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Submitted on 1 Jan 1983
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Valeur du signal de la méthode D.L.T.S. à double corrélation
A. Le Bloa
To cite this version:
A. Le Bloa. Valeur du signal de la méthode D.L.T.S. à double corrélation. Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1983, 18 (9), pp.561-564.
�10.1051/rphysap:01983001809056100�. �jpa-00245117�
Valeur du signal de la méthode D.L.T.S. à double corrélation
A. Le Bloa
Groupe d’Electronique
et dePhysique
des Matériaux, Université de Rennes I, Avenue du Général Leclerc, 35042 Rennes Cedex, France(Reçu le 23 avril 1983, révisé le 30 mai, accepté le 30 mai 1983)
Résumé. 2014 La valeur réelle du
signal
de la méthode D.L.T.S. à double corrélation est calculée ; on montrequ’il
faututiliser cette valeur du signal pour la détermination des
caractéristiques
des défauts.Abstract. 2014 The real signal of double correlation D.L.T.S. method is calculated; it is shown that it is necessary to use this signal to determine the characteristics of the defects.
Classification
Physics Abstracts 71. 55
La méthode D.L.T.S.
(Deep
Level TransientSpec- troscopy)
à double corrélation(D.D.L.T.S.),
décritepar Lefèvre et al.
[1],
estplus
intéressante que la méthode D.L.T.S. deLang [2]
pour caractériser les défauts dans les semiconducteurs. En effet ces auteurs ont montréqu’elle permet
une meilleure détermina- tion de la «signature
» et duprofil
de la concentration des défauts dans les semiconducteurs. Johnson et al.[3]
ont amélioré cette méthode en mesurant la variation de tension de
polarisation
nécessaire pour maintenir lacapacité
constante entre lesimpulsions
depolarisa-
tion
(méthode C.C.D.L.T.S.);
par la suite Johnson[4]
a décrit l’intérêt de celle-ci pour évaluer la densité
énergétique
des états à l’interface isolant-semiconduc- teur d’une diode M.I.S.L’approximation
utilisée parces auteurs
[1, 3]
pour évaluer lesignal
D.D.L.T.S.entraîne une erreur
qui peut
êtreimportante
lors de lacaractérisation des défauts. Nous nous proposons de donner ici le calcul
complet
del’amplitude
de cesignal
et d’en déduire la valeur de laprobabilité
d’émission à son maximum.
Pour mettre en oeuvre la méthode D. D. L. T. S.
on superpose
périodiquement
à lapolarisation
inversede la diode deux
impulsions
de tension de mêmedurée, d’amplitudes
différentes et décalées d’unedemi-période (polarisation : Yp 1, Vp2) (Fig. 1).
Entre ces deuximpulsions
un asservissement fait varier lapolarisa-
tion
V(t)
de la diode(la
barrière depotentiel
de celle-ciest incluse dans cette
valeur)
pour maintenir sa capa- cité constante; onpeut
mesurer ainsi deuxsignaux
D.L.T.S. :
1
Fig.
1. -Diagramme
des variations, en fonction du temps, de la capacité C(t) (a) et de la tension depolarisation V(t)
de la diode
(b)
pour la méthode D.L.T.S. où lacapacité
estmaintenue constante.
[Schematic diagrams
of variations versus time of the capaci-tance C(t)
(a)
and the biasvoltage
V(t) of the diode(b)
for theD.L.T.S. method
performed
in theconstant-capacitance mode.]
To
est lapériode
dusignal
depolarisation.
Lesignal
D.D.L.T.S. est la différence entre ces deux valeurs : c’est une fonction de la concentration
N,(x)
des défautsdans le
semiconducteur,
x étant la distance au contactSchottky.
Nousdésignons
par :-
W i, W 2, W
lalargeur
de larégion
decharge d’espace
de la dioderespectivement
à la fin de la pre- mièreimpulsion
depolarisation,
à la fin de la deuxièmeet dans l’intervalle de
temps séparant
ces deuximpul-
sions.
- xi, X2, xD les
positions
où les défauts sont àmoitié
remplis
d’électronsrespectivement
à la fin de laArticle published online by EDP Sciences and available at http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:01983001809056100
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première impulsion
depolarisation,
à la fin de la deuxième et dans l’intervalle de tempsséparant
cesdeux
impulsions.
La durée de celles-ci est souventpetite
devant la constante de temps d’émission(en 1)
des électrons par les défauts et nous situerons notre étude dans le cadre de cette
hypothèse.
Lepotentiel
auxpoints
xi et x2 n’est pas celui del’équilibre thermody- namique :
sa valeur déduite del’équation
de Poissonest la même en ces deux
points (impulsions
de mêmedurée) : (- qN D Ãi/2 e)où Ã1
=(W1 - x1) = (W2 -
X2)
avecND
concentration desimpuretés dopantes,
e constante
diélectrique
du semiconducteur et qcharge
élémentaire(l’origine
dupotentiel
estprise
aucontact
ohmique
dusemiconducteur).
Aupoint
xDl’équilibre thermodynamique
est sensiblementatteint,
lepotentiel
à cepoint
est alors voisin de :où À = W - xD. Pour déterminer le
profil
des défauts il faut évaluer xl et X2 c’est-à-dire03BB1;
ce calcul a étéeffectué par Pons
[5]
dans le casen tp
1(tp
=T ° -
t oest
la durée desimpulsions
depolarisa- tion) :
longueur
deDebye extrinsèque;
onnotera que 03BB1, dépendant
seulementde en
ettp,
a même valeur pour les deuximpulsions
depolarisation :
les valeurs de x, et x2 varierontlégèrement
avec latempérature
maisleur différence
(x2 - x l )
=( W 2 - W 1 )
sera cons-tante.
La densité
volumique p(x, t)
descharges électriques
dans la
charge d’espace
de la diode est donnée dans le tableau 1 pour les intervalles de temps]0, to[
et](To/2), 7"o/2)
+to[; to
est la durée entre deuximpulsions
cor tension successives. Ce tableau suppose
qu’il s’agit
d’un semiconducteur de type n
(cas
de laFig. 2).
Dans ce tableau
n,(x, t)
est la concentration(à
ladistance x et à l’instant
t)
des défautsremplis
d’élec-trons et l’on considère
qu’à
la fin de lapremière
et de ladeuxième
impulsion
depolarisation :
Cette
répartition
descharges électriques
diffère decelle
qu’utilisent
Lefèvre[1] et
Johnson[3]
parl’expres-
sion de la densité
volumique
des défauts dans larégion
xi x x2 dans l’intervalle detemps ](To/2), ( To/2)
+to [ ; en
effet ces défauts ne sontremplis
d’électrons que par la
première impulsion
de tension(polarisation Yp 1 )
mais ils réémettent ces électronspendant
tout l’intervalle]0, (To/2)
+t0[
et non dansFig.
2. -Diagramme,
en fonction de la distance x au contactSchottky,
des bandes deconduction Ec
et de valence Ev ; xi, x2, xD sont lesdistances
respectives où le niveaud’énergie Et
du défaut coupe lequasi-niveau
de Fermi EF pendant la première, la deuxième impulsion de tension depolarisation
et entre ces impulsions.[Schematic
diagram versus the distance from theSchottky-
contact of the conduction
(Ec)
and valence(Ev)
bands ;xi, X2, xD are the
respective
distances where the trap levelEt
intersects the quasi-Fermi energy
EF.]
la
première demi-période
seulement comme les auteursprécédents
lesupposent
On notera que pour x2 x xp les densitésvolumiques
descharges
dans les deux intervalles de temps considérés dans le tableau sontégales lorsque t
dans lepremier
intervalle estégal
àt -
T o/2
du deuxième intervalle.Lorsque
l’émissiondes électrons est
prépondérante
parrapport
à leurcapture, on déduit de
l’équation
de continuité que :L’expression
de la tension depolarisation Y(t)
estdéduite de
l’équation
dePoisson;
elle a été calculée par Crowell et al.[6], soit,
en considérantND
commeconstante.
La valeur du
signal
D.D.L.T.S. déduite deséquations précédentes
est alors :Par
rapport
àl’expression
dusignal
D.D.L.T.S. de Johnson[3]
ilapparaît
dans S un facteur correctif(1
-exp(- en T,/2»; le signal S(7)
est maximumlorsque
la dérivée de la fonctionS,
=[exp(- en 11) - cxp(- en t2)] [1 - cxp(- en To/2)]
parrapport à en
est
nulle de. :0
0 pour toutetempérature
finiesoit :
La résolution
numérique
de cetteéquation permet
d’obtenir la valeur em de laprobabilité
au maximumS1m
deS,.
Pourexploiter
leurs résultatsexpérimen-
taux Lefèvre
[1]
et Johnson[3]
utilisent la valeurem
=(t2 - t1)-1
ln(t2/ti)
de laprobabilité
d’émis-sion au maximum
Sm
dusignal
D.L.T.S. normaliséde
Lang [2] :
Pour montrer l’erreur introduite par cette
approxima-
tion nous
présentons (Fig. 3)
les variations des rap-Fig.
3. - Variations, en fonction de(tl/To)
pour diffé- rentes valeurs det2ltl’
des rapports(emle:)
desprobabilités
d’émission et
(S1m/S*m)
desamplitudes
des signaux D.D.L.T.S.et D.L.T.S. normalisés. em et S lm sont évalués au maximum
du signal D.D.L.T.S. et
e*m, Sm
au maximum du signalD.L.T.S. de Lang.
[Variations
versus(tl/7-,),
at different values oft2ltll
of theemissions
probabilites
ratios(em/e*m)
and theamplitudes
ratios
(8 lml S:)
of the normalized D.D.L.T.S. and D.L.T.S.signals. em and Slm are the values at the maximum of the D.D.L.T.S. signal,
e*m
andS*m
the values at the maximum of the Lang D.D.L.T.S.signal.]
564
ports
(emle;’) = f(t1/T0)
et(S1m/S*m) = f(t1/T0) (re- présentation semilogarithmique)
pour les valeurs de(t2ltl)
=2, 5,
10. L’erreur sur lerapport (em/e*m)
estplus importante
que celle sur lerapport Sm/S:;
ceserreurs diminuent
lorsque
la valeur de(t2/ti)
aug- mente ; dans les conditions lesplus
défavorables : t2 =T o/2 (on
suppose que la durée desimpulsions
de
polarisation
estnégligeable
devant(To))
et(t2ltl)
=2,
l’erreur peut atteindre 35%
sur(e/e*m)
et
20 %
sur(Sm/S;’).
Pour une détermination exacte du
profil
de laconcentration des
défauts,
de laprobabilité
d’émissionet de son
énergie d’activation,
il est donc nécessaired’utiliser la vraie valeur du
signal
D.D.L.T.S.Bibliographie
[1] LEFEVRE, H. et SCHULZ, M., Appl. Phys. 12 (1977) 45.
[2] LANG, D. V., J.
Appl.
Phys. 45 (1974) 3023.[3] JOHNSON, N. M., BARTELINK, D. J., GOLD, R. B., GIBBONS, J. F., J.
Appl. Phys.
50 (1979) 4828.[4] JOHNSON, N. M.,
Appl. Phys.
Lett. 34 (1979) 902.[5] PONS, D., Thèse, Paris
(1979),
25.[6] CROWELL, C. R., ALIPANAHI, S., Solid State Electron.
24 (1981) 25.