Procédure expérimentale

2.3.1. Choix et nettoyage des substrats

Les substrats utilisés sont de l’acier inoxydable du type AISI 301 ou 304L, du silicium monocristallin orienté (100) pur ou recouvert d’une couche silice amorphe épaisse de 100 nm, et de l’alliage de titane Ti6242.

Les aciers inoxydables austénitiques présentent une bonne résistance à la corrosion. Leur composition chimique est la suivante :

- AISI 301 : Fe ; C < 0,15% ; Cr 16-18% ; Ni 6-8% ; Mn < 2% ; Si < 1% ; P < 0,045% ; S < 0,03%.

- AISI 304 L : Fe ; C < 0,03% ; Si < 1% ; Mn < 2% ; P < 0,045% ; S < 0,03% ; Cr 18-20% ; Ni 8-10% ; Mo 2-2,5% ; N < 0,11%.

Les substrats en acier ont été nettoyés dans un bain d’un nettoyant alcalin commercial (TurcoTM 4181) bouillant, pendant 30 minutes, puis rincés dans de l’eau distillée sous vibration ultrasonique pendant 10 minutes, enfin séchés en étuve à 70°C, pendant 10 minutes.

Les substrats de Si et SiO2/Si ont été dégraissés par immersion dans du trichloréthylène bouillant pendant 5 minutes, puis dans de l’acétone bouillant pendant 10 minutes et finalement dans de l’eau pure bouillante pendant 10 minutes, rincés à l’eau dé-ionisée et séchés dans un courant d’argon. Ces substrats ont été clivés en rectangles de dimensions approximatives 7×10 mm2_.

Les substrats d’alliage de titane Ti6242 sont sous la forme de disques, de diamètre 15 mm et d’épaisseur 2 mm, et d’éprouvettes de traction cylindriques. Ils ont été soumis à un polissage préalable, tout d’abord à l’aide de papier SiC jusqu’à la granulométrie 4000, puis de type diamant :

- papier 320 : polissage sur les deux côtés pour éliminer tout problème de relaxation des contraintes, pendant 10 minutes environ, sans appuyer ;

- papier 600 : 10 minutes environ, sans appuyer (un seul côté suffit) ; - papier 1000 : 10 minutes environ, sans appuyer ;

- papier 2400 : 30 minutes environ, en appuyant encore moins ; - papier 4000 : 30 minutes au moins, en appuyant encore moins.

Avec le papier SiC, il faut polir très légèrement, pour ne pas écrouir en surface, et croiser les rayures d’un papier à l’autre. Avec le papier 4000, on a fait un premier passage de 30 minutes environ, perpendiculairement à la direction de traction, puis un second passage d’une dizaine de minutes environ, parallèlement à la direction de traction de l’éprouvette. Pour le polissage diamant, on a utilisé des pâtes diamantées de granulométrie 6 µm, 3 µm et 1 µm, pendant environ 15 minutes pour chacune des granulométries. Après chaque étape de polissage, le substrat est nettoyé sous ultrasons dans un bain d’acétone, puis d’éthanol.

2.3.2. Manipulation du précurseur

A cause de sa sensibilité à l’humidité, le précurseur est conservé sous argon en boîte à gants métallique. Le remplissage du saturateur se fait sous hotte, en utilisant une dose de précurseur sortie de la boîte à gants au dernier moment. A chaque remplissage, la même quantité du précurseur (15 g) est introduite dans le bulleur.

Une fois placé sur le dispositif de CVD, le bulleur est chauffé pendant quelques heures à 140°C jusqu’à fusion du précurseur. La température est ensuite amenée à la valeur choisie pour la réalisation du dépôt (généralement 110°C). En dehors des réalisations de dépôt, le précurseur est maintenu en surfusion à 80°C.

Afin d’éviter la baisse de tension de vapeur due au vieillissement, le précurseur est renouvelé après 10-12 heures de dépôts cumulés.

2.3.3. Description d’une expérience de dépôt

Les canalisations transportant les gaz vers le réacteur sont chauffées à une température supérieure d’environ 10°C à celle du bain thermostaté.

Dés que les substrats ont été introduits dans le réacteur, on établit un vide primaire. Lorsque la pression et les températures de consigne (température du précurseur et température de dépôt) sont stabilisées, on ouvre les vannes du saturateur pour introduire le précurseur dans le système. Ceci marque le début de l'expérience. Pendant toute la durée du dépôt, les températures, la pression et les débits sont maintenus à des valeurs constantes. Le profil de chauffe en fonction du temps pour toutes les expériences effectuées est présenté sur la Figure 2.9.

Figure 2.9. Profil de chauffe en fonction du temps

En fin d'expérience, on ouvre le by-pass et referme les vannes pour interrompre l'arrivée du précurseur. Le refroidissement jusqu'à la température ambiante se fait sous courant d'azote. Une fois la température ambiante atteinte, on rétablit la pression atmosphérique, avant de sortir les échantillons.

2.3.4. Conditions typiques de dépôts

Pour simplifier l’accès aux données expérimentales, les conditions opératoires des dépôts réalisés au cours de ce travail sont rassemblées dans les Tableaux A1 et A2 de l’Annexe A. La température de dépôt varie de 350 à 700°C. La pression totale est généralement de quelques torr. Une première série de dépôts fut préparée uniquement à partir du précurseur transporté dans un courant d’azote sec, dans les conditions décrites dans le

Température (°C) Envoi du précurseur Arrêt du précurseur dépôt refroidissement Durée (h) montée en température dégazage

Tableau A1. Une deuxième série fut réalisée en ajoutant de la vapeur d’eau dans la phase gazeuse, dans les conditions décrites dans le Tableau A2. Pour la plupart des manipulations du Tableau A1, la pression totale était fixée à 5 torr. Elle était de 15 torr pour celles du Tableau A2, en raison de la tension de vapeur de l’eau (5 torr, voir ci-dessous).

Le débit en précurseur ou en vapeur d’eau peut se calculer à l’aide de la formule de Hersee et col.[94] vsat réacteur vsat N préc P P P Q Q = 2. ₋ (2.1)

Pvsat, désignant la pression de vapeur saturante en torr, de l’espèce entraînée à la température du bulleur, Préacteur la pression dans l’enceinte du réacteur et QN2 le débit de gaz vecteur dans le réacteur, exprimé en sccm. Cette formule empirique est valide pour Préacteur > 3 Pvsat. La formule de Hersee considère un bulleur idéal qui permet d’obtenir la saturation complète du gaz vecteur et néglige les pertes de charges entre le bulleur et le réacteur. L’efficacité réelle du bulleur est fonction de la quantité de l’espèce à entraîner qu’il contient et d’un facteur propre à sa géométrie à une pression donnée.

La variation de la pression de la vapeur d’eau en fonction de la température est très bien établie [95] :

P(Pa) = exp[73,649 - (7258,2/T) – [7,3037 Ln(T)] + (4,1653 10-6) T2].

A la température de 1°C (274 K), la tension de la vapeur d’eau 5 torr (667 Pa).

S’agissant du TIA, la situation est plus complexe. En toute rigueur, nous aurions dû mesurer la quantité de précurseur entraînée en fonction du débit de gaz vecteur. Le temps nous a manqué pour réaliser ces mesures longues et délicates. Les fractions molaires portées dans les Tableaux A1 et A2 ont donc été calculées à partir de la formule 2.1. Devant la diversité des coefficients de Clapeyron relevés pour TIA dans la littérature (voir paragraphe 2.1.4.), nous avons adopté la loi de tension de vapeur citée par Sladek et Gibert [87], qui donne une tension de vapeur de 97 Pa à 110°C, comparable à la valeur de 93 Pa calculée par extrapolation à partir des coefficients proposés par Wilhoit [85], nettement inférieure aux valeurs de 285 Pa et 215 Pa issues respectivement des mesures de Mehrotra [84]et de Bleyerveld [86].