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Détermination du profil de dopage en impuretés d'un transistor à partir des mesures de certaines de ses caractéristiques électriques

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Détermination du profil de dopage en impuretés d’un

transistor à partir des mesures de certaines de ses

caractéristiques électriques

J.P. Biet

To cite this version:

(2)

59 A

DÉTERMINATION DU PROFIL DE DOPAGE EN

IMPURETÉS

D’UN TRANSISTOR

A PARTIR DES MESURES DE CERTAINES DE SES

CARACTÉRISTIQUES

ÉLECTRIQUES

Par J. P.

BIET,

Ingénieur civil des Télécommunications.

Résumé. 2014 La méthode exposée consiste à déduire du tableau des variations en fonction du

courant et de la tension des éléments du schéma équivalent naturel, certains paramètres physiques tels que : résistivités de la base et du collecteur ; formes des jonctions ; épaisseur de la base.

Abstract. 2014 A method of determining

physical

parameters of a transistor (such as resistivity

of the base and the collector region, shape of the junctions, base width) is presented. This involves

measurements of hybrid-pi-parameters as a function of collector voltage and current. LE JOURNAL DE PHYSIQUE ET LE RADIUM

PHYSIQUE APPLIQUÉE TOME 22, FÉVRIER à96à,

Introduction. -- La détermination du

profil

d3

dopage

réel d’un transistor à

partir

de la

connais-sance de ses

caractéristiques électriques présente

quelques

difficultés dues à ce que les théories

habi-tuelles des

jonctions

supposent

toujours

un

profil

idéalisé

(jonction abrupte, gradient

constant ou

exponentiel,

etc...).

Nous nous sommes

proposé

d’établir un

pont

entre ces résultats connus et les

propriétés

des

jonctions

réellement obtenues en

pratique.

La méthode utilisée consiste à mesurer au

préa-lable,

pour divers

points

de

polarisation,

les deux

capacités figurant

dans le schéma

équivalent

natu-ral

proposé

par Giacoletto en 1954 pour les

transis-tors alliés

(et

dont nous avons vérifié

expérimen-talement la

parfaite

validité pour les transistors NPN au

germanium

obtenus par

tirage) ( fig,

1).

Nous

décomposons

ensuite Cb,, par la méthode

indiquée

en

Annexe,

ce

qui

nous donne

C.,

capa-cité due à la

charge d’espace

de la

jonction

émet-teur et

Cd,

capacité

apparente

de diffusion des

porteurs

minoritaires dans la base.

A une tension continue collecteur-base

V,

Cd nous

permet d’obtenir

l’épaisseur

effective de base 1

(épaisseur

de la zone

équipotentielle).

L’extrapo-lation de la courbe donnant les

épaisseurs

effectives à diverses

tensions,

nous

permet

d’obtenir

l’épais-seur à tension nulle

la,

c’est-à-dire la distance

qui

sépare

les

points

de

jonction

émetteur et collecteur.

Pour effectuer cette

extrapolation,

nous

suppo-sons dans un

premier

temps

que la

jonction

est du

type

« à

gradient

de

dopage

constant »

(jonction

« idéalisée

»).

Nous n’obtenons de cette

façon

que

des résultats

approximatifs.

Cependant,

l’examen à ce stade de la

capacité

collecteur nous

permet

de chiffrer exactement l’erreur commise lors de

l’approximation

primaire.

Une seconde

approxi-mation est alors rendue

possible, qui

nous donne

avec

précision

le

profil

exact et

complet

de la

jonc-tion collecteur.

Jonction de forme

queleonque. -

Nous nous

bornerons à

rappeler

les résultats

classiques

de

(3)

60 A

l’étude d’une

jonction

NP de forme

quelconque

(fig.

2).

Nous

appelons .N(x)

la concentration nette en

impuretés

en

chaque

point

de la zone de

charge

d’espace,

différence des concentrations en

don-neurs

(1Vd(x))

et en

accepteur (Na(x))

au

point

consi-déré.

N(x)

est

positive

dans la

région

N et

négative

dans la

région

P. Le

point

de

jonction

ou

point

intrinsèque xj

est défini par

N(xj)

= 0.

Une

première

intégration

de

l’équation

de Poisson nous donne le

champ

électrique

en tout

point

de la zone de

charge d’espace :

.

La continuité du

champ électrique

à la

jonction

impose :

(égalité

arithmétique

des deux aires

hachurées).

Une seconde

intégration

nous donne les chutes de tensions successives :

La tension totale aux bornes de la

jonction

est

égale

à V ~

V1-f- V2

0.

Enfin,

on démontre aisément que la

capacité

due à la

charge d’espace

est

égale

à celle d’un condensateur à

plaques

métal-liques

de surface

égale

à celle de la

jonction,

espa-cées de b =

bl

+

b2

et

ayant

le semiconducteur considéré comme

diélectrique

intermédiaire :

Étude

d’une

jonction

à

gradient

de

dopage

cons-tant

(jonction « idéalisée »). -

Nous supposons, dans un

premier

temps,

avoir un

profil

de

dopage

tel que celui

représenté

à la

figure

3.

L’application

des formules

générales

donne dans ce cas :

d’où

Supposons

maintenant

qu’un

transistor tiré NPN

au

germanium

ait une

jonction

collecteur de ce

type.

L’épaisseur

effective de base l est donnée par :

D.

est la constante de diffusion des électrons.

Mais

si bien

qu’en

utilisant une échelle linéaire

pour 1

et une échelle en racine

cubique

pour

Vc,

les

points

figuratifs

de 1 = doivent se situer sur une

droite dont

l’extrapolation

pour Fic = 0 donne

l’épaisseur

« initiale » de

base lo

4).

Connaissant lo,

nous obtenons immédiatement

b2

= l

-- lo

pour diverses tensions collecteur. De la valeur

de b2

pour

1 Vcl

= 1

volt,

(4)

exemple,

nous déduisons la valeur de a

gradient

de

dopage

de la

jonction

par la relation :

D’autre

part

nous

permet

de calculer b à diverses tensions.

Si les

hypothèses

faites en tête de

paragraphe

étaient

valables,

nous devrions trouver à

chaque

tension b =

2b,.

En

fait,

pour les transistors réels

nous n’obtenons cette

égalité

que pour de très faibles tensions continues

appliquées

au collecteur

(1 Vcl

0,5 volt).

Pour des tensions

plus élevées,

b >

2b2.

Ceci conduit à penser que la barrière de

potentiel

a alors débordé de la

région

à

gradient

constant et s’étend en

partie

sur un

« palier

» à

do-page constant.

Jonction réelle. ---

Supposons

que nous ayons

affaire à la

jonction

schématisée à la

figure

5. Nous

avons

supposé

que le

dopage

du «

palier

» de la

région

N

(collecteur)

est sensiblement

plus

faible que celui

correspondant

de la

région

P. Pour fixer

les

idées,

.

Les formules

générales

donnent

ici,

avec les

notations de la

figure

5 :

La condition de continuité du

champ

au

point

de jonction impose :

relation très intéressante entre

bl

et

b2 puisqu’elle

ne

dépend

que de 8.

G’est ici que nous allons faire la liaison avec la

paragraphe précécédent.

En effet si nous

consi-dérons

l’expression

de

V2

donnée

ci-dessus,

nous

la trouvons

identique

à celle établie dans le cas de

la

jonction idéalisée,

ce

qui

était

prévisible.

Nous pouvons donc utiliser dans le cas

présent

la

méthode

indiquée

pour les

jonctions

idéalisées.

Malheureusement,

alors

qu’au

paragraphe

précé-dent,

nous avions la relation

particulièrement

simple

V =

2Y2,

nous n’avons pas ici la

possibilité

connaissant V d’accéder à

V2

de

façon simple.

C’est

pourquoi

nous

allons,

dans un

premier

temps,

comparer V et

V 2

tels

qu’ils

sont définis au

présent

paragraphe,

compte

tenu de la condition de conti-nuité du

champ.

Nous arrivons à :

La courbe

représentative

de cette fonction est

tracée sur la

figure

6 ainsi que celle de la fonction

(5)

62 A

Nous voyons que même pour un

rapport

b1/8

de 4 ou

5,

l’erreur relative faite en

portant

V et

non

2V~,

en abscisse dans la

figure

4 est de l’ordre de 5

%,

compte

tenu de l’échelle en racine

cubique.

Nous arrivons donc au résultat

apparemment

paradoxal qu’une

théorie

simplifiée

donne une

pré-cision satisfaisante même

lorsqu’on

s’écarte très sensiblement de son domaine de validité.

Le

graphique

de la

figure

7 est une

récapitulation

du

présent

paragraphe.

Dans le

plan (b1, b2~,

nous avons tracé le réseau

de courbes

représentatif

de la relation

en

prenant 8

comme

paramètre.

Nous avons

également

tracé les courbes pour

lesquels

= constante

qui

sont en

quelque

sorte des courbes «

d’égale

erreur sur la tension »

d’après

la

figure

6. Il est facile de voir que ces

courbes sont des droites

passant

par

l’origine.

Enfin,

nous avons

porté

sur le

graphique

les courbes

d’égale capacité

unitaire de

jonction qui

sont des droites

bl

-~-

b2

= constante.

Processus

d’application

de la méthode. --

a)

L’utilisation brutale du

procédé

de la

figure

4,

sans se soucier de sa validité

permet

d’accéder à une

première approximation de la

et de

b2

à diverses tensions.

Compte

tenu de la valeur mesurée de pour ces mêmes

tensions,

nous pouvons

placer

sur le

graphique

de la

figure

7 les

points

(bl, b2)

pour diverses tensions collecteur : ces

points

se

répartissent

sur une courbe 8 = constante d’où la valeur de 8.

b)

Arrivés à ce

point

de

l’interprétation,

nous

pouvons amorcer un deuxième

cycle

d’approxi-mation :

chaque point (bl, b2)

est situé sur une

courbe «

d’égale

erreur sur la tension »,

constante. En se référant à la

figure

6,

on détermin3

l’erreur

qui

a été commise dans la

première

appro-ximation en considérant V au lieu de

2V~?

ce

qui

donne pour

chaque

point (b1, b2)

la tension

(plus

faible que dans la

première

approximation)

qui

doit être utilisée dans le

procédé

de la

figure

4.

On recommence alors le processus

indiqué

en

a).

On en tire

finalement l0,

et

b2

à 1 volt dont on

déduit,

à l’aide de la formule

le

gradient

de

dopage

a. Connaissant a et

3,

on

obtient le

dopage

collecteur

Nous avons laissé volontairement de côté le cas

où la barrière de

potentiel

déborde

également

sur

la zone de «

palier }>

de

dopage

de base

(b2

>

d).

En

fait,

si nous

appliquons

la méthode

développée

ici,

un désaccord commence à se manifester à la tension pour

laquelle b2

=

A,

ce

qui

nous

permet

d’obtenir A et de remonter au

dopage

de base par PB = alY. e

Finalement,

nous obtenons le

profil complet

de

dopage

du transistor

(mis

à

part

le

dopage

d’émet-teur

pris

volontairement

beaucoup plus grand

que celui de la base pour une raison d’efficacité

d’injec-tion et

qu’il

est malaisé d’obtenir par des méthodes de même nature que celle décrite pour le

collecteur).

Du fait du

dopage

élevé de

l’émetteur,

la jonction

correspondante

est

parfaitement abrupte

( fig. 8).

Conclusion. -- La méthode

développée

au cours

de cet

exposé

a donné de très bons résultats pour

les mesures effectuées sur une fabrication en

petite

série de transistors BF « tirés ». Les résultats ont

pu être

comparés

à ceux obtenus par d’autres mé-thodes. En

particulier,

nous avons trouvé un excel-lent accord avec les données de

fabrication,

la déter-mination

optique

de

l’épaisseur

de base et les

mesures de résistivité sur le cristal. D’autre

part

les

recoupements

sont excellents avec d’autres mesures

électriques

effectuées sur l’élément fini et en

parti-culier avec la détermination de la valeur du

«

palier

» de

dopage

constant de la base à

partir

de

(6)

Une

expérimentation

sur d’autres

types

de

tran-sistors ou éléments

complexes

à semiconducteurs

est actuellement en cours afin d’étendre et de

pré-ciser les conditions de validité de la méthode

pro-posée.

Remerciements. -

Ce travail a été exécuté au

Centre de Recherches de la

Compagnie

Générale

d’Électricité

et

dirigé

par M. Ch.

Dufour,

Directeur des laboratoires semiconducteurs

qui

voudra bien

trouver ici mes remerciements pour toute l’aide

qui

m’a été

apportée

au cours de cette étude. Annexe. -

Séparation

des deux

composantes

Co

et Cd de la

capacité

Cb,,.

Si nous

traçons

la courbe

Cb,e

= à une ten-sion collecteur V

fixe,

nous trouvons une droite

dont l’ordonnée à

l’origine

nous donne

Co.

En

effet,

Co, capacité

de transition de la

jonction

émetteur base

(qui est polarisée

dans le sens

direct),

ne varie

pratiquement

pas avec le courant collec-teur étant donné que la zone de

charge d’espace

garde

une

épaisseur

à peu

près

constante.

Par contre Cd varie

proportionnellement

à

Ic

suivant

l’expression classique :

à condition que le courant le reste faible

(inférieur

à 10 mA par

exemple).

Voir au

sujet

des courants

plus

élevés,

l’hypothèse

faite par Webster

(article

indiqué

en référence

[5]).

Manuscrit reçu le 9 janvier 1961.

BIBLIOGRAPHIE

[1] GIAGOLETTO (L. J.), R. C. A. Review, 1954, 15, 506. [2] LUSCHER (J.) et CHOQUARD (P.), Bulletin P. T. T.

Suisses, 1956, 5, 193.

[3] LUSCHER (J.) et DOME (P.), Rev. Scient. Instr., 1959,

30, 656.

[4] LAWRENCE (H.) et WARNER (R. M.), Bell Syst. Tech. J., 1960, 39, 389.

[5] WEBSTER (W. M.), Proc. Inst. Radio Engrs, 1954, 42,

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