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Détermination du profil de dopage en impuretés d’un
transistor à partir des mesures de certaines de ses
caractéristiques électriques
J.P. Biet
To cite this version:
59 A
DÉTERMINATION DU PROFIL DE DOPAGE EN
IMPURETÉS
D’UN TRANSISTORA PARTIR DES MESURES DE CERTAINES DE SES
CARACTÉRISTIQUES
ÉLECTRIQUES
Par J. P.
BIET,
Ingénieur civil des Télécommunications.
Résumé. 2014 La méthode exposée consiste à déduire du tableau des variations en fonction du
courant et de la tension des éléments du schéma équivalent naturel, certains paramètres physiques tels que : résistivités de la base et du collecteur ; formes des jonctions ; épaisseur de la base.
Abstract. 2014 A method of determining
physical
parameters of a transistor (such as resistivity
of the base and the collector region, shape of the junctions, base width) is presented. This involves
measurements of hybrid-pi-parameters as a function of collector voltage and current. LE JOURNAL DE PHYSIQUE ET LE RADIUM
PHYSIQUE APPLIQUÉE TOME 22, FÉVRIER à96à,
Introduction. -- La détermination du
profil
d3dopage
réel d’un transistor àpartir
de laconnais-sance de ses
caractéristiques électriques présente
quelques
difficultés dues à ce que les théorieshabi-tuelles des
jonctions
supposent
toujours
unprofil
idéalisé
(jonction abrupte, gradient
constant ouexponentiel,
etc...).
Nous nous sommesproposé
d’établir un
pont
entre ces résultats connus et lespropriétés
desjonctions
réellement obtenues enpratique.
La méthode utilisée consiste à mesurer au
préa-lable,
pour diverspoints
depolarisation,
les deuxcapacités figurant
dans le schémaéquivalent
natu-ralproposé
par Giacoletto en 1954 pour lestransis-tors alliés
(et
dont nous avons vérifiéexpérimen-talement la
parfaite
validité pour les transistors NPN augermanium
obtenus partirage) ( fig,
1).
Nous
décomposons
ensuite Cb,, par la méthodeindiquée
enAnnexe,
cequi
nous donneC.,
capa-cité due à la
charge d’espace
de lajonction
émet-teur et
Cd,
capacité
apparente
de diffusion desporteurs
minoritaires dans la base.A une tension continue collecteur-base
V,
Cd nouspermet d’obtenir
l’épaisseur
effective de base 1(épaisseur
de la zoneéquipotentielle).
L’extrapo-lation de la courbe donnant les
épaisseurs
effectives à diversestensions,
nouspermet
d’obtenirl’épais-seur à tension nulle
la,
c’est-à-dire la distancequi
sépare
lespoints
dejonction
émetteur et collecteur.Pour effectuer cette
extrapolation,
noussuppo-sons dans un
premier
temps
que lajonction
est dutype
« àgradient
dedopage
constant »(jonction
« idéalisée»).
Nous n’obtenons de cettefaçon
quedes résultats
approximatifs.
Cependant,
l’examen à ce stade de lacapacité
collecteur nouspermet
de chiffrer exactement l’erreur commise lors de
l’approximation
primaire.
Une secondeapproxi-mation est alors rendue
possible, qui
nous donneavec
précision
leprofil
exact etcomplet
de lajonc-tion collecteur.
Jonction de forme
queleonque. -
Nous nousbornerons à
rappeler
les résultatsclassiques
de60 A
l’étude d’une
jonction
NP de formequelconque
(fig.
2).
Nous
appelons .N(x)
la concentration nette enimpuretés
enchaque
point
de la zone decharge
d’espace,
différence des concentrations endon-neurs
(1Vd(x))
et enaccepteur (Na(x))
aupoint
consi-déré.
N(x)
estpositive
dans larégion
N etnégative
dans la
région
P. Lepoint
dejonction
oupoint
intrinsèque xj
est défini parN(xj)
= 0.Une
première
intégration
del’équation
de Poisson nous donne lechamp
électrique
en toutpoint
de la zone decharge d’espace :
.
La continuité du
champ électrique
à lajonction
impose :
(égalité
arithmétique
des deux aireshachurées).
Une seconde
intégration
nous donne les chutes de tensions successives :La tension totale aux bornes de la
jonction
estégale
à V ~V1-f- V2
0.Enfin,
on démontre aisément que lacapacité
due à lacharge d’espace
estégale
à celle d’un condensateur àplaques
métal-liques
de surfaceégale
à celle de lajonction,
espa-cées de b =bl
+b2
etayant
le semiconducteur considéré commediélectrique
intermédiaire :Étude
d’unejonction
àgradient
dedopage
cons-tant
(jonction « idéalisée »). -
Nous supposons, dans unpremier
temps,
avoir unprofil
dedopage
tel que celui
représenté
à lafigure
3.L’application
des formulesgénérales
donne dans ce cas :d’où
Supposons
maintenantqu’un
transistor tiré NPNau
germanium
ait unejonction
collecteur de cetype.
L’épaisseur
effective de base l est donnée par :où
D.
est la constante de diffusion des électrons.Mais
si bien
qu’en
utilisant une échelle linéairepour 1
et une échelle en racinecubique
pourVc,
lespoints
figuratifs
de 1 = doivent se situer sur unedroite dont
l’extrapolation
pour Fic = 0 donnel’épaisseur
« initiale » debase lo
4).
Connaissant lo,
nous obtenons immédiatementb2
= l-- lo
pour diverses tensions collecteur. De la valeurde b2
pour1 Vcl
= 1volt,
exemple,
nous déduisons la valeur de agradient
dedopage
de lajonction
par la relation :D’autre
part
nous
permet
de calculer b à diverses tensions.Si les
hypothèses
faites en tête deparagraphe
étaientvalables,
nous devrions trouver àchaque
tension b =2b,.
Enfait,
pour les transistors réels
nous n’obtenons cette
égalité
que pour de très faibles tensions continuesappliquées
au collecteur(1 Vcl
0,5 volt).
Pour des tensionsplus élevées,
b >2b2.
Ceci conduit à penser que la barrière depotentiel
a alors débordé de larégion
àgradient
constant et s’étend en
partie
sur un« palier
» àdo-page constant.
Jonction réelle. ---
Supposons
que nous ayonsaffaire à la
jonction
schématisée à lafigure
5. Nousavons
supposé
que ledopage
du «palier
» de larégion
N(collecteur)
est sensiblementplus
faible que celuicorrespondant
de larégion
P. Pour fixerles
idées,
.Les formules
générales
donnentici,
avec lesnotations de la
figure
5 :’
La condition de continuité du
champ
aupoint
de jonction impose :
relation très intéressante entre
bl
etb2 puisqu’elle
ne
dépend
que de 8.G’est ici que nous allons faire la liaison avec la
paragraphe précécédent.
En effet si nousconsi-dérons
l’expression
deV2
donnéeci-dessus,
nousla trouvons
identique
à celle établie dans le cas dela
jonction idéalisée,
cequi
étaitprévisible.
Nous pouvons donc utiliser dans le cas
présent
laméthode
indiquée
pour lesjonctions
idéalisées.Malheureusement,
alorsqu’au
paragraphe
précé-dent,
nous avions la relationparticulièrement
simple
V =2Y2,
nous n’avons pas ici lapossibilité
connaissant V d’accéder àV2
defaçon simple.
C’estpourquoi
nousallons,
dans unpremier
temps,
comparer V et
V 2
telsqu’ils
sont définis auprésent
paragraphe,
compte
tenu de la condition de conti-nuité duchamp.
Nous arrivons à :La courbe
représentative
de cette fonction esttracée sur la
figure
6 ainsi que celle de la fonction62 A
Nous voyons que même pour un
rapport
b1/8
de 4 ou
5,
l’erreur relative faite enportant
V etnon
2V~,
en abscisse dans lafigure
4 est de l’ordre de 5%,
compte
tenu de l’échelle en racinecubique.
Nous arrivons donc au résultat
apparemment
paradoxal qu’une
théoriesimplifiée
donne unepré-cision satisfaisante même
lorsqu’on
s’écarte très sensiblement de son domaine de validité.Le
graphique
de lafigure
7 est unerécapitulation
du
présent
paragraphe.
Dans le
plan (b1, b2~,
nous avons tracé le réseaude courbes
représentatif
de la relationen
prenant 8
commeparamètre.
Nous avons
également
tracé les courbes pourlesquels
= constantequi
sont enquelque
sorte des courbes «
d’égale
erreur sur la tension »d’après
lafigure
6. Il est facile de voir que cescourbes sont des droites
passant
parl’origine.
Enfin,
nous avonsporté
sur legraphique
les courbesd’égale capacité
unitaire dejonction qui
sont des droitesbl
-~-b2
= constante.Processus
d’application
de la méthode. --a)
L’utilisation brutale du
procédé
de lafigure
4,
sans se soucier de sa validitépermet
d’accéder à unepremière approximation de la
et deb2
à diverses tensions.Compte
tenu de la valeur mesurée de pour ces mêmestensions,
nous pouvonsplacer
sur legraphique
de lafigure
7 lespoints
(bl, b2)
pour diverses tensions collecteur : cespoints
serépartissent
sur une courbe 8 = constante d’où la valeur de 8.b)
Arrivés à cepoint
del’interprétation,
nouspouvons amorcer un deuxième
cycle
d’approxi-mation :
chaque point (bl, b2)
est situé sur unecourbe «
d’égale
erreur sur la tension »,constante. En se référant à la
figure
6,
on détermin3l’erreur
qui
a été commise dans lapremière
appro-ximation en considérant V au lieu de
2V~?
cequi
donne pour
chaque
point (b1, b2)
la tension(plus
faible que dans lapremière
approximation)
qui
doit être utilisée dans leprocédé
de lafigure
4.On recommence alors le processus
indiqué
ena).
On en tire
finalement l0,
etb2
à 1 volt dont ondéduit,
à l’aide de la formulele
gradient
dedopage
a. Connaissant a et3,
onobtient le
dopage
collecteurNous avons laissé volontairement de côté le cas
où la barrière de
potentiel
débordeégalement
surla zone de «
palier }>
dedopage
de base(b2
>d).
En
fait,
si nousappliquons
la méthodedéveloppée
ici,
un désaccord commence à se manifester à la tension pourlaquelle b2
=A,
cequi
nouspermet
d’obtenir A et de remonter au
dopage
de base par PB = alY. eFinalement,
nous obtenons leprofil complet
dedopage
du transistor(mis
àpart
ledopage
d’émet-teurpris
volontairementbeaucoup plus grand
que celui de la base pour une raison d’efficacitéd’injec-tion et
qu’il
est malaisé d’obtenir par des méthodes de même nature que celle décrite pour lecollecteur).
Du fait du
dopage
élevé del’émetteur,
la jonction
correspondante
estparfaitement abrupte
( fig. 8).
Conclusion. -- La méthode
développée
au coursde cet
exposé
a donné de très bons résultats pourles mesures effectuées sur une fabrication en
petite
série de transistors BF « tirés ». Les résultats ont
pu être
comparés
à ceux obtenus par d’autres mé-thodes. Enparticulier,
nous avons trouvé un excel-lent accord avec les données defabrication,
la déter-minationoptique
del’épaisseur
de base et lesmesures de résistivité sur le cristal. D’autre
part
lesrecoupements
sont excellents avec d’autres mesuresélectriques
effectuées sur l’élément fini et enparti-culier avec la détermination de la valeur du
«
palier
» dedopage
constant de la base àpartir
deUne
expérimentation
sur d’autrestypes
detran-sistors ou éléments
complexes
à semiconducteursest actuellement en cours afin d’étendre et de
pré-ciser les conditions de validité de la méthode
pro-posée.
Remerciements. -
Ce travail a été exécuté au
Centre de Recherches de la
Compagnie
Généraled’Électricité
etdirigé
par M. Ch.Dufour,
Directeur des laboratoires semiconducteursqui
voudra bientrouver ici mes remerciements pour toute l’aide
qui
m’a étéapportée
au cours de cette étude. Annexe. -Séparation
des deuxcomposantes
Co
et Cd de la
capacité
Cb,,.Si nous
traçons
la courbeCb,e
= à une ten-sion collecteur Vfixe,
nous trouvons une droitedont l’ordonnée à
l’origine
nous donneCo.
En
effet,
Co, capacité
de transition de lajonction
émetteur base(qui est polarisée
dans le sensdirect),
ne variepratiquement
pas avec le courant collec-teur étant donné que la zone decharge d’espace
garde
uneépaisseur
à peuprès
constante.Par contre Cd varie
proportionnellement
àIc
suivant
l’expression classique :
à condition que le courant le reste faible
(inférieur
à 10 mA parexemple).
Voir ausujet
des courantsplus
élevés,
l’hypothèse
faite par Webster(article
indiqué
en référence[5]).
Manuscrit reçu le 9 janvier 1961.
BIBLIOGRAPHIE
[1] GIAGOLETTO (L. J.), R. C. A. Review, 1954, 15, 506. [2] LUSCHER (J.) et CHOQUARD (P.), Bulletin P. T. T.
Suisses, 1956, 5, 193.
[3] LUSCHER (J.) et DOME (P.), Rev. Scient. Instr., 1959,
30, 656.
[4] LAWRENCE (H.) et WARNER (R. M.), Bell Syst. Tech. J., 1960, 39, 389.
[5] WEBSTER (W. M.), Proc. Inst. Radio Engrs, 1954, 42,