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Développement de procédés plasma pour l'élaboration et la caractérisation du silicium photovoltaïque : dépôt de couches minces épitaxiées de silicium par PECVD : mesure de la pureté du silicium à l'état solide ( 20°C) et liquide (1414°C) par LIBS

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Academic year: 2021

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Figure 1. 1 : Évolution de la puissance mondiale cumulée de modules photovoltaïques installés [10]
Figure 1. 2 : Évolution de la puissance annuelle installée dans le monde [12]
Figure 1. 4 : Efficacité de conversion d’énergie solaire des cellules photovoltaïques de 1976 à 2014 [11]
Figure 1. 7 : Effet de la concentration en impuretés sur le rendement photovoltaïque d’une cellule de sili- sili-cium monocristallin [24]
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INTRODUCTION SUR LES COUCHES MINCES Purification du silicium Etude de la décomposition du silane par plasma RF Influence des paramètres sur le dépôt par PECVD Phénomènes physiques mis en jeu lors de l’analyse LIBS Paramètres de l’analyse spectroscopique du plasma Analyse du bore dans le silicium solide CONCLUSION

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