEM study of defects in PVD hard coatings. Vacuum. v.82, p. 252–256, 2008.
CHEN, X.; MAZUMDER, J. Laser chemical-vapor deposition of titanium nitride.
Physical Review b, USA: The American Physical Society, p. 5947-5953, v. 52,
1995.
CUNHA, L. T.; PEDROSA, P.; TAVARES, C. J.; ALVES, E.; VAZ, F.;
FONSECA, C. The role of composition, morphology and crystalline structure in the electrochemical behaviour of TiNx thin films for dry electrode sensor
materials. Electrochimica Acta. Amsterdam: Editora Elsevier, p. 59-67, Agosto/2009.
D’ANNA, E.; LEGGIERI, G.; LUCHES, A.; MARTINO, M.; DRIGO, A. V.;
MIHAILESCU, I. N.; GANATSIOS, S. Synthesis of pure titanium nitride layers by multipulse excimer laser irradiation of titanium foils in a nitrogencontaining
atmosphere. Applied Physics Letters. USA: AIP Publishing LLC, p. 1687-1696, v. 69, 1991.
DAUDT, N. F; BARBOSA, J. C. P; BRAZ, D. C.; PEREIRA, M. B.; ALVES JR, C. TiN thin film deposition by cathodic cage discharge: effect of cage configuration and active species. Journal of Physics: Conference Series 406 (2012), 12th High-Tech Plasma Processes Conference, 2012.
DAUDT, N. F; BARBOSA, J. C. P; MACÊDO, M. O. C; NASCIMENTO NETO, A.B; GUERRA NETO, C. L. B; ALVES JR, C. Estudo da viabilidade da técnica de plasma em descarga de gaiola catódica para obtenção de filmes de titânio para revestimentos biocompatíveis. Revista Brasileira de Inovação
Tecnológica em Saúde On-Line, Brasil, p.16-24, 2011.
DAUDT, Natália de Freitas. Influência dos parâmetros de processo na
deposição de nitreto de titânio por plasma em gaiola catódica. 2012. 122f.
Dissertação (Mestrado em Ciências e Engenharia de Materiais) – Programa de Pós-graduação em Ciências e Engenharia de Materiais. Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN), PPGCEM, Natal, 2012.
EDENHOFER, B. Physical and metallurgical aspects of ionnitriding. Heat
Treatment of Metals, p. 23, v. 1, part.1, 1974.
FATTAH-ALHOSSEINIL, A.; MOSAVI, M.; ALLAHDADI, A. An Electrochemical Impedance Study of AISI 321 Stainless Steel in 0.5M H2SO4. International Journal of Electrochemistry, p. 10, março/2011.
FIGUEROA, C.A.; ALVAREZ, F. The action of hydrogen in low-pressure r.f.- plasma nitriding. Applied Surface Science, Amsterdam: Editora Elsevier, v. 253, p. 1806–1809, 2006.
FILHO, E.A.; FRAGA, A.F.; BINI, R.A.; MARQUES,R.F.C.; GUASTALDI, A.C. Influência do espaçamento do feixe de laser Nd:YAG na obtenção de óxidos e nitretos na superfície do titânio em pressão atmosférica. Revista Matéria, v. 14, n. 2, p. 787 – 794, 2009.
GALLO, S., C.; CRESPI, A., E.; CEMIN, F.; FIGUEROA, C., A.; BAUMVOL, I., J., R. Electrostatically Confined Plasma in Segmented Hollow Cathode
Geometries for Surface Engineering. IEEE Transactions on Plasma Science, v. 39, N°. 11, 2011.
GENTIL, Vicente. Corrosão. 6º ed. Rio de Janeiro: LTC Livros Técnicos e Científicos Editora S.A. 2011.
GIROTTO, E., M.; SANTOS, I., A. Medidas de resistividade elétrica dc em sólidos: como efetuá-las corretamente. Química Nova, v. 25, N°. 4, p. 639-647, 2002.
GONÇALVES, José Lino. Síntese e Deposição de Óxido de Gálio por CVD. 2002. 109f. Tese (Doutorado em Engenharia Elétrica) da Universidade Estadual de Campinas (Unicamp) - Departamento de Semicondutores, Instrumentação e Fotônica, Campinas, 2002.
GREENE, J. E.; SUNDGREN, J. E.; HULTMAN, L.; PETROV, I.; BERGSTROM, D. B. Development of preferred orientation in polycrystalline TiN layers grown by ultrahigh vacuum reactive magnetron sputtering. Applied Physics Letters. USA: AIP Publishing LLC, p. 2928-2930, v. 67, 1995.
GRILL, A. Cold plasma in Materials Fabrication. New York: Wiley-IEEE Press, 1 ed., 1994.
HUGH, O. Pierson. Handbook of Refractory Carbides & Nitrides: Properties, Characteristics, Processing and Apps. USA: Noyes Publication. 362 p., 1996. HULTMAN, L.; SUNDGREN, J. E.; GREENE, J. E.; BERGSTROM, D. B.; PETROV, J. Highflux lowenergy (20 eV) N+2 ion irradiation during TiN deposition by reactive magnetron sputtering: Effects on microstructure and preferred orientation. Applied Physics Letters. USA: AIP Publishing LLC, p. 5395-5403, v. 78, 1995.
JENA, B. H; HORBER, J. K. H. Methods in Cell Biology. Academic Press, 2002.
KATARIA, S.; KUMAR, S.; RAMASESHAN, R.; TYAGI, A. Evolution of
deformation and friction during multimode scratch test on TiN coated D9 steel.
Surface and Coatings Technology. Amsterdam: Editora Elsevier, V. 205, p.
922 – 927, 2010.
KAZEMEINI, Mehdi H.; BEREZINU, Alexander A.; FUKUHARA, Nobuhiko. Formation of thin TiNxOy films by using a hollow cathode reactive DC sputtering
system. Thin Solid Films. v. 372, p. 70-77, Jun/2000.
LAZARO, S.; Penteado, R. F.; Tebcherani, S. M. Energia de superfície para nanossuperfícies de tio2 na direção (001). Química Nova, v. 35, n°. 5, p. 920- 923, 2012.
LECLAIR, Daniel P.; BERERA, G.P.; MOODERA, J.S. Titanium nitride thin films obtained by a modified physical vapor deposition process. Thin Solid Films. V. 376, p.1-9, Junho/2000.
LORITE, I.; SERRANO, A.; SCHWARTZBERG, A.; BUENO, J.; COSTA-
KRÄMER, J. L. Surface enhanced Raman spectroscopy by titanium nitride non- continuous thin films. Thin Solid Films. V.531, p 144–146, Jan/2013.
MACDONALD, J. Ross. Impedance Spectroscopy. Annals of Biomedical
Engineering, USA, V.20, p 289-305, 1992.
MAISSEL, Lenon, L.; GLANG, Reinhard. Handbook of thin film technology. 1 ed. USA: McGraw-Hill Handbooks, 1970.
MASSIANI, Y.; MEDJAHED, A.; GRAVIER, P.; ARGÈME, L.; FEDRIZZI, L. Electrochemical study of titanium nitride films obtained by reactive sputtering.
MATTOX, Donald M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD)
Processing. 2 ed. USA: Editora Elsevier, marca William Andrew, p. 792, 2010.
MAURITY, A.J.S., LUNAS, F.R., CARVALHO, C.L., REYNOSO, V.C.S., DE AQUINO, H.A. Construção de um sistema de caracterização das propriedades de transporte de filmes finos pelo efeito Hall. Revista Brasileira de Ensino de
Física, v. 34, n. 1, p. 1307-1 - 1307-8, 2012.
MELLO, Carina Barros. Deposição de filmes finos baseada em implantação
iônica por imersão em plasma com descarga luminescente e magnetron sputtering. 2011. 115f. Tese (Doutorado em Ciência e Tecnologia de Materiais
e Sensores) – Programa de Pós-Graduação em Engenharia e Tecnologia Espaciais/Ciência e Tecnologia de Materiais e Sensores, Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE), São José dos Campos, 2011.
MENG, L.; SANTOS, M. P. Characterization of titanium nitride films prepared by d.c. reactive magnetron sputtering at different nitrogen pressures. Surface and
Coatings Technology. Amsterdam: Editora Elsevier, p. 64-70, 1997.
MENG, L.; SANTOS, M. P. Structure effect on electrical properties of ito films prepared by rf reactive magnetron sputtering. Thin films for photovoltaic and
related device applications, San Francisco, CA, USA, p. 431-436, abril/1996.
MONTGOMERY, D. C. Design and Analysis of Experiments, New York: John Wiley & Sons, 1997.
MOURA, José Américo de Sousa. Filmes nanométricos de FeN e AlN
crescidos por sputtering e aplicações do efeito peltier. 2010. 131f. Tese
(Doutorado em Física) – Programa de Pós-Graduação em Física. Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN), Natal, 2010.
NAHIME, Bacus de Oliveira. Síntese e caracterização estrutural de filmes
finos Bi4Ti3O12. 2007. 53f. Dissertação (Mestrado em Ciências dos Materiais). Universidade Estadual Paulista, Ilha Solteira, 2007.
NALWA, Hari. Handbook of Thin Films, v. 1. Londres: Academic Press, 2002. OH, U. C.; HO JE, J. Effects of strain energy on the preferred orientation of TiN thin films. Applied Physics Letters. USA: AIP Publishing LLC, p. 1692-1696, v. 74, 1993.
OHRING, Milton. The Materials Science of Thin Films. 1 ed. Estados Unidos: Academic Press, 1992. xix p.
OYAMA, S., T. The Chemistry of Transition Metal Carbides and Nitrides. New York: Blackie Academic and Professional, 1996.
PAJAN, P.; CEKADA, M.; PAJAN, M.; KEK-MERL, D. Growth defects in PVD hard coatings. Vacuum. v. 84, p. 209-214, 2010.
PENG, Z.; MIAO, H.; LONGHAO Q.; SIZE Y.; CHIZI L. Hard and wear-resistant titanium nitride coatings for cemented carbide cutting tools by pulsed high energy density plasma. Acta Materialia. v.51, p. 3085-3094, março/ 2003.
PRIEST, J.M., Baldwin, M.J., Fewell, M.P. The action of hydrogen in low-
pressure r.f.-plasma nitriding. Surface and Coatings Technology. Amsterdam: Editora Elsevier, v. 145, p. 152-163, 2001.
RAMSDEN, Edward. Hall-Effect Sensors: Theory and Application. 2.ed. Estados Unidos: eBook, 2006.
RIOS, P. R.; PADILHA, A. F. Transformações de Fase. São Paulo: Artliber Editora, 2007. 131 p.
ROLO, A. G.; GOMES, M. J. M. Pulverização catódica por magnetrão por radiofrequência. In: SANCHEZ J. Tutor; COPOLLA, H. Rodríguez; REIG, G. Armelles (Org.). Nanoestruturas semicondutoras: fundamentos y
aplicaciones. Braga, Portugal: Cyted, 2003. p.155-170.
RONCHI, Gilson. Estudos de Descargas de Plasma Contínuas. 2012, 117f. Dissertação (Mestrado em Física) da Universidade Estadual de Campinas (Unicamp), Campinas, 2012.
ROQUINY, P.; BODART, F.; TERWAGNE, G. Colour control of titanium nitride coatings produced by reactive magnetron sputtering at temperature less than 100°C. Surface and coatings technology, v. 116-119, p. 278-283, 1999. ROSSNAGEL, S.M.; CUOMO, J.J.; WESTWOOD, W.D. Handbook of plasma
processing technology - fundamentals, etching, deposition and surface interactions. New Jersey: Noyes, 1989. 523p.
SAFI, I. Recent aspects concerning DC reactive magnetron sputtering of thin films: a review. Surface and Coatings Technology. Amsterdam: Editora Elsevier, v.127, p. 203-219, 2000.
SESHAN, Krishna. Handbook of thin films deposition process and technology. 2 ed. Estados Unidos: William Andrew Publishing, p. 13, 2002.
SHARMA, M.K., SAIKIA, B.K., PHUKAN, A., GANGULI, B. Plasma nitriding of austenitic stainless steel in N2 and N2–H2 dc pulsed discharge. Surface and Coatings Technology. Amsterdam: Editora Elsevier, v. 201, p. 2407–2413,
2006.
SIGAUD, Lucas Maurício. Caracterização da emissão de radiação na faixa
UV induzida por elétrons em materiais em forma de filmes finos. 2005.
115f. Dissertação (Mestrado em Física) - Programa de Pós-Graduação em Física da Pontífica Universidade Católica do Rio de Janeiro (PUC), Rio de Janeiro, 2005.
SILVA, Douglas José da. Influência do revestimento de nitreto de titânio
depositado via feixe de elétrons na resistência ao desgaste microabrasivo das ligas de alumínio-magnésio-silício aa6101 e aa6351. 2012. 80f.
Dissertação (Mestrado em Ciências Mecânicas) - Departamento de Engenharia Mecânica da Faculdade de Tecnologia da Universidade de Brasília, Brasília, 2012.
SMITH, G.B., BEM-DAVID, A., SWIFT, P.D. A new type of TiN coating combining broad band visible transparency and solar control. Renewable
SOUSA, R.M., DE ARAÚJO, F.O.; BARBOSA, J.C.P., OLIVEIRA, R.S.,
RIBEIRO, K.J.B., MENDES, M.W.D., ALVES JUNIOR, C., Nitretação em gaiola catódica: influência do tempo de tratamento. Revista Matéria, v. 13, n. 1, p. 119 – 124, Teresina, Piauí, 2008.
SOUSA, Rômulo Ribeiro Magalhães. Nitretação em plasma com gaiola
catódica: Investigação do mecanismo e estudo comparativo com a
nitretação em plasma de tensão contínua. 2007. 164f. Tese (Doutorado em
Ciência e Engenharia de Materiais) - Programa de Pós-Graduação em Ciências e Engenharia de Materiais da Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN), Natal, 2007.
SOUSA, Rômulo Ribeiro Magalhães. Nitretação Iônica Sem Efeito de Borda:
Desenvolvimento e Avaliação de uma Nova Técnica. 2006. 80f. Dissertação
(Mestrado em Ciência e Engenharia de Materiais) - Programa de Pós-
Graduação em Ciências e Engenharia de Materiais da Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN), Natal, 2006.
SOUZA, R. R. M; ARAÚJO, F.O; COSTA, J. A. P; BRANDIM, A.S; BRITO, R. A; ALVES Jr., C. Cathodic Cage plasma nitriding: An innovative technique.
Hindawi Publishing Corporation Journal of Metallurgy, v.12, 2011.
SOUZA, R. R. M; ARAÚJO, F.O; COSTA, J. A. P; BRANDIM, A.S; BRITO, R. A; ALVES Jr., C. Cathodic Cage plasma nitriding: An innovative technique.
Hindawi Publishing Corporation Journal of Metallurgy, v.12, 2011.
SPOTZ, Z.; LEEMET, T.; ROKICKI, P.; FUSOVA, L.; SAKSL, K.; KUOKKALA, V.; SIEMERS, C. Influence of Deformation on Microstructure of Ti-15V-3Cr-3Sn- 3Al Alloy. Metal 2010, Roznov pod Radhostem, Czech Republic, EU,
maio/2010.
STEYER, P.; MEGE, A.; PECH, D.; MENDIBIDE, C.; FONTAINE, J.; PIERSON, J.; ESNOUF, C.; GOUDEAU, P. Influence of the nanostructuration of PVD hard TiN-based films on the durability of coated steel. Surface and Coatings
Technology. Amsterdam: Editora Elsevier, V. 202, p. 2268–2277, 2008.
SUBRAMANIAN, B.; MURALEEDHARAN, C.V.; ANANTHAKUMAR, R.;
JAYACHANDRAN, M. A comparative study of titanium nitride (TiN), titanium oxy nitride (TiON) and titanium aluminum nitride (TiAlN), as surface coatings for bio implants. Surface & Coatings Technology, v. 205, p. 5014–5020, 2011.
TENTARDINI, Eduardo Kirinus. Obtenção e caracterização de filmes finos de
(Ti, Al)N do tipo multicamadas para aplicação em matrizes. 2004. 99f. Tese
(Doutorado em Engenharia) - Programa de Pós-Graduação em Engenharia de Minas, Metalúrgica e de Materiais, PPGEM, Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS), 2004.
VASCONCELOS, Y. A memória do futuro. Revista Pesquisa FAPESP. P. 158- 161, ed. 195, maio/2012.
VAZ, F.; CERQUERIA, P.; REBOUTA, L.; NASCIMENTO, S.M.C; ALVES, E.; GOUDEAU, Ph.; RIVIÈRE, J.P; PISCHOW, K.; DE RIJIK, J. Structural, optical and mechanical properties of coloured TiNxOy thin films. Thin Solid Films,
VILALTA-CLEMENTE, A.; GLOYSTEIN, K. Principles of Atomic Force
Microscopy (AFM). Physics of Advanced Materials Winter School. p.1-10, 2008.
WITTMER, M.; STUDER, B.; MELCHIOR, H. Characteristics of TiN gate metal- oxide-semiconductor field effect transistors. Journal of Applied Physics, v. 54, p. 1423 - 1428, 1983.
WITTMER, M.; STUDER, B.; MELCHIOR, H. Electrical characteristics of TiN contacts to N silício. Journal of Applied Physics, v. 52, p. 5722 – 5726, 1981. WOLYNEC, S. Técnicas Eletroquímicas em Corrosão. São Paulo: Editora da Universidade de São Paulo, 1 ed, 2003.
XU, S., DU, L., SUGIOKA, K., TOYODA, K., JYUMONJI, M. Preferred growth of epitaxial TiN thin film on silício substrate by pulsed laser deposition. Journal of
Materials Science. v. 33, p. 1777-1782, 1998.
YUSTE, M., ESCOBAR GALINDO, R., CARVALHO, S., ALBELLA, J.M.,
SANCHEZ, O. Improving the visible transmittance of low-e titanium nitride based coatings for solar thermal applications. Applied Surface Science. v. 258, p. 1784– 1788, 2011.
ZECHEVA, A.; SHA, W.; MALINOV, S.; LONG, A. Enchancing the
microstructure and properties of titanium alloys through nitriding and other surface engineering methods. Surface and Coatings Technology. v.200, p. 2192-22017, 2005.