Conditions expérimentales

Les conditions expérimentales d'élaboration des couches de ZnO sont représentées sur le tableau suivant:

La solution Acétate de Zinc + Méthanol

L' amplitude d' onde (%) 20 30 35 40 50 60 70 Température du substrat

(°C)

400

La molarité (mol/L) 0,1

La quantité de la solution (ml)

30

Distance Bec-Substrat (cm) 4

Temps de depot (min) 10

II.6. Procédure du dépôt:

La procédure du dépôt vient tout de suit après la préparation des substrats et des solutions et se présente en plusieurs étapes:

On place le porte substrat au dessus d'une résistance dont l'alimentation est reliée à un régulateur de température. Pour éviter le choc thermique des substrats et le

25

porte substrats est chauffé progressivement de la température ambiante jusqu'à la température choisie pour les dépôts (400°C). Lorsque le chauffage est réalisé, on fixe le débit de la solution, l'amplitude de l'onde sonore et le type de pulsation (dans notre travail nous avons utilisé des pulsations continues).

Des gouttelettes très fines sont pulvérisées sur le substrat chauffé qui provoque, par pyrolyse, l'activation de la réaction chimique entre les composés, le dissolvant s'évapore en raison de la réaction endothermique des deux composés formant la couche mince.

Pendant le processus pyrolytique, la réaction suivante a lieu [43]:

En fin du processus de dépôt, on arrête le chauffage et on laisse les substrats se refroidir au dessus du porte substrat jusqu'à la température ambiante, afin d'éviter les chocs thermiques qui risquent de casser le verre, ensuite on récupère nos échantillons.

Les films déposés étaient transparent et bon adhérent aux substrats de verre.

II.7. Les paramètres modulables:

Il est important de citer les paramètres expérimentaux qui sont modulables et qui peuvent influencer la cinétique de croissance des couches, donc leurs propriétés.

La méthode spray ultrasonique est un processus de dépôt qui dépend des divers conditions telles que:

• Les propriétés du précurseur • La concentration de la solution • La distance entre le bec et le substrat

• Le temps de dépôt et la température du substrat (ces derniers restent les principaux paramètres influents sur la qualité de la couches).

Dans ce travail, nous avons fixé tous les paramètres dépendant en la concentration de solution (0.1M), le temps de dépôt (10mn), la température de substrat Ts (400°C), et la distance entre l’atomiseur (bec) et la surface du substrat (4cm), et on varie un seul paramètre l’amplitude d’onde ultrasonique.



_{3 2}

 2

₃

2 2 

_{3 3}



₂

2

₂

2 Zn CH COO  CH OH  ZnO  CH COCH  H  O

26

II.8. Les techniques de caractérisations:

L’oxyde de Zinc (ZnO) est un matériau très sensible aux conditions de préparation. Par conséquent il ne suffit pas de réaliser un banc de dépôt, aussi sophistiquée soit elle, pour être certain d’obtenir un matériau ayant de bonnes propriétés optoélectroniques. Un réel travail d’optimisation est nécessaire pour définir les meilleures conditions de préparation, ce qui exige une analyse systématique (statistique) des propriétés structurales, morphologiques, optiques et électriques du matériau élaboré [5].

Après le dépôt des films, il est nécessaire d’effectuer différentes caractérisations, servant à observer l’influence des paramètres de dépôt et de les optimiser. C’est dans ces buts que ces couches ont été analysées par différentes techniques de caractérisations des matériaux. Parmi ces techniques se trouves:

II.8.1. mesure des propriétés structurales

II.8.1.1 Diffraction des rayons x:

La diffraction des rayons X est une méthode privilégiée pour caractériser les films minces, car elle permet d’avoir des informations sur les directions de croissance cristallographique des couches de ZnO [44- 45-46].

Lorsqu’un faisceau de rayons X monochromatique est dirigé sur un matériau poly cristallin, il est en partie réfléchi par les plans atomiques de certains cristaux.

Pour la diffraction des photons X soit mesurée, l’incidence de faisceau par rapport aux plans atomiques doit avoir lieu sous un angle particulier. Comme il est illustré à la figure (II.4).Il faut en effet que les ondes réfléchies soient en phase de sorte à l’interférer de manière constructive pour ensuite être mesurées par le détecteur.

pour la diffraction des rayons X )

27

Les conditions nécessaires à cette interférence constructive sont données par la loi de Bragg:

2. d.sinθ = n λ

(II.1)

Où d est la distance interéticulaire séparant les plans définis par les indices de Miller (h, k et l), θ l’angle d’incidence et donc de réflexion par rapport à ces plans et, enfin, λ la longueur d’onde des photons X.

Le diffractogramme est un enregistrement de l’intensité diffractée en fonction de l’angle θ formé avec le faisceau direct. L’étude de diffractogramme permet de remonter à un grand nombre d’informations sur les caractéristiques structurales et microstructurales de l’échantillon telles que les structures cristallines, la taille des cristallites, les taux des défauts structuraux, les macros et micros contraintes et la présence d’une texture.

Les positions angulaires des raies de diffraction sont caractéristiques des paramètres du réseau cristallin. L’étude de positions des raies de diffraction permet donc de remonter au réseau cristallin de chacun de phase cristallisée de l’échantillon.

Une fois le réseau déterminé, les positions angulaires des raies permettent de calculer les distances interréticulaires des plans atomiques diffractant et ainsi d’accéder aux paramètres de maille.

Les positions et intensités des raies de diffraction de la plupart des matériaux connus ont été étudiées et elles sont répertoriées dans des bases de données. La comparaison d’un diffractogramme expérimental avec ces données permet de retrouver la nature de chaque phase constructive de l’échantillon [5].

Les études de l’état cristallin et des phases présentes ont été faite de manière systématique sur toutes les couches. Ces études ont été réalisées par diffraction des rayons X, à l’aide d’un diffractomètre: BRUKER – AXS type D8 Advance qui se trouve à l’université de Biskra.

28

Figure II.5: diffractomètre BRUKER D8 ADVANCE AXS (XRD)

Les rayons X ont été produits à partir d’une source de radiation CuK _ à anode en cuivre ayant une longueur d’onde de λ= 1, 54183 A°. Le spectre de diffraction des rayons X (XRD) d’une poudre de ZnO stochiométrique standard, selon la table ASTM 36-1451, est présenté sur la figure (II.6). C’est sur ce spectre de diffraction, propre au ZnO, que nous nous sommes basée pour identifier les différents pics de diffraction mesurés sur nos échantillons de ZnO.

Figure II.6: Spectre de diffraction des rayons X (XRD) par une poudre de ZnO stochiométrique (ASTM 36- 1451)

29

Le décalage des pics par rapport à la position théorique peut créer des problèmes pour l’identification des phases, mais cela peut aussi être une source d’information sur les caractéristiques physiques de l’échantillon.

II.8.1.2. Détermination des contraintes et de la taille des grains:

Il est possible, à partir des spectres de diffraction, de calculer la taille de cristallites. Plusieurs paramètres peuvent affecter de manière considérable la largeur des pics de diffraction. Parmi ces paramètres on peut citer:

a/ taille des grains :

La taille des grains des différents échantillons a été déterminée tout abord à partir des spectres des diffractions. Afin de s’assure de ces valeurs de taille de grains de nos films, nous avons utilisé la relation de Scherrer [44-45]:

 

hkl hkl

D  

 cos .

. 94 , 0

 

(II.2)

Où: D est la taille des grains ([D] = nm), λ est la longueur d’onde du faisceau de rayon X, θ est l’angle de diffraction et Δθhkl est la largeur à mi-hauteur exprimée en radian [47].

Figure II.7: Illustration montrant la definition de (Δθhkl= β) à partir de la courbe de diffraction des rayons X

30 b/ Détermination des contraintes :

Les contraintes, ce sont les forces internes à la matière. Si chaque cristallite est soumis à une contrainte différente, on a alors une juxtaposition de pics voisins qui se superposent. Si ces forces induisent des déformations de la maille cristalline (dé-formatin élastique), elles vont faire varier les distances interréticulaires d, et donc décaler la position des pics. Si l'on mesure le décalage des pics, on peut donc en déduire l'état de contrainte de l'échantillon. Ces contraintes internes peuvent être sources d'imperfection [3].

L’enregistrement du spectre de l’échantillon nous permettra de déterminer les paramètres de maille. En effet à chaque angle de diffraction correspond un plan réticulaire (h, k, l) et une distance d par la formule de Bragg. Or nous savons que pour une maille, il existe une relation reliant les plans (h, k, l) et la distance interréticulaire d’intervenir les paramètres de maille de l’échantillon [5].

Dans notre cas il s’agit de la maille hexagonale du ZnO dont l’expression est donnée sous la forme suivante:

(II.3)

a et c étant les paramètres de maille.

De cette formule, on peut déterminer le paramètre c en prenant dans la mesure du possible les plans pour lesquels h=k=0, l=2.

La mesure des paramètres de maille donnera une indication sur l’état de

contraintes des couches déposées si les comparaisons aux valeurs théorique c0= 5.205A° paramètre de maille de ZnO [5].

Les contraintes internes peuvent être calculées à partir des expressions suivantes:

31 formules, nous avons utilisé respectivement les valeurs 209, 7 - 121,1 - 105,1 et 210,9 GPa [6].

II.8.1.3. Mesure de l’épaisseur par MEB:

On peut mesurer l'épaisseur des couches minces directement à partir la micrographie MEB (Joel, modèle JSM 6301F) qui se trouve à l’université de Rennes1, à l'aide d'un logiciel qui s'appelle Visiomètre.

Figure II.8: Microscope Electronique à Balyage (MEB).

La microscopie électronique à balayage (MEB) est parmi les différentes techniques la plus performantes pour l'observation de la texture et de l'étude de la qualité optique de la surface des couches minces. Cette technique non destructive et perme des observations superficielles avec une résolution de quelques nanomètres et une profondeur de champ très importante. Son grand avantage la diversité des informations fournies.

Son principe est basé sur l'intéraction électron-matière qui résulte du bombardement de l'échantillon par un faisceau électronique. Ce dernier est

32

généralement produit par un canon à électron porté à une tension élevée (quelque dizaine de kV).

Figure II.9: Schéma du montage d'un Microscope Electronique à Balayage (MEB)

La surface de l'échantillon est balayée ligne par ligne par un faisceau d'électrons à l'aide d'un système de lentilles électroniques. Le diamètre du faisceau varie de 30 à 200 Å suivant la tension d'accélération appliquée sur les électrons [3].

Les images obtenues par le MEB nous permet de mesurer directement l’épaisseur de nos couches (figure II.10).

33

Figure II.10: Mesure directe de l’épaisseur de la couche de ZnO à partir de l’image obtenue par MEB.

II.8.2. Mesure des propriétés optiques:

L’oxyde de zinc présente des propriétés optiques intéressantes pour plusieurs applications, aussi l’aspect le plus important d’une caractérisation de couche mince est l’étude de ses propriétés optiques.

Les méthodes optiques permettent de caractériser un grand nombre de paramètre. Elles présentent l'avantage sur les méthodes électriques d'être non destructives et de ne pas exiger la réalisation, toujours délicate, de contacts ohmiques.

II.8.2.1. La spectroscopie UV-visible-NIR:

L'instrument utilisé pour la spectroscopie ultraviolet-visible-NIR est appelé Spectrophotomètre. Il mesure l'intensité de la lumière (I) passant au travers d'un échantillon et la compare à l'intensité de la lumière avant ce passage (Io). Le rapport I / Io est appelé transmittance, et est habituellement exprimé comme un pourcentage (T%) [48]. Dans notre cas nous avons utilisé un spectrophotomètre enregistreur à double faisceaux, qui offrant les possibilités les plus étendues (par apport La spectrophotomètre monofaisceau), dont le schéma de principe est donné en figure II.11, le faisceau issu de la source est dédoublé de façon à pouvoir traverser l’échantillon et la référence. Ce type de montage optique permet de comparer directement, à même longueur d’onde, les intensités lumineuses transmises par la référence et par l’échantillon. Le spectre d’absorption du composé analysé est alors

34

déterminé par calcul du rapport de ces intensités. Le dédoublement du faisceau est obtenu grâce à deux miroirs tournants en forme de secteurs.

Figure II.11: Principe d’un spectromètre UV-visible Où:

D: détecteur E: échantillon M: miroir

MT: miroir à secteur tournant R: référence

Par ce spectrophotomètre nous avons pu tracer des courbes représentant la variation de la transmittance en fonction de la longueur d’onde dans le domaine UV-visible-NIR (200-3000nm).

35

0 200 400 600 800 1000 1200 1400 1600 1800 2000 2200 0

20 40 60 80 100

transmission(%)

longueur d'onde(nm)

Figure II.12: Variation de la transmittance de film de ZnO en fonction de la longueur d’onde.

En utilisant ces courbes, on peut calculer le seuil d’absorption optique, le coefficient d’absorption, l’indice de réfraction, le gap optique et l’énergie d’Urbach.

Si l'épaisseur d est uniforme (la couche est épaisse d’une part et lisse d’autre part), les phénomènes d'interférences (entre la surface inférieur en contact avec le substrat et la surface de la couche) donnent lieu à un spectre en transmission tel que celui présenté sur la figure II.12.

On a signalé que le spectre de transmittance contient des franges d’interférences. Ces franges qui apparaissent dans le spectre sont utilisées pour calculer les constantes optiques du dépôt.

36

T_M1

Tm

λ2 λ1

Figure II.13 : Méthode des franges d'interférences (méthode d’enveloppe) pour la détermination de l'épaisseur

Pour cela nous avons utilisé un spectromètre de transmission: un spectromètre UV-VIS-NIR de l’Université Rennes1 en France (PerkinEmer LAMBDA1050) a double faisceau l’un pour la référence (le verre) et l’autre pour l’échantillon (le verre-la couche) ; verre-la gamme spectrale s’étend de verre-la longueur d’onde



=190 nm (UV) à 3000nm (NIR).

Les spectres obtenus donnent la variation de la transmittance en pourcentage (%) en fonction de la longueur d’onde (nm).

II.8.2.2. Détermination de l'épaisseur:

La couche mince d'épaisseur d a un indice de réfraction n. Le substrat transparent dont l'épaisseur est très supérieur à d, a un indice de réfraction s et un coefficient d'absorption α_s = 0. L'indice de l'air est n₀ = 1, (figure II.14).

T_{M 2}

Longueur d’onde Transmittance

37

Figure.II.14: Système d'une couche mince absorbante sur le substrat transparent T est la transmission, α est le coefficient d’absorption du film,



est la longueur d’onde de la lumière incidente, n et s sont les indices de réfraction du film et de substrat respectivement et d représente l’épaisseur du film.

38

II.8.2.3. Détermination de l'indice de réfraction:

L’indice de réfraction n de film est déterminé par les relations [5]:



1²,2 ²



^{12 12}

n: l’indice de réfraction de la couche.

TM: la transmittance maximale.

Tm: la transmittance minimale.

Nous avons utilisé, dans notre travail, un substrat en verre qui a un indice de réfraction S=1.45.

II.8.2.4 Détermination des coefficients d’absorption:

A partir du spectre de transmission d’une couche on peut calculer le coefficient d’absorption α, en utilisant les deux relations suivantes:

T: transmission mesurée, en (%).

II.8.2.5 Détermination de la largeur de la bande interdite et de l’énergie d’Urbach:

La détermination du gap optique est basée sur le modèle proposé par Tauc [6], où Eg est relié au coefficient d'absorption α par:

 ^{ h } 

²

^{ A}  ^{h   E}

_g



(II.10)

e

d

T 

^

39 l’exemple de la figure II.15.

3,1 3,2 3,3 3,4 3,5 3,6

Figure II.15: Détermination du gap d’énergie par l’extrapolation à partir de la variation de



h



² en fonction de (hν) pour une couche minces de ZnO.

Un autre paramètre important qui caractérise le désordre du matériau est l’énergie de queue d’Urbach. D’après la loi d'Urbach l'expression du coefficient d'absorption est de la forme:

 

En traçant (lnα) en fonction de (hν), on peut accéder la valeur de (Eu).

40 II.8.2.6 L’ellipsométrie:

L’ellipsométrie est une technique optique d’analyse de surface fondée sur la mesure du changement de l’état de polarisation de la lumière après réflexion sur une surface plane [49]. Ce technique nous permet de calculer l'épaisseur et l'indice de réfraction de la couche de ZnO.

Le faisceau source monochromatique (laser He/Ne=632,8nm) étant partiellement polarisé, commence par la dépolariser en la faisant passer à travers un polariseur circulaire puis un polariseur qui permet définir un plan de polarisation. Ce faisceau traverse ensuite une lame biréfringente en rotation ce qui permet d'obtenir une lumière modulée en phase. Le faisceau réfléchi par l'échantillon passe à travers un analyseur son intensité est ensuite mesure à l'aide d’un photodétecteur.

II.8.3. Mesure des propriétés électriques:

Ces méthodes ont été menées pour déterminer ou calculer la résistance R, la résistivité



et on déduire la conductivité



dans nos films.

Pour cela nous avons utilisé:

II.8.3.1. La technique de deux pointes:

Cette méthode est basée sur la loi d’Ohm. On a appliqué des différents potentiels à nos couches de ZnO et puis mesuré le courant électrique qui les traversent.

La caractérisation électrique de la couche intrinsèque, nécessite dans le cas le plus simple. Sur un substrat en verre, nous avons déposé par pulvérisation deux électrodes métalliques en or séparées par une distance interélectrodes valant 2mm (figure II .16). Deux électrodes métalliques entre les quelles un champ électrique externe oriente les porteurs vers une direction bien déterminée. Le résultat est un courant de conduction qui varie en fonction de la tension de polarisation appliqué entre les électrodes. Ces dernières, dans un même plan, donnent une structure appelée coplanaire.

La mesure de la pente de la caractéristique courant-tension conduit à la valeur de la résistance, à partir de la loi d’hom:

V= RI (II.12)

41 I: le courant qui passe entre les points.

R: la résistance de la couche.

Cette loi représente une variation linéaire entre le courant et la tension.

Figure II.16: Schéma électrique du système deux pointes.

II.8.3.2.Mesure de la conductivité:

Les mesures électriques que nous avons effectuées sont principalement des caractéristiques courant-tension (I (V)). En variant la tension de polarisation de 0-40V, le courant qui circule dans l'échantillon est mesuré à l'aide d'un micro-ampermétre qui peut mesurer des courants jusqu'à

10

^12A. Ces courbes nous servirons pour calculer la résistance de notre couche à partir de la pente de la courbe linéaire I (V) (figure II.17). Le calcul de la conductivité électrique dépend de la résistance électrique, R, de la couche, ainsi que des paramètres géométriques: distance inter-électrodes L, l'épaisseur d, et W la hauteur de l’electode.

La conductivité σ, est reliée à ces paramètres par la relation suivante:

42

 

 



 



 



 

R S

L 1

 .

(II.13)

Avec: S=W. d

0 ,0 0 ,5 1 ,0 1 ,5 2 ,0 2 ,5

0 5 1 0 1 5 2 0

I(mA)

V (volt)

Figure II.17: Exemple d'une caractéristique courant-tension, pour la détermination de la résistance électrique du film.

Chapitre III:

Résultats et discussions

43 Introduction:

Dans ce chapitre nous présentons et discutons les résultats obtenus dans les films préparés par la technique de spray ultrasonique, et nous avons étudies l'influence de l'amplitude d'onde ultrasonique sur les différentes propriétés structurales, optiques et électriques de couches minces d'oxyde de zinc (ZnO).

III.1. Taux de croissance:

On a mesuré l'épaisseur des couches minces directement à partir des images du MEB, avec un logiciel qui s'appelle Visiomètre (voir le chapitre II).

Sur la figure III.1 nous avons rapporté la variation de taux de croissance (V=d/t) en fonction de différente amplitude d'onde ultrasonique.

2 0 3 0 4 0 5 0 6 0 7 0

1 0 1 5 2 0 2 5 3 0 3 5 4 0 4 5 5 0

Taux de croissance(nm/min)

L 'am p litu d e(% )

Figure III.1: La variation de taux de croissance des couches de ZnO en fonction d'amplitude d'onde ultrasonique

On remarque dans le premier partie quand l'amplitude augmente, les gouttes deviennent très fines qui resulte la réaction chimique et forment la couche mince, en effet le taux de croissance augmente.

La 2^ème partie: la continuité d'augmentation de l'amplitude oriente que la taille des gouttes se diminuées par conséquent le poids des gouttes devient légère. Dont la

44

température joue un rôle très important dans l'évaporation des gouttes donc le taux de croissance se baisse [14-50].

III.2. Propriétés structurales:

Pour déterminer la cristallite et l'orientation des couches élaborées, nous avons utilisé la diffraction des rayons X. Les figures suivantes, montrent les différents pics caractéristiques de la structure d'oxyde de Zinc pour une température constante à 400 °C et avec différentes amplitudes d’onde ultrasonique.

15 20 25 30 35 40 45 50 55 60

45

Figures III.2. : Evolution des spectres de diffraction des rayons X des couches minces de ZnO en fonction d'amplitude d'onde ultrasonique.

Dans l'ensemble des films, on observe plusieurs directions de croissance:

(100), (002) et (101), mais le pic le plus intense est cèle relatif à l'orientation (002) qui correspond à la structure de Wurtzite des films. Ce résultat découle du fait que le plan (002), perpendiculaire à la surface du substrat, observé autour de 35°, est le plan qui exigé la plus faible énergie de formation [49-53].

III.2.1. Taille des grains:

Pour déterminer la taille des grains et les contraintes de nos échantillons, On exploités les spectres de diffractions des rayons X (comme on a vu dans la chapitre II). La taille moyenne de cristallite de l’échantillon est évaluée au moyen de la formule de Scherer [51-52]:

46 des rayons X, et l’angle de diffraction lié au pic (002).

Sur la figure (III.3) nous avons rapporté la variation de la taille des grains en fonction de différente amplitude d'onde ultrasonique.

2 0 3 0 4 0 5 0 6 0 7 0

Figure III.3: Evolution de la taille des grains des couches de ZnO avec la variation

Figure III.3: Evolution de la taille des grains des couches de ZnO avec la variation

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