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Chapitre I. La technologie HEMT GaN

I.3. Phénomènes électrothermiques dans les HEMTs GaN

I.3.2. Effets de pièges

/HFRPSRUWHPHQWG¶XQ+(07*D1HQUpJLPHG\QDPLTXHHVWJUDQGHPHQWGLIIpUHQWGHVRQ

FRPSRUWHPHQW VWDWLTXH 3DU H[HPSOH DSUqV OH SDVVDJH G¶XQ pWDW OFF à un état ON

(commutation), le transistor subit en général une chute du courant de drain (current-collapse)

par rapport à la valeur DC attendue. En fonctionnement RF, la puissance de sortie est bien

inférieure à la puissance DC, phénomène appelé dispersion DC-RF ou encore knee-walkout.

Les HEMTs GaN subissent en réalité des effets de pièges présents dans la structure du

composant.

I.3.2.1. Origine et description physique des pièges

Le terme « piège » WUDGXLWXQGpIDXWpOHFWULTXHGDQVOHFRPSRVDQWVXVFHSWLEOHG¶LQWHUDJLUDYec

les électrons libres et empêcher son bon fonctionnement. Les pièges trouvent leurs origines

dans les défauts structuraux présents dans les cristaux non parfaits : défaut interstitiel, lacune,

impureté interstitielle ou substitutionnelle, dislocation, déIDXW G¶HPSLOHPHQW SUpFLSLWpV Les

QLWUXUHV FRPPH QRXV O¶DYRQV YX VRQW SDUWLFXOLqUHPHQW GHQVHV HQdéfauts. Lorsque la

SpULRGLFLWpGXFULVWDOVHPLFRQGXFWHXUHVWSHUWXUEpHSDUO¶XQGHFHVGpIDXWVLO\DDSSDULWLRQGH

QLYHDX[G¶pQHUJLHGLVFUHWVjO¶LQWpULHur de la bande interdite qui vont interagir avec les bandes

de conduction (BC) et de valence (BV) et PRGLILHUODSRSXODWLRQGHVSRUWHXUVOLEUHV&¶HVWOH

principe de base du dopage O¶LQFRUSRUDWLRQG¶DWRPHVpWUDQJHUVVSpFLILTXHVFUpHGHVQLYHDX[

G¶pQHUJLHjSUR[LPLWpGHVEDQGHVG¶pQHUJLHGRQQHXUVSHXSURIRQGVRXDFFHSWHXUVSURIRQGV

qui dopent les populations de porteurs. Lorsque des défauts non souhaités sont présents dans

OHPDWpULDXLO\DVRLWGRSDJHQRQLQWHQWLRQQHOVRLWDSSDULWLRQGHQLYHDX[G¶pQHrgie profonds

appelés pièges.

Les interactions entre un piège et les bandes de conduction et de valence sont résumées dans

la Figure I.32. Un piège vide (occupé par un trou) peut capturer un électron de la BC (a) ou

émettre un trou vers la BV, i.e. capturer un électron de la BV (d). Un piège occupé (vide de

trou) peut émettre un électron vers la BC (b) ou capturer un trou de la BV, i.e. émettre un

électron vers la BV (c). En combinant ces événements, plusieurs mécanismes se dégagent.

La génération/recombinaison de paires électrons-trous assistée par des niveaux profonds

correspond à (b) suivi de (d) et à (a) suivi de (c) respectivement. Ces mécanismes font

LQWHUYHQLUOHVEDQGHVG¶pQHUJLHHWVRQWGpFULWVSDUODWKpRULHGH6KRFNOH\-Read-Hall. Ces

défauts sont alors nommés centres de génération/recombinaison, et jouent un rôle

prépondérant dans les semiconducteurs à gap indirect et pour les applications en

optoélectronique où les recombinaisons non radiatives sont à éviter. Deux autres mécanismes

existent : le piégeage, RXFDSWXUHpPLVVLRQG¶pOHFWURQVDVXLYLGHEHWOHSLpJHDJHGHWURXV

(c) suivi de (d). Dans ces cas les défauts sont des pièges à proprement parler. La nature des

mécanismes ayant effectivement lieu dépend de nombreux paramètres : le niveau du piège,

OHQLYHDXGH)HUPLOHGRSDJHODWHPSpUDWXUH«'DQVOHFDGUHGHQRVFRPSRVDQWVQRXVQRXV

IRFDOLVHURQVVXUOHSLpJHDJHG¶pOHFWURQV

Figure I.32 ± Interactions SRVVLEOHVHQWUHXQSLqJHSURIRQGHWOHVEDQGHVG¶pQHUJLH : (a) capture

G¶pOHFWURQEpPLVVLRQG¶pOHFWURQFFDSWXUHGHWURXHWGpPLVVLRQGHWURX

1RWRQVHQILQTX¶LOH[LVWHW\SHVGHSLqJHV : ᬅ les pièges donneurs, chargés positivement

TXDQGLOVVRQWYLGHVHWQHXWUHVORUVTX¶LOVVRQWRFFXSpVHWᬆ les pièges accepteurs, neutres

TXDQGLOVVRQWYLGHVHWFKDUJpVQpJDWLYHPHQWORUVTX¶LOVVRQWRFFXSpV/DWHUPLQRORJLHXWLOLVpH

est similaire à celle des dopants : un dopant donneur neutre est susceptible de donner un

électron vers la BC, un dopant accepteur neutre est susceptible de donner un trou vers la BV,

LHG¶DFFHSWHUXQpOHFWURQGHOD%9

I.3.2.2. Modélisation mathématique des pièges

Un piège est caractérisé SDUXQHGHQVLWpG¶pWDWVܰ et une énergie ܧ (on parle également

G¶pQHUJLHG¶DFWLYDWLRQܧ௔ par rapport à la bande de conduction : ܧ௔ൌ ܧ஼െ ܧ்). La probabilité

G¶RFFXSDWLRQ G¶XQ SLqJH VXLW XQH VWDWLVWLTXH GH )HUPL-'LUDF OD GHQVLWp G¶pWDWV RFFXSpV

V¶H[SULme par ்݊ ൌ ்ܰΤሺͳ ൅ ߚ ‡š’ሺሺܧ்െ ܧிሻ ݇Τ ஻ܶሻሻ où ߚ est un facteur de dégénérescence

GHVSLQW\SLTXHPHQWpJDOj/DGHQVLWpG¶pWDWVOLEUHVHVWQRWpH݌ ൌ ܰ െ ݊. Les pièges peu

profonds (ܧ inférieur au kV) favorisHQWOHVpFKDQJHVG¶pOHFWURQVDvec la bande de conduction

alors que les pièges profonds (ܧ proche de ܧ) échangent plus facilement des trous avec la

EDQGHGHYDOHQFH&RQVLGpURQVPDLQWHQDQWXQLTXHPHQWOHSLpJHDJHG¶pOHFWURQV

Le phénomène de capture des électrons est modélisé par la notion de section efficace de

capture ߪ, illustré sur la Figure I.33. Nous considérons un état sans courant (transistor

SRODULVpjO¶pWDWOFF), les électrons sont XQLTXHPHQWDQLPpVG¶XQH vitesse thermique ߥ௧௛. Pour

une durée infinitésimale ߜݐOHVpOHFWURQVVXVFHSWLEOHVG¶rWUHFDSWXUpVVRQWFRQWHQXVGDQVOH

cylindre vert de section ߪ et de longueur ߥ௧௛ߜݐ. Il y en a donc ߪߥ௧௛݊ߜݐ où ݊ est la densité

G¶pOHFtrons libres à proximité du piège. La variation du nombre de pièges occupés ߜ்݊

associée à ces captures est obtenue en multipliant cette dernière quantité par le nombre de

pièges libres ݌, et donc :

்߲݊

߲ݐ ฬ௖௔௣௧௨௥௘ ൌ ߪߥ௧௛݊݌ ൌ ܿ݊݌ ൌ െ߲݌

߲ݐ ฬ௖௔௣௧௨௥௘ (I.48)

où ܿ௡ ൌ ߪ௡ߥ௧௛ HVWOHFRHIILFLHQWGHFDSWXUHGHVpOHFWURQV,OV¶DJLWXQHpTXDWLRQGXSUHPLHU

ordre, dont la solution ݌ suit une décroissance exponentielle avec une constante de temps

de capture des électrons : ߬

ൌ ͳ ܿΤ ݊HQIDLVDQWO¶DSSUR[LPDWLRQTXH݊ est une constante).

E

ne

rg

ie

c

n

e

n

c

p

e

p

E

C

E

V

E

T

p

T

n

T

= N

T

- p

T

n

p

a) b) c) d)

Figure I.33 ±,OOXVWUDWLRQGXFRQFHSWGHVHFWLRQHIILFDFHGHFDSWXUHG¶XQSLqJHjpOHFWURQV

/¶pPLVVLRQ TXDQW j HOOH QH GpSHQG TXH GX QRPEUH GH SLqJHV RFFXSpV்݊ car la densité

HIIHFWLYHG¶pWDWVGLVSRQLEOHVGHOD%&ܰ஼ est très élevée par rapport à ்݊. De manière analogue

jFHTXLSUpFqGHQRXVpWDEOLVVRQVO¶pTXDWLRQGLIIpUHQWLHOOHUpJLVVDQWO¶pPLVVLRQG¶pOHFWURQVHW

OHFRHIILFLHQWG¶pPLVVLRQGHVpOHFWURQV݁ :

߲݊

߲ݐ ฬ±௠௜௦௦௜௢௡ൌ െ݁௡்݊ (I.49)

,OV¶DJLWXQHpTXDWLRQGXSUHPLHURUGUHGRQWODVROXWLRQVXLWXQHGpFURLVVDQFe exponentielle

DYHFXQHFRQVWDQWHGHWHPSVG¶pPLVVLRQGHVpOHFWURQV : ߬௘௡ ൌ ͳ ݁Τ ௡. En additionnant les 2

contributions, il vient :

߲݊

߲ݐ ൌ ܿሺܰ െ ݊ሻ െ ݁݊ (I.50)

/HSULQFLSHGHO¶pTXLOLEUHGpWDLOOpVWLSXOHTXHFHWWHTXDQWLWpHVWQXOOHG¶R݁ൌ ܿሺ்ܰΤ െ ͳሻ݊ .

La densLWpG¶pOHFWURQVOLEUHVHVWOLpHjO¶pQHUJLHGH)HUPLSDUODVWDWLVWLTXHGH%ROW]PDQQ : ݊ ൌ

ܰ஼‡š’ሺሺܧிെ ܧ஼ሻ ݇Τ ஻ܶሻ où ܰ஼ HVW OD GHQVLWp HIIHFWLYH G¶pWDWV GH OD %& )LQDOHPHQW QRXV

obtenons les 2 constantes de temps :

߬

݁ݔ݌ሺሺܧߪെ ܧிሻȀ݇ܶሻ

௡ߥ௧௛ܰ ǡ ߬

݁ݔ݌ሺሺܧߚߪ െ ܧሻȀ݇ܶሻ

௡ߥ௧௛ܰ (I.51)

On constate alors que ߬

dépend du niveau de Fermi alors que ߬

QHGpSHQGTXHGHO¶pQHUJLH

G¶DFWLYDWLRQGXSLqJH/DFDSWXUHSHXWGRQFrWUHUDSLGHRXOHQWHVHORQODSRVLWLRQGHܧி qui

SHXWrWUHPRGLILpHHQSRODULVDQWOHPDWpULDXDORUVTXHO¶pPLVVLRQDXQHFRQVWDQWHGHWHPSV

߬ൌ ߬

caractéristique du piège. Les termes ߥ௧௛ et ܰ présentent une dépendance vis-à-vis

de la température :

ߥ௧௛ ൌ ൬͵݇݉ܶ

௡ ൰

ǡ ܰ ൌ ʹ ൬ʹߨ݄݉כ݇ܶ

(I.52)

Il vient alors :

߬ܶଶ ൌ݁ݔ݌ሺܧߚߪȀ݇ܶሻ

௡ߛ (I.53)

où ߛ௡ ൌ ൫ߥ௧௛Τܶଵ ଶΤ ൯൫ܰ஼Τܶଷ ଶΤ ൯ est un terme indépendant de la température. Nous

ı

n

v

th

v

th

˜W

n

température de la constante de tePSVG¶pPLVVLRQHWODUHOLHjODSURIRQGHXUGXSLqJH3DUOD

suite nous parlerons de pièges « rapides » ou « courts » peu profonds et de pièges « lents »

ou « longs » WUqVSURIRQGV'DQVODUpDOLWpLOQ¶\DSDVTX¶XQQLPrPHSOXVLHXUVQLYHDX[GH

SLqJHVGLVFUHWVHWLOIDXWDORUVFRQVLGpUHUXQFRQWLQXXPGHSLqJHVGHGHQVLWpG¶pWDWVܦ௧ሺܧሻ. La

FKDUJHG¶HVSDFHRXGHVXUIDFHUpVXOWDQWGHO¶RFFXSDWLRQGHVSLqJHVHVWpWDEOie par la condition

de neutralité et son énergie associée ܧ஼ே௅, fonction de la répartition énergétique des

accepteurs et donneurs : ܳ ൌ ݁ ׬

ܦሺܧሻ

಴ಿಽ

݀ܧ.

/DFRQVWDQWHGHWHPSVG¶pPLVVLRQHVWSDUDLOOHXUVGpSHQGDQWHGXFKDPSpOHFWULTXHLPSRVp :

LO V¶DJLW GH O¶HIIHW 3RROH-)UHQNHO &HWWH GpSHQGDQFH VH WUDGXLW SDU OD QRWLRQ G¶pQHUJLH

G¶DFWLYDWLRQDSSDUHQWH3RXUXQFKDPSpOHFWULTXHܧ donQpO¶pQHUJLHG¶DFWLYDWLRQDSSDUHQWH

est :

ܧ௔ሺܧሻ ൌ ܧ௔ሺͲሻ ൅ ඨߨߝ݁ܧ

ுி (I.54)

Dans les structures HEMTs, les électrons sont spatialement confinés et peuvent être plus ou

moins éloignés des pièges, ces derniers pouvant se trouver en surface, dans le buffer, aux

interfaces etc. Les mécanismes de piégeage sont alors plus complexes et doivent inclure des

SKpQRPqQHVGHWUDQVSRUWGHFKDUJHVFRPPHO¶pPLVVLRQWKHUPRwRQLTXHRXO¶HIIHW tunnel, en

amont et en aval de la capture/émission par le piège à proprement parler. Par ailleurs les

mécanismes de piégeages ont lieu non seulement avec les électrons du canal, mais

également avec ceux de la grille. Il est important de considérer tous ces aspects pour connaître

O¶pWDWGHVSLqJHVjXQHSRODULVDWLRQGRQQpH3RXUFHODOHWUDFpGXGLDJUDPPHGHEDQGHVSHXW

aider.

I.3.2.3. Mise en évidence des pièges

Les phénomènes de capture/émission par les pièges sont mis en évidence lors du passage

G¶XQHSRODULVDWLRQjXQHDXWUHGXUDQWOHTXHOOHVSLqJHVSDVVHQWG¶XQpWDWG¶pTXLOLEUHjXQDXWUH

avec un certain régime transitoire (effets dispersifs). Plus précisément, lorsque le transistor

reste soumis à une polarisation pendant suffisamment longtemps, on atteint un pWDWG¶pTXLOLEUH

ODFDSWXUHHWO¶pPLVVLRQVHFRPSHQVHQW/RUVTXHO¶RQFKDQJHODSRODULVDWLRQODSRVLWLRQUHODWLYH

du niveau de Fermi au voisinage des pièges FKDQJHO¶pTXLOLEUHHVWURPSX/¶pWDWGHVSLqJHV

répond à ce changement soit par des captures supplémentaires (en cas de hausse du niveau

GH)HUPLVRLWSDUGHVpPLVVLRQVG¶pOHFWURQVHQFDVGHEDLVVHGXQLYHDXGH)HUPLSDUOHV

pièges alors éloignés de ܧி, en vertu des relations (I.51). Cette dynamique des pièges affecte

les caractéristiques électriques du transistor de manière double : ᬅ un électron émis/capturé

participera ou ne participera pas aux courants, et ᬆ le piège ainsi vidé/rempli affecte la

répartition des charges et donc le profil de potentiel et les courants.

Parmi les effets concrets de pièges sur le courant de drain, citons le gate-lag et le drain-lag,

qui désignent des régimes transitoires du courant de drain en réponse à un échelon de tension

de grille ou de drain respectivement. Le gate-lag est usuellement associé à des effets de

SLqJHV GH VXUIDFH HW G¶LQWHUIDFH SURFKHV GH OD JULOOH SURYRTXDQW O¶DSSDULWLRQ G¶XQH JULOOH

secondaire virtuelle induisant une déplétion du 2DEG et donc une diminution du courant [59].

Cette grille secondaire est couplée à la grille primaire SDU XQ UpVHDX 5& G¶R OH UpJLPH

transitoire dans la récupération du courant. Quant au drain-lag, il est attribué aux pièges situés

dans le buffer, G¶RVRQDSSHOODWLRQGHbackgating par certaines publications pour suggérer

O¶DSSDULWLRQ G¶XQH JULOOH YLUWXHOOH HQ GHVVRXV GX FDQDO [60]. La Figure I.34 présente les

transitoires de courant de drain correspondants à ces effets sur un HEMT classique.

Figure I.34 ± Mise en évidence des phénomènes de (a) gate-lag et (b) drain-lag loUVG¶LPSXOVLRQVHQ

tension (respectivement ܸ

ீௌ

et ܸ

஽ௌ

) sur un HEMT AlGaN/GaN 8×75 µm. À noter les constantes de

temps très différentes. De [57], [59].

Les mesures PIV présentées précédemment permettent également de mettre en évidence ces

effets. En principe la durée de mesure ȟݐ௠HQSOXVG¶rWUHVXIILVDPPHQWFRXUWHSRXUV¶DIIUDQFKLU

des effets thermiques dispersifs, est choisie de telle sorte que la mesure tienne compte des

captures mais pas des émissions, i.e. ߬௖

൏ ȟݐ௠ ൏ ߬௡. En choisissant judicieusement les points

de repos de façon à privilégier tels ou tels pièges, on trace des caractéristiques IV

UHSUpVHQWDWLIVGHO¶pWDWGHFHVpièges. On parvient ainsi à remonter aux effets de gate-lag et

de drain-lag par comparaison entre les différents réseaux. Plus de détails seront donnés au

Chapitre IV.

(QILQOHVPHVXUHV'&SHUPHWWHQWGHPHWWUHHQpYLGHQFHO¶HIIHWGHFRXGHkink effect) qui est

également causé par des pièges. Ces derniers capturent des électrons du canal puis les

libèrent soudainement à une tension ܸ஽ௌ donnée, ce qui donne lieu aux « bosses »

caractéristiques sur les réseaux DC. Un coude peut aussi apparaître sur les courbes ܫ஽ௌെ ܸீௌ.

Elle est associée à la capture par des pièges donneurs en surface et à un phénomène

G¶DQFUDJHGXQLYHDXGH)HUPLSDUOHVSLqJHV : ainsi dans la plage de ܸீௌ durant laquelle les

pièges se remplissent, la grille ne module plus le 2DEG.

I.3.2.4. Spectroscopie des pièges

Les pièges peuvent être également caractérisés directement, on parlera alors de

VSHFWURVFRSLHGHSLqJHV/HVWHFKQLTXHVGHVSHFWURVFRSLHV¶DSSXLHQWVXUODORLG¶$UUKpQLXVHQ

PHVXUDQW OD FRQVWDQWH GH WHPSV G¶pPLVVLRQ SRXU GLIIpUHQWHV WHPSpUDWXUHV GH jonction, en

utilisant un chuck thermique. Le tracé de Žሺ߬ܶଶሻ en fonction de ͳȀ݇ܶ, appelé graphe

G¶$UUKHQLXVSHUPHWHQVXLWHG¶H[WUDLUHODVLJQDWXUHGXSLqJHܧ௔ et ߪ௡ par évaluation de la pente

HWGHO¶RUGRQQpHjO¶RULJLQH

Parmi les techniques historiquement utilisées dans la littérature figurent la DLTS (deep level

transient spectroscopy) de la capacité de grille ou du courant de drain, la DLOS (deep level

optical spectroscopy) et les mesures de transitoire de courant. Les mesures de bruit

électronique basse fréquence du courant de dUDLQRXGHJULOOHSHUPHWWHQWpJDOHPHQWG¶LGHQWLILHU

les centres de génération/recombinaison responsables de fluctuations de charges, en prenant

soin de décorréler les influences du bruit thermique, du bruit de grenaille et du bruit en ͳȀ݂.

Au cours de ce travail nous avons utilisé une technique nouvellement développée reposant

a) b)

VDS = 10 V

VGS 9຦9 VGS = -5 V VDS 9຦9

WUDQVLWRLUH GH UpVLVWDQFH j O¶pWDWON. Pour les structures avec oxyde de grLOOH G¶DXWUHV

WHFKQLTXHVH[LVWHQWSRXUODFDUDFWpULVDWLRQGHVSLqJHVjO¶LQWHUIDFHUHSRVDQWSRXUODSOXSDUW

sur des mesures de capacité de grille. Nous y reviendrons au Chapitre IV lorsque nous

présenterons les mesures de nos composants.

I.3.3. Dégradation des HEMTs