HAL Id: jpa-00245601
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Submitted on 1 Jan 1987
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Relations conductivité/microstructure dans des céramiques composites superconducteur
(NASICON)/verre isolant
Ph. Colomban
To cite this version:
Ph. Colomban. Relations conductivité/microstructure dans des céramiques composites superconduc-
teur (NASICON)/verre isolant. Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP,
1987, 22 (8), pp.719-727. �10.1051/rphysap:01987002208071900�. �jpa-00245601�
719
Relations conductivité/microstructure dans des céramiques composites superconducteur (NASICON)/verre isolant
Ph. Colomban
Groupe
de Chimie du Solide, Laboratoire dePhysique
de la MatièreCondensée,
G.R. 38 du
CNRS,
EcolePolytechnique,
91128 Palaiseau, France(Reçu
le 5 mars 1987,accepté
le 28 avril1987)
Résumé. 2014 Des
céramiques composites
à base desuperconducteur ionique
NASICON(Na3Zr2Si2PO12)
et deverre peu conducteur
(Na2Zr4Si16P8O61)
ont été élaborées suivant une filière « SOL-GEL » parfrittage
à bassetempérature.
Les microstructures obtenues ont étéanalysées
parmicroscopie électronique
et l’inter-réaction entre les deuxphases
a été étudiée parmicroanalyse
Raman. La conductivité descomposites
a étéanalysée
parspectrométrie d’impédances complexes
pour diversesproportions
de verre(entre
3 et 90 %pondéral)
et pour différentsdegrés
de réactions(découlant
des différentestempératures
defrittage).
Le seuil depercolation
sesitue vers 5 % et, dès 10 % de verre, les
propriétés
ducomposite
sont déterminées par le verre. Une anomalie de conductivité est observée pour lescomposites
contenant 3 % de verre.Abstract. 2014 NASICON
(Na3Zr2Si2PO12)/low
conductor(Na2Zr4Si16P8O61 glass) composites
ceramics have beensynthesized using sol-gel
process andlow-temperatures sintering.
The microstructures have been studiedby scanning
electronmicroscopy
and the chemical reaction between NASICONgrains
and theintergranular glassy
secondphase
has beenanalysed using
RamanMicroprobe
spectroscopy.Conductivity
has beenmeasured
by impedance
spectroscopy for variousglass
content between 3 and 90 %(by weight)
and for variousdegrees
of reactions between NASICON andglass.
Thepercolation
threshold is about 5 % and up 10 % theproperties
are similar to those of the lowconducting phase.
Anconductivity anomaly
is observed for 3 %glass
content.
Revue
Phys. Appl.
22(1987)
719-727 AOÛT 1987,Classification
Physics
Abstracts66.30H - 78.30 - 81.20Q
1. Introduction.
Les
composés
detype
NASICON(un
acronymepour Na
Super
Ionic Conductorcorrespondant
à lasolution solide
NaZr2 (PO4 )3-Na4Zr2 (S1O4 )3)
sonttrès étudiés du fait de leurs
remarquables propriétés électriques : u 300 °e -:1= 10- 1 fl- 1 cm- pou
la compo- sitionNa3Zr2S12PO12 [1].
Sous forme decéramiques,
le NASICON
peut
être utilisé dans différentsdisposi-
tifs
électrochimiques : accumulateurs, capteurs...
[2, 3].
Lasynthèse
decéramiques parfaitement
puressur le
plan cristallographique
est difficile et certainsproblèmes
rencontrés dans l’utilisation de cet élec-trolyte
solidepeuvent
être reliés à laprésence
dephases parasites
auxjoints
degrains ;
celles-ci sontgénéralement
soit de la zirconemonoclinique,
soitune
phase vitreuse,
riche en silice[4, 5] ;
cettedernière
phase
estparticulièrement importante
dansles
compositions
déficitaires en zirconium[6].
Cesphases parasites proviennent
soit de la réactionincomplète
des matièrespremières,
soit d’une carac-téristique
dudiagramme
dephase :
environ 100 °Cavant la fusion
incongruente
de laphase
une démixtion
partielle peut
seproduire
pour lescompositions x ~ 2,
y > 0[7].
Cesproblèmes
peu- vent être évités en utilisant une filière desynthèse
« SOL-GEL »
[8, 9].
Pour une meilleure
compréhension
despropriétés électriques
del’électrolyte
solideNa3Zr2Si2P012,
nous avons volontairement
préparé
descéramiques composites
contenant desproportions
variables deverre
(la composition choisie, Na2Zr4Si16Pg061,
estproche
de cellequi
se formespontanément
pour lescompositions
déficitaires en zirconium[9]).
Laméthode de
synthèse
utiliséepermet
d’enrober lesgrains
de NASICON par laphase
vitreuse. Eneffet,
s’il est bien établi
qu’à
une interface conducteurionique/conducteur électronique
desphénomènes
dedouble-couche se
produisent
etpermettent
de réali-Article published online by EDP Sciences and available at http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:01987002208071900
720
ser des
super-condensateurs [10],
il a été avancé que desphénomènes physiques
à l’interface supercon- ducteurionique/isolant pouvaient
conduire à uneélévation de la conductivité
[11]. Cependant,
lesexemples
étudiés(comme
parexemple
lesmélanges LiI/A1203y)
sont peu convaincants du fait de lapossibilité
d’obtenir à l’interface une secondephase
conductrice
(par exemple
unhydrate,
voire unesolution
ionique)
du fait de laprésence d’espèces protoniques.
Aussi il nous a semblé intéressant d’étudier lespropriétés électriques
decomposites susperconducteurs-phase
isolante à base de NASI- CON.2.
Expérimental.
2.1 SYNTHÈSE. - La
figure
1 résume la filière desynthèse.
Laphase
pureNa3Zr2Si2P012
est d’abordpréparée
par une méthodesol-gel
intitulée« méthode 1 »,
largement
décrite dans la référence[9] :
une solution depropoxide
de zirconium(Alfa- Ventron)
dans lepropanol (environ
1/1 envolume)
est
hydrolysée
simultanément par deux solutions aqueuses,respectivement
une solution colloïdale deFig.
1. - Schémagénéral
desynthèse
decéramiques composites.
[General
flowchart ofcomposite
ceramicsprocess.]
silicate de soude
(Na20
3SiO 2 3 H20, Prolabo)
etune solution de
NH4H2P04 (Prolabo),
uneagitation vigoureuse
étant réalisée. Lesquantités
d’eau utili-sées
correspondent
à environ 10 moles d’eau par atomed’oxygène d’alkoxyde. Après séchage
à tem-pérature
ambiante unepoudre fine,
formée departicules
d’environ0,1
pm est obtenue. Afin d’éviter la formationd’agglomérats durs,
legel
estdésagrégé
continuellementpendant
sonséchage.
Untamisage dynamique [13]
est effectué pourparfaire l’homogénéité
dimensionnelle de lapoudre.
Legel
obtenu
peut
êtrereprésenté
par la formuleNa3Zr2Si2P012’ 6,3 H20 ;
il estamorphe [13].
Lapoudre
est ensuite traitéethermiquement
à800,
950ou 1 200 °C afin de
développer
trois états différents de la structure NASICON[7]. Après
ces recuits lataille des
particules
estcomprise
entre0,1
et0,5
03BCm.La structure NASICON
peut rapidement
êtredécrite comme formée de tétraèdres isolés
(Si04, P04 )
définissant entre eux des cavités soitvides,
soitoccupées
par les ions tétra- ou monova- lents. Les tétraèdresprésentent
un fort désordre d’orientationstatique
et/oudynamique,
désordrecouplé
à desdegrés
deremplissage
variables dessites,
ce désordrejouant
un rôleimportant
pour la diffusionrapide
des ions alcalins[7].
Si le traitementthermique
reste inférieur à 900°C,
le NASICONpréparé
par méthodesol-gel
estamorphe,
certainstétraèdres étant associés et les chemins de conduc- tion mal définis. Vers 950
°C,
la structure NASICONse
forme,
mais un fort désordre d’orientation stati- que resteprésent.
Recuit au-dessus de 1150°C,
lematériau
présente
des transitions biendéfinies,
enparticulier
la transitionmonoclinique/rhombohédri-
que à 150 °C déclenche un fort désordre
dynamique
d’orientation des tétraèdres et l’état
superconducteur ionique apparaît : l’énergie
d’activation de la conduc- tivité est alors inférieure à0,15
eV[7].
Le verre pur est
préparé
suivant la « méthode 2 »[9] :
une solutionalcoolique
des alkoxides deSi,
Zret P
(Si(OC2H5)4, Zr(04C3H7)4, P(OtC4H5)3,
Alfa-Ventron)
esthydrolysée
par une solution aqueuse deNaOH,
une forteagitation
étant là aussi nécessaire.Pour obtenir la
poudre qui
donnera par traitementthermique
lacéramique composite
NASICON-VERRE,
lapoudre
deNASICON, préalablement
traitée
thermiquement
à800,
950 ou 1200°C,
conservée
sèche,
est mise ensuspension
dans lepropanol puis mélangée
avec la solution depropanol
contenant les alkoxides de
Zr,
Si et P(Fig. 2).
Lasolution
obtenue, agitée
constamment pour conser-ver la
poudre
ensuspension,
est alorshydrolysée
par NaOH. Un fort excès d’eau(50
à 100 moles d’eau pour 1 mole de verre et unequantité
minimaled’alcool
(1
volume depropanol
pour 1 volumed’alkoxide)
sont utilisés. Eneffet,
l’excès d’eaupermet
d’obtenir ungel
trèsproche
d’un oxide[13],
ce
qui
limite le retraitprovoqué
par ledépart
desFig.
2. -Représentation schématique
des microstructures désirées et de la méthoded’enrobage
desgrains
deNASICON par le
précurseur
de verre. En fonction de latempérature
àlaquelle
est effectué lefrittage,
laphase intergranulaire
peut être du verre pur ou bien unproduit
de réaction entre celui-ci et le NASICON.
[Schematic
view of theexpected
microstructures and of the method for theglass/NASICON grains encircling.
As afunction of the
sintering
temperature, theintergranular phase
can be pureglass
or a newphase
made fromNASICON and
glass reaction.] ]
espèces
volatiles entre 100 et 400 °C.Après séchage
à 50 °C
(là
aussi legel
doit être constammentdésagrégé pendant
leséchage)
lapoudre
est compac- tée suivant uncycle
court : 50MPa,
1 min +150
MPa,
2min, décompression
2 min. Legel pré-
curseur de verre étant
hygroscopique,
le pressage doit être fait aussitôtaprès séchage.
Lapastille
obtenue est frittée à
800,
950 ou 1 200 °Cpendant
1 h
(vitesse
de chauffe100 °Clh,
refroidissement300 "C/h).
2.2 MOYENS D’INVESTIGATION. - La
microanalyse
Raman est effectuée avec un instrument MOLE I.S.A. associé à un laser
Argon Spectra Physics.
Lalongueur
d’onde excitatrice est514,5
nm avec unepuissance
de 50 mW. Le volumeanalysé
est d’envi-ron 1 à 5
J.Lm3. L’analyse dilatométrique
est obtenueavec un
appareil
ADAMEL. Lamicroscopie
électro-nique
est faite sur unappareil
HITACHI. Lesmesures
électriques
sont faites à l’aide d’unanalyseur
de
réponse
enfréquence
HP 4192 Apiloté
par un micro-ordinateur Olivetti M24. Les électrodes(déposées
sur les échantillonsfrittés)
sont constituées d’unelaque d’argent
séchée à 150’>C ou d’unelaque platine
frittée à 800 °C. La diffusion del’argent
dansla
céramique peut
être considérée comme nulle dans la gamme detempératures explorée
par les mesures(20-600 -C).
3. Microstructures.
3.1 TOPOLOGIE. - La
figure
3 compare les courbes de dilatation de lacomposition Na3Zr2Si2pOl2,
duREVUE DE PHYSIQUE APPLIQUÉE.-T. 22, N. 8, AOÛT 1987
Fig.
3. - Courbesdilatométriques (0394l/l0): a)
NASI-CON, b)
verre,c) composites
avecrespectivement
5 et10 % de verre
(les grains
de NASICON ont étépréalable-
ment traités à 950
°C).
[Dilatometric
traces(0394l/l0): a) NASICON, b) glass, c)
5 and 10 %glass composites (NASICON grains
havebeen
previously
heated at950°C).]
verre
Na2Zr4Si16P8061 et
de deuxmélanges
contenant5 % et 10 % de verre
respectivement.
Tousprésen-
tent un retrait en dessous de 400 °C du fait du
départ
des solvants et des
espèces protonées
lors de la transformationgel -
oxideamorphe [7, 9, 13].
Ladensification du NASICON se
produit
entre 700 et900 °C tandis que le verre montre un retrait sans fin au-dessus de 850 °C du fait de l’abaissement de sa
viscosité.
L’ajout
de 5 % de verre conduitdéjà
àl’apparition
de cecomportement,
mais unpalier
deréaction est observé entre 900 et 1100 °C. Les
phénomènes
sont d’autantplus
nets quel’ajout
estplus important.
L’action d’une secondephase
vitreuse est donc très favorable au
frittage.
Aussidans les
premières
études[5, 14, 15],
peu d’attention futportée
à cettephase
vitreuse car elle améliorait lefrittage
et ainsi dans une certaine mesure lesproprié-
tés
électriques
en courant alternatif. Par contre l’effet estdramatique
pour lesapplications
nécessi-tant un
transport
des ions dans lacéramique (accu- mulateur)
mais aussi pour la stabilité vis-à-vis du sodium fondu[16].
Certains auteurs[17, 18]
relièrentcependant
l’existence de différentes relaxations dans lesspectres d’impédance complexe
à laprésence
desecondes
phases (zircone, phases indéterminées...).
La
figure
4 compare les microstructures observéessur fractures pour une même concentration de verre
(5 %)
en fonction de latempérature
de recuit et pourune même
température (950 °C)
en fonction dupourcentage
de verre. En accord avec lesanalyses dilatométriques,
on notequ’en
dessous de 950°C,
laréaction entre le verre et les
grains
de NASICONreste faible. La durée du
cycle
decompaction (quelques min)
a été volontairement limitée pourprévenir
unecompaction complète (un cycle
de15 min est nécessaire pour une
compaction optimale [13, 20])
rendantplus
difficile l’observation des modifications. Onpeut
supposer que cette compac- tionincomplète augmentera
laquantité
de verre49
722
Fig.
4. -Microphotographies
de fractures decéramiques composites
à 5 % de verre, frittésrespectivement
à 800(a),
950
(b)
et 1150 °C(c).
Encomparaison
le cas d’uncomposite
à 60 % de verre, fritté à 950 °C est montré(d). (Echelles
etgrossissements
sontindiqués
en bas de laphotographie).
[Photomicrographs
of 5 %glass composites (fractures)
sintered at 800(a),
950(b)
and 1150 °C(c), respectively.
Forcomparison,
thephotomicrograph
of a 60 %glass composite (950 °C sintered)
is shown(d). (Magnification
and scale arenoted
below).]
nécessaire à la modification des
propriétés
électri-ques. A 800 °C la taille moyenne des
grains
estinférieure à
0,5
03BCm et la cassure resteintergranu-
laire.
Après frittage
à 950 °C un fortgrossissement
de la microstructure
apparaît.
Lesgrains
ont entre 2et 10 )Jbm comme dans les
céramiques monophasées [20] ;
la taille des poresgrossit également.
Tout ceciindique
une réaction liée à laprésence
d’unephase liquide. Après frittage
à 1150°C,
la microstructure esttypique
d’unfrittage
enphase liquide
avec despores de forme ronde et une cassure
transgranulaire.
La réaction reste
cependant
faible au-dessous de 950 °C et se limite à la zone de contactVERRE/NASICON,
car même pour une concentra- tion de 60 % de verre, lacéramique
reste bienhétérogène.
Latopologie
observéecorrespond
à cequi
estsymbolisé
dans lafigure
2.3.2 RÉACTIONS CHIMIQUES ET MICROHÉTÉROGÉ- NÉITÉ. - La
figure
5 compare lesspectres
Raman decomposites
frittés à 950 et 1150 °C pour différents taux de verre entre 5 et 95 %(la
forte diffusion observée en dessous de 200cm-1 est principalement
due à
l’appareillage
dont le taux deréjection
de lalumière incidente est
faible).
Lespectre
du compo- site à 5 % de verre est trèscomparable
à celui duNASICON pur
[7],
si ce n’est lalarge
bosse entre600 et 1300
cm-1
due à laprésence
du verre. Unajout plus important
modifie lespectre
du massif-vP-01PSi-0 (modes d’élongation
destétraèdres)
avec une
augmentation
de l’intensité du mode devibration vP-0 à
1030 cm-1,
cequi
traduit undéplacement
de lacomposition
vers x = 0[19].
Simultanément la bosse due au verre devient
plus intense,
avec enparticulier
une bande vers 800cm-1 caractéristique
de tétraèdres associés.(vP-0-P
ouvSi-O-Si) [7]. Cependant jusqu’à
laproportion
de60
%,
onpeut
considérer que l’on a encore uncomposite
contenant pour uneproportion significa-
tive la
phase NASICON ; cependant
sa stoechiomé- trie évolue vers descompositions
riches enphosphate (x- 1 ).
Un traitementthermique
à 1150 °Cconduit comme dans le cas des
compositions
voisinesde x = 2 à
l’apparition
de traces de zircone monocli-nique (raies
fines à175-185, 335, 345, 380, 475,
573et 635
cm-1).
Les autres modifications résultant del’ajout
de verre ne sont pas fortement modifiées.La
figure
6 compare lesspectres
Raman obtenus pour deux localisations distantes d’environ 5-10 03BCm pour unecéramique
frittée à 950 °C : laproportion
de verre et la modification de la
composition
duNASICON sont
plus marquées
en aqu’en b,
tradui-sant ainsi que la
microhétérogénéité
structurale est du même ordre que la taille desgrains,
en accordavec la
représentation
de lafigure
2.4.
Propriétés électriques.
4.1 CÉRAMIQUES « MONOPHASÉES ». -
L’impé-
dance Z d’une
céramique
recouverte de deux électro- desmétalliques peut
être étudiée en fonction de lafréquence (entre
100 Hz et 10 MHz dans cetravail).
Fig.
5. -Spectres
Ramanenregistrés
sur un volumelocalisé
(~ 5 03BCm3)
pour descomposites
frittés à 950(a)
ou1150 °C
(b).
Lesgrains
de NASICON ont étépréalable-
ment traités à 950 °C. Les
proportions
de verre variententre 5 et 95 %.
[Microprobe
Raman spectra of 950(a)
and 1150 °C(b)
sintered
composites (the probe
volume is ~ 5f.Lm3).
TheNASICON
grains
arepreviously thermally
treated at950 °C. Various
glass
content between 5 and 95 % areshown.] ]
Cette
grandeur peut
êtrereprésentée
dans leplan complexe : Z(w)
=R(w) - iX(w); R t w )
est lapartie
réelle, homologue
à une résistance pure etX(,,)
lapartie imaginaire, homologue
à unecapacité
pure.Selon la nature des électrodes
(interface
conducteurionique/conducteur électronique parfaitement
blo-Fig.
6. -Spectres
Raman obtenus pour unecéramique
contenant 5 % de verre et frittée à 950 °C. Le spectre est obtenu pour deux localisations
(a
etb)
distantes d’environ10 03BCm.
[Microprobe
Raman spectra of a 5 %glass composite (950 °C sintered).
The distance between the twoanalysed places
is about 1003BCm.]
quante
ounon),
la nature de lagéométrie
del’interface
(porosité, percolation)
la nature de lacéramique (monophasée
ounon)
et la nature desespèces
mobiles de nombreux cas« typiques »
dediagrammes Z(w )
ont été définis et étudiés[21-27].
Dans le cas
simple
d’un « bonsuperconduteur ionique »
associé à des électrodesbloquantes,
leschéma
équivalent
est peu différent d’unecapacité (la capacité
de doublecouche)
associée à la résis-tance de
l’électrolyte (nous
ne considérons pas ici les effets mineurs des câbles etconnexions).
En fait unécart à
?r/2
est observé et l’on observe commeindiqué
sur lafigure
7b pour unecéramique
deNASICON x =
2,
frittée à1250 °C,
etayant
des électrodes dePt,
une droite faisant unangle
de 80 à86d
selon les échantillons. L’intersection avecl’abscisse donne la résistance
globale
de l’échantillon et parlà,
la conductivité du matériau.Dans le cas d’une électrode en
Ag
pourlaquelle
une
adsorption spécifique,
voire uneinsertion, peut
survenir à l’interface(ce qui correspond
à uneélectrode
partiellement bloquante)
le processus de diffusion mis enjeu
induit unedépendance tempo-
relle en
-Ilt
et dansl’espace
desimpédances
unedroite de
pente
1/2(droite
deWarburg).
C’est cequi
724
Fig.
7. -Diagrammes d’impédances
decéramiques
NASICON
(monophasées)
réalisées avec des électrodesd’argent (a)
ou deplatine (b).
Lescéramiques
ont étéfrittées
respectivement
à 950(a)
et 1250 °C(b).
Lesconductivités du NASICON
(fritté
à 900 et1250 °C, a’)
et du verre(fritté
à1200 °C, b’)
sont donnés sur lafigure (c) (représentation loglo o-T = f (1/T)).
[Impedances diagrams
of « pure » NASICON ceramics withAg (a)
or Pt(b)
electrodes for various temperatures.Samples
are sintered at 950 °C(a)
ou 1250 °C(b), respectively. Corresponding conductivity plots (loglo
03C3T =f (11T»
aregiven
onfigure (c)
for NASI-CON
(a’)
andglass (b’).
Thesintering
temperature aregiven.] ]
est effectivement observé pour un
spécimen Ag/NASICON /Ag.
Lorsque
l’on abaisse latempérature
de l’échantil-lon,
d’autresphénomènes
de relaxation deviennent visibles. Ces relaxations(par exemple
celle observéeà 320 kHz sur la
Fig. 7à)
sontgénéralement
attri-buées soit à la
présence
de secondesphases,
soitmême aux
joints
degrains
de lacéramique.
Deseffets de
charge d’espace
non directement attribua- blespeuvent
aussi êtreinvoqués.
Les meilleurscritères d’attribution sont, à notre
avis, l’énergie
d’activation de ces
phénomènes
et leur corrélationavec les microstructures observées. Ainsi dans le cas
de la
figure 7,
une des relaxations de l’échantillon fritté à 1 250 °Cpeut
être attribuée à la zirconeprécipitée
auxjoints
degrains
en accord avec lesanalyses
de diffraction RX et de diffusionRaman,
etavec la valeur de
l’énergie
d’activation(voisine
de1
eV).
Par contre dans le cas de l’échantillon fritté à 950 °Cqui apparaît homogène
pour les différentestechniques d’analyses
utilisées une attributionpré-
cise est
plus
difficile : la seule« inhomogénéité »
reconnue est la
présence
de cristallites deNASICON
dans la matriceamorphe
de mêmecomposition [28].
La
figure
7c compare les évolutions de la conducti- vité(selon
lareprésentation log
uT =l(lIT))
pour descéramiques
de NASICON(Na3Zr2Si2P012 )
« pures », frittées à 900 et 1 250 °C ainsi que pour le
verre cuit à 1 200 °C. Les valeurs mesurées sur ces
échantillons seront considérées dans la suite du travail comme les valeurs de référence des
composés
purs, en accord avec les résultats antérieurs
[4-9].
4.2 CÉRAMIQUES COMPOSITES. - La
figure 8
compare les
diagrammes d’impédances
decomposi-
tes frittés à 800 et 950 °C avec
respectivement 3,
5 et10 % de verre, à ceux des deux
composés
limites(à
basse et haute
fréquence
lespoints expérimentaux
sont suffisamment
rapprochés
pour former une courbe continueépaisse ;
les courbes fines corres-pondent
auxdéconvolutions).
De même que pour lecomposé
NASICONsupposé monophasé,
le dia-gramme se compose d’une droite à
45d type Warburg
se
poursuivant
vers les hautesfréquences
par desarcs de
cercles, plus
ou moins bien centrés sur l’axe.Pour une même
température,
au fur et à mesure que laproportion
de verreaugmente,
lapart
des arcs de cercleaugmente,
ainsi que letemps caractéristique
associé à ces relaxations. Pour les faibles taux de
verre la gamme de
fréquence pour laquelle
la droitede
Warburg
est observée estlarge (230
Hz-1MHz).
Elle se réduit
fortement,
pour les teneurs moyennes, mais onpeut
supposer que la faibleportion
de droiteobservée est de même nature. Le verre pur montre
un
diagramme identique
à cequi
est observé dans lecas d’un double
phénomène d’absorption
et dediffusion,
avec unepente
à45d près
dupt 0,0 [24-27].
Dans ces
diagrammes
decomposites
il semble donc cohérent d’attribuer les relaxations observées du côté bassesfréquences
à la secondephase
vitreuse.Le schéma
équivalent
leplus simple
pour rendrecompte
desdiagrammes
est une résistanceRM
enparallèle
avec lacapacité intergrain,
le tout en sérieFig.
8. -Diagrammes d’impédances
decomposites
à 3, 5 et 10 %de ,verre,
frittés à 800 ou 950 °C à différentestempératures (électrodes d’argent).
Lesgrains
de NASICON ont été traitésthermiquement
à 950 °C. Lesdiagrammes
obtenus pour les
céramiques
de NASICON(fritté
à950 °C)
a,b)
et de verre(fritté
à 1 200°C), c)
sont donnés encomparaison.
[Impedance diagrams
of 3, 5 and 10 %glass composites (sintered
at 800 or950 °C, Ag electrodes).
The NASICONgrains
have been
previously
treated at 950 °C. Forcomparison,
thediagrams
obtained with pure NASICON(950 °C sintered,
a,
b)
and pureglass (1200 °C sintered, c)
aregiven.]
avec la résistance
Ro [24-25] ;
dans ce schémaéquivalent
la résistance totale estRT
=Ro
+RM, Ro
étant attribué à la résistance de la secondephase
et
RM
la résistance desgrains
de matériaux. Dans lecas du
phénomène
deWarburg
l’intersection avecl’axe des abscisses
correspond
à la résistanceRT [27].
Les cas intermédiairespeuvent
être décrits par l’association des deux cas limites. Apartir
de cesmodèles
simples,
il estpossible
de déterminerl’évolution de la conductivité totale du matériau déduite de la résistance
RT ; lorsque
deuxphénomè-
nes de relaxation sont visibles la conductivité totale
RT,
la conductivitéintrinsèque
du matériauRM = RT - Ro
et celle de la secondephase Ro peuvent
être simultanémentdéterminées).
Larepré-
sentation en loi d’Arrhénius uT =
f (1/T) permet
de visualiser directement
l’énergie
d’activationEA(uT
= o-Q exp -EA/kT ).
On suppose alors que la relation entre a et Rpeut
se faire suivant R =elas
où e estl’épaisseur
de matériau entreélectrodes
(comprise
entre0,5
et 3 mm pour noséchantillons)
et S la surface(comprise
entre 15 et50
mm2).
Ceci estparfaitement
exact pour un échan- tillonhomogène,
aux surfaceslisses,
mais sans douteerroné pour un
composite
dont lagéométrie
depercolation
estcomplexe.
Lafigure
9 compare lesconductivités déduites de
RT
pour différents compo-sites,
frittés à 800 ou 950 °C. On observe bien que,grossièrement,
les courbes descomposites
sontcomprises
entre celles des deuxcomposés
limites.On note
cependant
que :1)
dès quel’ajout
de verre atteint 10%,
lespropriétés électriques « macroscopiques »
sontplus
Fig.
9. - Conductivité totale(déduite
deRT)
pour des échantillons frittés à 800 et 950 °C et contenant différents pourcentages de verre(0
à 100%).
[Total
conductivities(deduced
fromRT)
of 800 or 950 °Csintered ceramics
containing
variousglass
content(0
to100
%).]
726
lU’"’ / 1 (K) -
1Fig.
10. - Evolution de la conductivité pour uncomposite
à 3 % de verre en fonction de latempérature (800, 950, 1200 °C)
etcomparaison
des contributionsgranulaires (a)
etintergranulaires (b)
pour descomposites
à 3, 5 et 10 % deverre. Les
grains
de NASICON ont étépréalablement
traités à 950 °C.[Conductivity plots
of 3 %glass composites
sintered at 800, 950 and1250 °C,
andcomparison
between thebulb conductivity (a)
and the secondphase
contribution(b)
for 3, 5 and 10 %glass composites.]
proches
de celles du verre « mauvais conducteur » que de celles de laphase majoritaire (NASICON), 2) l’énergie
d’activation évoluerégulièrement
de0,3
eV à0,6 eV,
sauf pour lescomposites
à 3 %(frittage 950 °C)
et à 5 %(frittage 800 °C),
3) l’énergie
d’activationaugmente légèrement
avec la
température
defrittage,
en accord avec laformation de
compositions
intermédiaires du fait de la réactionchimique
entre le NASICON et le verrecomme cela a été mis en évidence par diffusion Raman.
Si l’on compare la conductivité déduite de
RM
=RT - Ro à
celle déduite deRo,
c’est-à-dire les relaxa- tions attribuéesrespectivement
augrain («
matériaupur »)
et à la secondephase,
on obtient deuxcomportements
distincts : lapremière
a une« faible »
énergie
d’activation(~0,2eV),
très pro- che de celle du NASICON « pur », et la seconde uneénergie beaucoup plus
forte(~ 0,8 eV), comparable
à celle du verre pur. Au fur et à mesure que la
proportion
de verre, ou bien que latempérature
defrittage s’élève,
les deuxénergies,
mais aussi lesconductivités,
serapprochent (Fig. 10).
Ceci est enparfait
accord avec l’existence d’une réaction entre les deuxphases
comme observée par diffusion Raman etmicroscopie.
Enfait,
au-dessus de 10 % de verre, laséparation
entre les différentes relaxa- tions devient difficile sur une gamme detempérature
suffisamment
large
pour mesurercorrectement
1l’énergie
d’activation. Cecipeut
être dû :1)
soit à une réactiontrop
forte pour conserver descomportements électriques distincts,
2)
soit au fait que la résolution de notreappareil- lage
est insuffisante. Eneffet,
la meilleure résolutionen
spectroscopie d’impédance complexe
est obtenueavec d’autres
appareils (comme
parexemple
leSolartron
Energetec)
où il estpossible
de définir la référencequ’utilisera
lepont
pour faire sa mesure, afinqu’elle
ait uncomportement
enfréquence
leplus proche possible
de l’échantillon[29, 30].
5. Conclusion.
L’élaboration de
composites
formés de deux maté-riaux
ayant
despropriétés électriques
distinctes estFig.
11. - Evolution de la conductivité à 500 °C(a’),
300 °C
(a)
et 100 °C(a")
decéramiques
frittées à 950 °C. pour différents taux de verre. La conductivité à 300 °C de
céramiques
frittées à 800 °C est donnée encomparaison (b).
[Conductivity
at 50 °C(a’),
300 °C(a)
and 100 °C(a")
of 950 °C sintered ceramics with vatiousglass
con-tents. The 300 °C
conductivity
of 800 °C sintered ceramicsare
given
forcomparison (b).]
possible grâce
àl’emploi
destechniques
SOL-GELqui permettent
un contrôle del’hétérogénéité
àl’échelle
submicronique
et unfrittage
à unetempéra-
ture suffisamment basse pour limiter les réactions
chimiques
entre ces deuxphases.
Ceci ouvre la voieà la réalisation de microstructures
complexes
oùtopologie
etpropriétés électriques
sont fortementliées
(composés ferroélectrique,
condensateurstype III, varistances,
écranluminescents... )
etpar-là
à une meilleure
compréhension
despropriétés
liéesaux interfaces. L’association de la
microanalyse
Raman et de la
spectrométrie d’impédance
conduità une connaissance
plus approfondie
de la micros- tructure. Lespropriétés électriques
dugrain
super- conducteurionique
et de laphase intergranulaire
« isolante »
peuvent
êtreséparées
pour des teneurs inférieures à 20%,
au-delà delaquelle
la réaction entre les deuxphases
moyenne lespropriétés
électri-ques.
Cependant,
laprise
encompte
des résultats obtenus par l’ensemble destechniques d’analyses
montre que pour 40 % de verre et un recuit à 1150
°C,
les deuxphases
restent distinctes maisséparées
par unephase
decomposition
intermé-diaire. Cette étude montre
qu’il
est nécessaired’étudier les
propriétés électriques
decéramiques
dans une
large
gamme detempératures
afin que laprésence
des secondesphases
à l’état de traces soitdécélée. Ainsi dans les
céramiques
NASICON quenous considérons comme pures
d’après
les autresméthodes
d’analyse,
les relaxationsprovoquées
par des traces de zircone deviennent visibles en dessous de - 10 °C(Fig. 7).
Une anomalie de
propriété électrique
est effective-ment obtenue
(Fig.11)
pour les basses teneurs enphase intergranulaire
vitreuse(3
% recuit à 950°C,
5 % recuit à 800
°C).
Une étudeplus
fine(meilleure
résolution
expérimentale,
teneur de verre variableentre 0.1 % et 10
%)
serait nécessaire pourexpliciter
le
phénomène.
Remerciements.
S. Chorlet est remercié pour sa contribution à la
synthèse
descomposites
et à la mesure de certainespropriétés électriques.
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