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Croissance de matériaux moléculaires monocristallins par électrocristallisation

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Academic year: 2022

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(1)

2015 2035 2055 2075 2095 2115 2135 2155

0 0,2 0,4 0,6 0,8 1

% de Br Volume de maille (A3 )

Br vs Cl Br vs I

Références :

Dispositif expérimental :

Verre fritté Porosité 3 Electrode :

Fil de platine Ø =1 mm

Electrolyte (A

-

)

Donneur

d’électrons (D)

D  D

+•

 D

+•

A

-

Sel de radical cation = Matériau

Monocristaux

Paramètres :

Le solvant : Le donneur et l’electrolyte doivent idéalement y être solubles alors que le sel de radical cation (matériau) doit précipiter. Des molécules neutres de solvant peuvent s’insérer dans la structure.

La densité de courant : L’expérience est généralement menée à un courant faible et constant, de l’ordre de 1 mAmp cm

-2

(mode galvanostatique); Travailler en mode alternatif favorise la croissance des germes les plus gros.

La température : Elle contrôle la vitesse de croissance du matériau. Plus elle est élevée et plus la cristallisation est lente. Elle doit être en adéquation avec le point d’ébullition du solvant.

► Matériaux monocristallins très purs

► Reproductibilité

► Adaptabilité : confinement, mode alterné

Deux familles de nouveaux matériaux obtenus grâce à cette technique :

Donneur

12

C ou marqué au

13

C

S S S

S

S

S

CONMe2

13C

[1]

K. Heuzé, M. Fourmigué, P. Batail, C. Coulon, R. Clérac, E. Canadell, P. Auban-Senzier, S. Ravy, D. Jérome, Adv. Mater., 2003, 15, 1251.

[2]

L. Zorina, S. Simonov, C. Mézière, E. Canadell, S. Suh, S. E. Brown, P. Foury-Leylekian, P. Fertey, J.-P. Pouget, P. Batail, J. Mater. Chem. 2009, 19, 6980.

[3]

P. Auban-Senzier, C. R. Pasquier, D. Jérome, S. Suh, S. E. Brown, C. Mézière, P. Batail, Phys. Rev. Lett. 2009, 102, 257001.

[4]

B. Náfrádi, A. Olariu, L. Forró, C. Mézière, P. Batail, A. Jánossy, Phys. Rev. B, 2010, 81, 224438.

[5]

M. Fourmigué, E. W. Reinheimer, K. R. Dunbar, P. Auban-Senzier, C. Pasquier, C. Coulon, Dalton Trans 2008, 4652

Cas d’une oxydation :

-(EDT-TTF-CONMe

2

)

2

X, X = Br, AsF

6

: Isolant de Mott à bande quart remplie

Conditions AsF6 Br

EDT-TTF-CONMe2 5 mg 5 mg Electrolyte TBAAsF6

50 mg (8 eq)

PPh4Br 35 mg (6 eq) Solvant 1,1,2-TCE DCM/ACN

50/50

Température (°C) 30 25

I (μA) 0.5 1,5

Morphologie Aiguilles Aiguilles

Conclusion: Un ordre de charge est déjà présent à température et pression ambiantes; Il est stabilisé par une participation coopérative entre les sous réseaux anioniques et cationiques.

Pour chacune des deux orientations moléculaires il existe deux environements magnétiques différents.

X = AsF6

13C RMN

Diagramme de phase (P/T )

-5 0 5 10

10 100 1000

TAF (13C T

1)

Insulator CO

X = Br

Conductor 2D

Insulator

TMI ()

Conductor 1D

T T*

TAF (1H T1 )

TMI (

//)

Antiferromagnetic

Temperature (K)

Pressure (kbar)

X = AsF6

X = Br

Expériences standard de diffraction des RX :

Structure moyenne monoclinique P21/a à 150 K

Expériences de RX au synchrotron :

Mise en évidence du doublement de la maille

élémentaire suivant la direction b dès l’ambiante;

→ groupe d’espace non centrosymétrique P2nn

Cécile Mézière

1

, Olivier Jeannin

2

, Marc Fourmigué

2

, Patrick Batail

1

1

Institut des Sciences et Technologies Moléculaires d'Angers – Moltech Anjou, UMR 6200, Faculté des Sciences, 2 Boulevard Lavoisier, 49045 Angers

2

Equipe Matière Condensée et Systèmes Electroactifs (MaCSE), Sciences Chimiques de Rennes, Univ. Rennes 1 & CNRS UMR 6226, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes E-mail: cecile.meziere@univ-angers.fr, olivier.jeannin@univ-rennes1.fr

CROISSANCE DE MATÉRIAUX MOLÉCULAIRES MONOCRISTALLINS PAR ÉLECTROCRISTALLISATION

Molécule oxydo-réductible : de 5 à 100 mg (environ 10

-4

mmol)

S

S S

S Ni R1

R2 R4

R3

Le contre ion : de 1 à 10 équivalents molaires

Petites entités : Br

-

, AsF

6-

, ZrF

62-

, FeCl

4-

, Au(CN)

2-

Polymère : Cu[N(CN)

2

]Br

Cluster : Re

6

Se

8

(CN)

64-

Polyoxométallate : PW

12

O

403-

Complexe dithiolène :

S

S S

S

S

S S

S S C

S

NR2 O

R = H ou Me

o-DM-TTF TTF

EDT-TTF amides

S

S S

S S

S S

S S

S S

S

-e- -e-

+e- +e-

E

1

ox = 0.35V

S

S S

S

Nouveaux générateurs de micro-courant financés par le réseau CRISTECH

Cryothermostat

Electrodes

Etuve réfrigérante Cellule classique

o-(DMTTF)

2

X, X = Cl, Br, I: Métal à bande quart remplie, très unidimensionnel

Paramètres de maille 

 Taille de l’anion

-Série de sels isostructuraux, structure tétragonale, groupe d’espace I-42d

- Distance intermoléculaire unique le long des chaînes

 Un vrai système ¾ plein à structure tétragonale

- Chaînes isolées, perpendiculaires les unes aux autres

 Un système 1D

0 5 10 15 20 25

0 50 100

150 Br I

Tmin

(o-DMTTF)

2X

T (K)

Pressure (kbar) Metal

CDW

?

Cl

Effets de la pression sur 

//

(T, P)

- comportement métallique pour T > Tmin - localisation 1D à Tmin

- T < TMI état fondamental CDW (spin- Peierls?)

Cl: deux transitions à faible p, une transition à haute p ( 1er ordre)

Br: transition large à faible P, une transition fine à haute p ( 1er ordre)

I : T < Tmin variation douce de //(T) même à haute P  TMI ?

Effets de la pression chimique (taille de l’anion)

Cl Br I : même // (300K, 1bar), (300K, 1bar) plus faible pour Cl

Cl → Br → I : passage de deux à une

transition diminution du caractère 1st ordre de TMI

Cl → Br → I équivalent à une augmentation de pression

0 0,2 0,4 0,6 0,8 1

0 0,2 0,4 0,6 0,8 1

% de Br- dans les cristaux

% de Br- dans l'electrolyte

Br vs I Br vs Cl

Insertion préférentielle de Br

Les alliages o-(DMTTF)

2

(Br

X

, Y

(1-X)

)

Financements :

ANR blanc CHIRASYM 2005-08 ANR blanc ¾ FILLED 2008-11 (Orsay, Angers, Rennes,

Bordeaux, Grenoble) Réseau CRISTECH

Diagramme de phase (P/T )

Références

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