HAL Id: jpa-00215293
https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00215293
Submitted on 1 Jan 1973
HAL is a multi-disciplinary open access archive for the deposit and dissemination of sci- entific research documents, whether they are pub- lished or not. The documents may come from teaching and research institutions in France or abroad, or from public or private research centers.
L’archive ouverte pluridisciplinaire HAL, est destinée au dépôt et à la diffusion de documents scientifiques de niveau recherche, publiés ou non, émanant des établissements d’enseignement et de recherche français ou étrangers, des laboratoires publics ou privés.
RÉSONANCE ÉLECTRONIQUE DE SPIN PAR TRANSMISSION DANS DES ALLIAGES DE CuMn
ET AgMn PRÉPARÉS PAR IMPLANTATION
H. Hurdequint
To cite this version:
H. Hurdequint. RÉSONANCE ÉLECTRONIQUE DE SPIN PAR TRANSMISSION DANS DES AL- LIAGES DE CuMn ET AgMn PRÉPARÉS PAR IMPLANTATION. Journal de Physique Colloques, 1973, 34 (C5), pp.C5-27-C5-27. �10.1051/jphyscol:1973506�. �jpa-00215293�
JOURNAL DE PHYSIQUE Colloque C5, supplkment au no 11-12, Tome 34, Novembre-Dtcembre 1973, page C5-27
RESONANCE ELECTRONIQUE DE SPIN PAR TRANSMISSION
DANS DES ALLIAGES DE CuMn ET AgMn PREPARES PAR IMPLANTATION
H. HURDEQUINT
Laboratoire d e Physique des Solides, BBtiment 510, Universit6 Paris-Sud, Centre d'Orsay, 91405 Orsay, France
RksumB. - Nous rendons compte d'experiences de rksonance Blectronique, par transmission, des Blectrons de conduction d'kchantillons minces (typiquement 30 p) de cuivre ou d'argent dans lesquels des ions Mn ont Bte implantks. L'implantation a BtB realisBe soit sur une des faces, soit sur les deux faces de 1'6chantillon de metal pur, A une Cnergie par ion Mn de 220 keV pour le Cu et de 112 keV pour I'Ag, et a des doses comprises dans la gamme (5 x 1013 ions/cmz ; 5 x 1015 ions/cmZ).
Nous observons une forte augmentation de I'intensite du signal de resonance des Cchantillons implantes par rapport a celle du metal pur correspondant. Typiquement, a T = 1,5 K, pour une dose de 5 x 1014 ions/cmz, ce facteur #augmentation est de I'ordre de 50 pour un Cchantillon de cuivre implant6 sur une face et de l'ordre du carrt, c'est-&-dire, 2 500 pour un echantillon de m2me Bpaisseur implant6 sur les 2 faces. A la difference du mBtal pur, l'intensite du signal de resonance et sa largeur de raie dkcroissent rapidement avec la tempkrature.
L'ensemble des caractkristiques de cette resonance peut Stre explique a I'aide d'un modkle simple qui traite la couche implantke comme un mCtal magnetique equivalent fortement couple aux Blectrons de conduction du metal pur matrice. De l'analyse, on deduit : - le fait que les ions Mn implantes sont bien magnetiques ; - le temps de relaxation des electrons de conduction dQ aux ions Mn et aux dBfauts crCBs par implantation ; - une augmentation, dependante de I'Cnergie d'implantation, du taux de relaxation intrinskque des ions Mn avec le reseau par rapport a un alliage homogkne.
Article published online by EDP Sciences and available at http://dx.doi.org/10.1051/jphyscol:1973506
